System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种密封件安装系统及方法技术方案_技高网

一种密封件安装系统及方法技术方案

技术编号:40459969 阅读:4 留言:0更新日期:2024-02-22 23:15
本发明专利技术提供了一种密封件安装系统及方法,适用于半导体干法刻蚀设备中的静电吸盘密封圈的安装;所述密封件安装系统包括:导向治具,用于对所述静电吸盘的密封圈进行处理;所述导向治具的上表面设有截面形状与所述密封圈截面形状吻合的沟槽;所述导向治具的上表面设有可活动的挡板,用于遮挡所述沟槽顶部开口;按压治具,用于将经过导向模块处理过后的密封圈按压进所述静电吸盘上的安装槽;所述按压治具包括光滑面和设有一圈凸出结构的凸出面。本发明专利技术的密封件安装系统及方法,结构精简,能够有效解决密封圈在安装过程中发生扭转、难以与安装槽紧密贴合等问题,实现了对密封圈的快速有效安装。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电气元件密封工艺领域,尤其涉及一种密封件安装系统及方法


技术介绍

1、在半导体干法刻蚀设备中的静电吸盘(esc)上,侧面安装槽需要安装密封圈来保护静电吸盘内部不被等离子破坏。然而,密封圈产品的高度尺寸比沟槽的开口尺寸大,导致产品安装的时候非常困难。此外,吸盘安装槽在中间且两边无遮挡,密封圈在安装时很难被固定在安装槽位置,增加了安装难度,且密封圈截面是矩型的,安装时由于摩擦力等因素会使密封圈出现旋转的现象,更增加了密封圈的安装难度。

2、因此,有必要开发一种密封件安装系统及方法,以实现对密封圈的快速有效安装。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种密封件安装系统及方法,以实现对密封圈的快速有效安装。

2、第一方面,本专利技术实施例提供一种密封件安装系统,适用于半导体干法刻蚀设备中的静电吸盘密封圈的安装;所述密封件安装系统包括:

3、导向治具,用于对所述静电吸盘的密封圈进行处理;所述导向治具的上表面设有截面形状与所述密封圈截面形状吻合的沟槽;所述导向治具的上表面设有可活动的挡板,用于遮挡所述沟槽顶部开口;

4、按压治具,用于将经过导向模块处理过后的密封圈按压进所述静电吸盘上的安装槽;所述按压治具包括光滑面和设有一圈凸出结构的凸出面。

5、优选的,所述按压治具为圆柱体,所述光滑面与凸出面从上到下依次设置在所述圆柱体的弧形侧壁上,所述凸出结构距所述圆柱体底部的距离与所述安装槽的高度相对应。

6、优选的,所述导向治具的高度与所述静电吸盘上的安装槽的高度相对应。

7、优选的,沿垂直于所述导向治具的上表面的第一方向,所述导向治具具有与所述静电吸盘弧度一致的内壁。

8、进一步优选的,沿垂直于所述导向治具的上表面的第一方向,所述导向治具还具有与所述静电吸盘弧度一致的外壁。

9、优选的,所述按压治具为圆柱体,所述沟槽的截面尺寸大于所述密封圈的截面尺寸,所述凸出结构的宽度小于所述安装槽的宽度,所述凸出结构的厚度小于所述安装槽的深度。

10、优选的,所述可活动的挡板为推拉活动或翻转活动。

11、优选的,所述导向治具以及按压治具的材质为聚四氟乙烯或特种塑料。

12、第二方面,本专利技术提供一种密封件安装方法,采用所述第一方面任一项所述的密封件安装系统,包括以下步骤:

13、将密封圈放入所述导向治具的沟槽内,关闭所述挡板;

14、将所述密封圈套装在所述静电吸盘上,滑动所述导向治具;

15、通过所述按压治具的光滑面将所述密封圈按压进所述静电吸盘上的安装槽内;

16、通过所述按压治具的凸出面按压所述密封圈,使其与所述静电吸盘的安装槽紧密贴合。

17、优选地,所述按压治具围绕所述静电吸盘滚动按压所述密封圈。

18、本专利技术提供的一种密封件安装系统及方法,通过滑动导向治具能够将扭转的密封圈回转矫正,并将密封圈的位置导向静电吸盘的安装槽,继而通过按压治具的光滑面将密封圈完全按压进安装槽内,再倒置按压治具,用凸出面按压密封圈,保证密封圈可安装紧致贴合安装槽。

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【技术保护点】

1.一种密封件安装系统,其特征在于,适用于半导体干法刻蚀设备中的静电吸盘密封圈的安装;所述密封件安装系统包括:

2.如权利要求1所述的密封件安装系统,其特征在于,所述按压治具为圆柱体,所述光滑面与凸出面从上到下依次设置在所述圆柱体的弧形侧壁上,所述凸出结构距所述圆柱体底部的距离与所述安装槽的高度相对应。

3.如权利要求1所述的密封件安装系统,其特征在于,所述导向治具的高度与所述静电吸盘上的安装槽的高度相对应。

4.如权利要求1所述的密封件安装系统,其特征在于,沿垂直于所述导向治具的上表面的第一方向,所述导向治具具有与所述静电吸盘弧度一致的内壁。

5.如权利要求4所述的密封件安装系统,其特征在于,沿垂直于所述导向治具的上表面的第一方向,所述导向治具还具有与所述静电吸盘弧度一致的外壁。

6.如权利要求1所述的密封件安装系统,其特征在于,所述沟槽的截面尺寸大于所述密封圈的截面尺寸,所述凸出结构的宽度小于所述安装槽的宽度,所述凸出结构的厚度小于所述安装槽的深度。

7.如权利要求1所述的密封件安装系统,其特征在于,所述可活动的挡板为推拉活动或翻转活动。

8.如权利要求1所述的密封件安装系统,其特征在于,所述导向治具以及按压治具的材质为聚四氟乙烯或特种塑料。

9.一种密封件安装方法,采用所述权利要求1-8任一项所述的密封件安装系统,其特征在于,包括以下步骤:

10.如权利要求9所述的密封件安装方法,其特征在于,所述按压治具围绕所述静电吸盘滚动按压所述密封圈。

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【技术特征摘要】

1.一种密封件安装系统,其特征在于,适用于半导体干法刻蚀设备中的静电吸盘密封圈的安装;所述密封件安装系统包括:

2.如权利要求1所述的密封件安装系统,其特征在于,所述按压治具为圆柱体,所述光滑面与凸出面从上到下依次设置在所述圆柱体的弧形侧壁上,所述凸出结构距所述圆柱体底部的距离与所述安装槽的高度相对应。

3.如权利要求1所述的密封件安装系统,其特征在于,所述导向治具的高度与所述静电吸盘上的安装槽的高度相对应。

4.如权利要求1所述的密封件安装系统,其特征在于,沿垂直于所述导向治具的上表面的第一方向,所述导向治具具有与所述静电吸盘弧度一致的内壁。

5.如权利要求4所述的密封件安装系统,其特征在于,沿垂直于所述导向治具的上表面的第一方向...

【专利技术属性】
技术研发人员:陶龙海项东辉
申请(专利权)人:上海芯之翼半导体材料有限公司
类型:发明
国别省市:

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