【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种基于固结磨料垫在线修整的碳化硅衬底的化学机械抛光方法，尤其涉及一种固结磨料垫的在线修整方法及其应用，主要面向碳化硅衬底的化学机械抛光，也适用于蓝宝石衬底、氮化镓衬底等高硬脆工件的化学机械抛光应用
技术介绍
1、化学机械抛光是目前最常用半导体平面化加工技术，通过化学与机械的交互作用快速去除前道工序残留在工件表面的较大划痕、微裂纹损伤等缺陷，有效提高工件的平面度及表面质量。固结磨料在抛光过程中具有磨料轨迹确定，磨料利用率高、工件的平坦化效果好等诸多优点，广泛应用在玻璃、陶瓷等工件的抛光领域。但是固结磨料抛光加工硬脆工件，尤其是超硬脆工件（如单晶碳化硅、蓝宝石），由于磨屑过于细小，对固结磨料垫的磨损及修整作用有限，较易产生工具堵塞、抛光效率不稳定等问题，往往需要进行人工修整。修整时，修整所用的磨粒和抛光液混合到一起后，影响抛光液性能的发挥。中国专利cn108500843a公开了一种用于固结磨料研抛垫的磨料射流自适应修整方法，该方法通过图像识别技术得到固结磨料垫表面特征，建立图像、摩擦力特征、加工效率、加工质量等之间的映射关系，根据不同加工需求进而而确定固结磨料垫修整方案和修整参数对固结磨料垫进行修整。中国专利cn101327577a公开了一种带自修整功能的磨损均匀性好的固结磨料抛光垫，主要是利用固结磨料垫上不同环形区域内磨料密度不同使得抛光垫能够保持良好的面形精度，从而提高了工件的面形精度，减少了反复修整抛光垫的工序。但现有的固结磨料垫抛光超硬脆工件时，其修整过程存在以下问题：（1）固结磨料垫的自修整效果难以实现；（
2、另一方面，单晶碳化硅衬底等超硬脆工件的化学性质稳定，在其抛光过程中抛光液的化学作用有限，化学机械抛光的去除率低下，严重制约了第三代半导体单晶碳化硅衬底的应用。研究发现芬顿反应中产生的羟基自由基(·oh)的氧化性仅次于氟气(f2)，在抛光液中发生芬顿反应生成的·oh在工件表面发生氧化反应生成较软的氧化层，有利于固结磨料垫中的磨粒对氧化层的快速机械去除。中国专利cn113290501a提到了一种金刚石晶片复合抛光加工方法及装置，主要是通过紫外光照射芬顿反应液和光催化反应液输送到抛光垫上，通过应用实例表明，采用紫外光照射芬顿反应液能够提高金刚石晶片的材料去除率，同时得到较低表面粗糙度；中国专利cn110900322a公开了一种电芬顿集群磁流变复合研磨抛光装置及方法，利用电场在磁流变液中促进芬顿反应的发生，产生大量的·oh对工件表面进行软化，工件表面形成的软化层通过集群磁流变的方法对工件进行研磨、抛光加工并取得较好的加工效果。但上述研究中采用的芬顿反应的铁离子来自于固态物质，受扩散速率的限制，催化效率低。
3、总体而言，目前固结磨料垫使用的修整方法修整效果差、化学机械抛光过程芬顿反应的催化效率低等问题，无法满足超硬脆碳化硅衬底的化学机械抛光加工的要求。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是针对目前固结磨料垫使用的修整方法修整效果差、化学机械抛光过程芬顿反应的催化效率低等问题，专利技术一种基于固结磨料垫在线修整的碳化硅衬底的化学机械抛光方法。
2、本专利技术的技术方案是：
3、一种基于固结磨料垫在线修整的碳化硅衬底的化学机械抛光方法，其特征是：在使用固结磨料垫抛光加工工件时，向固结磨料垫上同时供给抛光液和修整辅助液，抛光液通过化学作用在工件表面形成软化层后，依靠固结磨料垫上的磨粒对软化层进行有效去除，同时修整辅助液中的磨料促进固结磨料垫基体磨损从而使得固结磨料垫中钝化磨粒的脱落和新鲜磨粒的出露，通过控制修整辅助液中磨料种类、粒径、浓度、流速，实现固结磨料垫在线修整的可控性，有效提高了碳化硅衬底的抛光效率和固结磨料垫的在线修整能力。
4、本专利技术为碳化硅衬底的固结磨料抛光提供化学机械抛光所需的化学抛光液、磨粒及固结磨料垫在线修整的修整辅助液；抛光液除了冷却与排屑作用外，对工件具有一定的化学作用，提高工件的加工效率；修整辅助液促进固结磨料垫修正过程的实现，从而提高了固结磨料垫在抛光过程中在线修整能力与加工性能的稳定。
5、所述的抛光液由去离子水和氧化剂组成，所述的氧化剂为双氧水、高锰酸钾、三氯化铁、重铬酸钾、次氯酸钠、过硼酸钠中的一种或多种组合，氧化剂的质量百分比为0.1%-20%；所述抛光液的ph由柠檬酸/磷酸氢二钠、氨/氯化铵、醋酸/醋酸钠、醋酸/醋酸铵组合的缓冲溶液进行调节与控制，确保抛光过程中抛光液体系ph的稳定，依据氧化剂在抛光液中不同酸碱环境下的活性确定抛光液体系的ph（可通过常规化学计算确定）。ph取值 为4-9。
6、所述的修整辅助液由去离子水、分散剂、磨料组成；分散剂为丙三醇、乙二胺、六偏磷酸钠、硬脂酸钠中的一种或多种组合，分散剂的质量百分比含量为0.001%-2%；磨料为金刚石磨粒、碳化硅磨粒、二氧化硅磨粒、氧化铝磨粒中的一种或多种组合，修整辅助液中磨料的质量百分比含量为0.1%-5%，修整辅助液中磨料平均粒径0.01μm-10μm；余量为去离子水。
7、固结磨料垫表面具有沟槽与凸起阵列结构，沟槽用于抛光液的供液与排屑，沟槽尺寸为0.1-5mm，凸起阵列固结抛光所需的磨料，凸起结构的截面形状为圆形、正方形、菱形。
8、固结磨料垫的凸起中磨料平均粒径0.01μm-100μm。
9、固结磨料垫中磨料为金刚石磨粒、碳化硅磨粒、氧化铝磨粒中的一种或多种组合；磨料呈单晶磨粒、多晶磨粒、聚集体磨粒中的一种或者多种的混合物。
10、具体的，使修整辅助液12通过导管11在蠕动泵10的作用下把修整辅助液输送到固结磨料垫中心位置，修整辅助液由去离子水、磨粒和分散剂组成，分散剂防止修整辅助液团聚结块，磁力转子13在磁力搅拌器14的作用下搅拌修整辅助液防止磨粒沉淀；同理抛光液1通过导管4在蠕动泵5作用下输送到固结磨料垫8中心位置，抛光液中含有氧化剂、ph调节剂等组份，磁力转子2在磁力搅拌器3的作用下均匀搅拌抛光液；固结磨料垫8固定在抛光机的驱动盘9上并旋转，抛光液1和修整辅助液12在离心力作用下均匀扩散到固结磨料垫8上，工件7随驱动轴6发生自转，与固结磨料垫8形成相对运动，固结磨料垫中的磨粒19对工件进行材料去除，如图1所示。抛光液1能够起到润滑、软化工件7的作用，修整辅助液中的磨粒16对固结磨料垫进行在线修整，修整辅助液中的磨粒冲蚀固结磨料垫18形成碎屑17后脱落，使得固结磨料垫中的新鲜磨粒19得以出露，对工件7形成有效、稳定的加工，如图2所示，抛光液和修整辅助液的供给速度根据加工工艺而定，流速为30-60ml/min。
11、根据加工状态不同对修整辅助液要求的磨料种类、粒径、浓度不同，视加工情况而定。为了对比固结磨料垫的修整辅助液对碳化硅衬底抛光效果的影响，其他抛光工艺条件相同，图3和图4分别为未供给修整辅助液和供本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种基于固结磨料垫在线修整的碳化硅衬底的化学机械抛光方法，其特征是：在使用固结磨料垫抛光加工工件时，向固结磨料垫上同时供给抛光液和修整辅助液，抛光液通过化学作用在工件表面形成软化层后，依靠固结磨料垫上的磨粒对软化层进行有效去除，同时修整辅助液中的磨料促进固结磨料垫基体磨损从而使得固结磨料垫中钝化磨粒的脱落和新鲜磨粒的出露，通过控制修整辅助液中磨料种类、粒径、浓度、流速，实现固结磨料垫在线修整的可控性，有效提高了碳化硅衬底的抛光效率和固结磨料垫的在线修整能力。包括固结磨料抛光垫提供化学机械抛光所需的磨粒及其机械去除作用；抛光液除了冷却与排屑作用外，对工件具有一定的化学作用，提高工件的加工效率；修整辅助液促进固结磨料垫修正过程的实现，从而提高了固结磨料垫在抛光过程中在线修整能力与加工性能的稳定。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的抛光液由去离子水和氧化剂组成，所述的氧化剂为双氧水、高锰酸钾、三氯化铁、重铬酸钾、次氯酸钠、过硼酸钠中的一种或多种组合，氧化剂的质量百分比为0.1%-20%；所述抛光液的pH由柠檬酸/磷酸氢二钠、氨/氯化铵、醋酸/醋酸钠、醋酸/
3.根据权利要求1所述的方法，其特征是所述的修整辅助液由去离子水、分散剂、磨料组成；分散剂为丙三醇、乙二胺、六偏磷酸钠、硬脂酸钠中的一种或多种组合，分散剂的质量百分比含量为0.001%-2%；磨料为金刚石磨粒、碳化硅磨粒、二氧化硅磨粒、氧化铝磨粒中的一种或多种组合，修整辅助液中磨料的质量百分比含量为0.1%-5%，修整辅助液中磨料平均粒径0.01μm-10μm；余量为去离子水。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：固结磨料垫表面具有沟槽与凸起阵列结构，沟槽用于抛光液的供液与排屑，沟槽尺寸为0.1-5mm，凸起阵列固结抛光所需的磨料，凸起结构的截面形状为圆形、正方形、菱形。
5.根据权利要求4所述的固结磨料垫中的磨料，其特征在于：固结磨料垫的凸起中磨料平均粒径0.01μm-100μm。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：固结磨料垫中磨料为金刚石磨粒、碳化硅磨粒、氧化铝磨粒中的一种或多种组合；磨料呈单晶磨粒、多晶磨粒、聚集体磨粒中的一种或者多种的混合物。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征是：在抛光过程中使修整辅助液通过导管在蠕动泵的作用下把修整辅助液输送到固结磨料垫中心位置，修整辅助液由去离子水、磨粒和分散剂组成，分散剂防止修整辅助液团聚结块，磁力转子在磁力搅拌器的作用下搅拌修整辅助液防止磨粒沉淀；同时使抛光液通过导管在蠕动泵作用下输送到固结磨料垫中心位置，抛光液中含有氧化剂、pH调节剂，磁力转子在磁力搅拌器的作用下均匀搅拌抛光液；固结磨料垫固定在抛光机的驱动盘上并旋转，抛光液和修整辅助液在离心力作用下均匀扩散到固结磨料垫上，工件随驱动轴发生自转，与固结磨料垫形成相对运动，固结磨料垫中的磨粒对工件进行材料去除，抛光液能够起到润滑、软化工件的作用，修整辅助液中的磨粒对固结磨料垫进行在线修整，修整辅助液中的磨粒冲蚀固结磨料垫基体形成碎屑后脱落，使得固结磨料垫中的新鲜磨粒得以出露，对工件形成有效、稳定的加工，抛光液和修整辅助液的供给速度根据加工工艺而定。
...【技术特征摘要】
1.一种基于固结磨料垫在线修整的碳化硅衬底的化学机械抛光方法，其特征是：在使用固结磨料垫抛光加工工件时，向固结磨料垫上同时供给抛光液和修整辅助液，抛光液通过化学作用在工件表面形成软化层后，依靠固结磨料垫上的磨粒对软化层进行有效去除，同时修整辅助液中的磨料促进固结磨料垫基体磨损从而使得固结磨料垫中钝化磨粒的脱落和新鲜磨粒的出露，通过控制修整辅助液中磨料种类、粒径、浓度、流速，实现固结磨料垫在线修整的可控性，有效提高了碳化硅衬底的抛光效率和固结磨料垫的在线修整能力。包括固结磨料抛光垫提供化学机械抛光所需的磨粒及其机械去除作用；抛光液除了冷却与排屑作用外，对工件具有一定的化学作用，提高工件的加工效率；修整辅助液促进固结磨料垫修正过程的实现，从而提高了固结磨料垫在抛光过程中在线修整能力与加工性能的稳定。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的抛光液由去离子水和氧化剂组成，所述的氧化剂为双氧水、高锰酸钾、三氯化铁、重铬酸钾、次氯酸钠、过硼酸钠中的一种或多种组合，氧化剂的质量百分比为0.1%-20%；所述抛光液的ph由柠檬酸/磷酸氢二钠、氨/氯化铵、醋酸/醋酸钠、醋酸/醋酸铵组合的缓冲溶液进行调节与控制，确保抛光过程中抛光液体系ph的稳定，依据氧化剂在抛光液中不同酸碱环境下的活性确定抛光液体系的ph。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征是所述的修整辅助液由去离子水、分散剂、磨料组成；分散剂为丙三醇、乙二胺、六偏磷酸钠、硬脂酸钠中的一种或多种组合，分散剂的质量百分比含量为0.001%-2%；磨料为金刚石磨粒、碳化硅磨粒、二氧化硅磨粒、氧化铝磨粒中的一种或多种组合，修整辅助液中磨料的质量百分比含量...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱永伟，吴鹏飞，李学，刘宁，左敦稳，
申请(专利权)人：南京航空航天大学，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。