【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，尤其涉及一种蚀刻设备。
技术介绍
1、在半导体制造领域，蚀刻工艺是一种有选择性的去除材料的工艺过程。蚀刻工艺基本上分为两种：干法蚀刻以及湿法腐蚀。干法蚀刻是亚微米、深亚微米尺寸下蚀刻器件的最主要方法。
2、目前所有的干法蚀刻设备均自带有终点探测器(end point detector，简称epd)，以用于监控蚀刻工艺和停止蚀刻。epd主要通过窗口片获取光强变化。然而由于蚀刻产生的生成物会较快的堆积在窗口片上，使得窗口片脏污；并且，脏污窗口片会使得epd无法正常判断设计的厚度是否蚀刻完全，故需要先停机对窗口片进行清洁或更换之后才能正常复机。
3、因此，如何实现窗口片的自动更换，以提高蚀刻设备的工作效率，是亟需解决的问题。
技术实现思路
1、鉴于上述现有技术的不足，本申请的目的在于提供一种蚀刻设备，旨在实现窗口片的自动更换，以提高蚀刻设备的工作效率。
2、本申请实施例提供一种蚀刻设备，包括：真空腔室以及设置于真空腔室腔壁上的终点探测器和窗口片；腔壁上还设有位于窗口片下方的容置槽；蚀刻设备还包括：平移门开合结构，设置于容置槽槽口，以打开或封闭容置槽；窗口片支撑结构，设置于平移门开合结构背离容置槽的一侧，用于在平移门开合结构的预设开合范围内对窗口片进行支撑；以及窗口片取放结构，设置于容置槽的底部，用于在平移门开合结构逐渐打开时移除脏污窗口片，以及在平移门开合结构逐渐闭合时更换备用窗口片至窗口片支撑结构上。
3、上述蚀刻设
4、可选地，所述蚀刻设备还包括检测装置和控制装置。检测装置设置于窗口片远离真空腔室的一侧，用于检测窗口片的脏污信息；控制装置分别与检测装置、平移门开合结构及窗口片取放结构连接，控制装置被配置为：接收检测装置传输的脏污信息，并根据脏污信息向平移门开合结构发送开合控制指令，以控制平移门开合结构打开或闭合；以及根据脏污信息向窗口片取放结构发送窗口片取放指令，以将脏污窗口片更换为备用窗口片。
5、上述蚀刻设备中，控制装置通过与检测装置连接，能够获取机台中窗口片的实时状态信息，当窗口片的表面污染物达到脏污窗口片的标准时，控制平移门开合结构及窗口片取放结构完成相应的指令，提高了窗口片更换的效率，进而提高了蚀刻设备的工作效率。
6、可选地，检测装置包括：终点探测器；和/或，设置于终点探测器和窗口片之间的图像传感器。
7、可选地，所述蚀刻设备还包括窗口片存储结构。窗口片存储结构设置于容置槽的槽壁上，用于分区域存放脏污窗口片和备用窗口片。
8、可选地，平移门开合结构包括：以开合中心线为对称轴左右对称设置的第一门和第二门；所述第一门和所述第二门彼此靠近以闭合，彼此远离以打开。
9、上述蚀刻设备中，当第一门和第二门彼此靠近以闭合时，可以通过窗口片支撑结构实现对窗口片的支撑。当第一门和第二门彼此远离以打开时，可以通过窗口片取放结构将窗口片传输至窗口片存储结构上，以便于后续实现窗口片的自动更换。
10、可选地，第一门和第二门包括：铝制门，以及位于铝制门背离容置槽一侧的电极镀层。
11、可选地，窗口片支撑结构包括：以开合中心线为对称轴左右对称设置的第一支撑部和第二支撑部；第一支撑部位于第一门上，第二支撑部位于第二门上；第一支撑部和第二支撑部用于在第一门和第二门的预设开合范围内共同支撑窗口片。
12、上述蚀刻设备中，第一支撑部和第二支撑部彼此配合以实现对窗口片的支撑和释放。当第一门和第二门逐渐打开至预设开合范围外时，第一支撑部和第二支撑部同样逐渐打开至预设开合范围外，以释放脏污窗口片。当第一门和第二门逐渐闭合至预设开合范围内时，第一支撑部和第二支撑部同样逐渐闭合至预设开合范围内，以支撑备用窗口片，从而实现窗口片的自动更换。
13、可选地，第一支撑部和第二支撑部均具有第一承载弧面，第一承载弧面的曲率中心与窗口片的圆心重合，第一承载弧面的宽度大于窗口片的厚度。
14、上述蚀刻设备中，一方面，第一承载弧面的弧面与窗口片的弧面相匹配，另一方面，第一承载弧面的宽度大于窗口片的厚度，从而保证了第一支撑部和第二支撑部对窗口片的稳定支撑。
15、可选地，窗口片取放结构包括：平移机构，设置于容置槽的槽底，用于沿平行于容置槽槽底面的方向移动；伸缩机构，设置于平移机构背离所述槽底的一侧，并与平移机构固定连接；伸缩机构用于沿垂直于容置槽槽底面的方向伸缩，以取放脏污窗口片或备用窗口片。
16、可选地，伸缩机构远离平移机构的端部设有支撑部；支撑部包括第二承载弧面；第二承载弧面的曲率中心与窗口片的圆心重合，第二承载弧面的宽度小于窗口片的厚度且大于窗口片厚度的三分之一。
17、上述蚀刻设备中，设置于伸缩机构远离平移机构端部的支撑部，可以在平移门开合结构逐渐打开时，稳定抓取脏污窗口片，防止脏污窗口片掉落，以及，在平移门开合结构逐渐闭合时，稳定抓取备用窗口片，并放置备用窗口片于窗口片支撑结构上，以使窗口片支撑结构支撑备用窗口片。
18、本申请实施例还提供了一种窗口片更换方法，以应用于前述一些实施例中的蚀刻设备。所述窗口片更换方法包括如下步骤：在平移门开合结构打开至第一位置时，窗口片取放结构获取位于窗口片支撑结构上的脏污窗口片；在平移门开合结构打开至第二位置时，窗口片取放结构移除脏污窗口片至平移门开合结构内；窗口片取放结构获取备用窗口片，并将所述备用窗口片传输至平移门开合结构外，以在平移门开合结构闭合至第一位置时，使窗口片支撑结构对备用窗口片进行支撑；在平移门开合结构完全闭合前，窗口片取放结构收回至容置槽底部。
19、可选地，在平移门开合结构打开至第一位置之前，所述窗口片更换方法还包括：检测窗口片是否为脏污窗口片；在窗口片为脏污窗口片时，控制平移门开合结构打开至第一位置。
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1.一种蚀刻设备，其特征在于，包括：真空腔室以及设置于所述真空腔室腔壁上的终点探测器和窗口片；所述腔壁上还设有位于所述窗口片下方的容置槽；所述蚀刻设备还包括：
2.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，还包括：
3.根据权利要求2所述的蚀刻设备，其特征在于，所述检测装置包括：
4.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，还包括：
5.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，所述平移门开合结构包括：以开合中心线为对称轴左右对称设置的第一门和第二门；所述第一门和所述第二门彼此靠近以闭合，彼此远离以打开。
6.根据权利要求5所述的蚀刻设备，其特征在于，所述第一门和所述第二门包括：铝制门，以及位于所述铝制门背离所述容置槽一侧的电极镀层。
7.根据权利要求5所述的蚀刻设备，其特征在于，所述窗口片支撑结构包括：以所述开合中心线为对称轴左右对称设置的第一支撑部和第二支撑部；
8.根据权利要求7所述的蚀刻设备，其特征在于，所述第一支撑部和所述第二支撑部均具有第一承载弧面，所述第一承载弧面的曲率中心与所述窗
9.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，所述窗口片取放结构包括：
10.根据权利要求9所述的蚀刻设备，其特征在于，所述伸缩机构远离所述平移机构的端部设有支撑部；
...【技术特征摘要】
1.一种蚀刻设备，其特征在于，包括：真空腔室以及设置于所述真空腔室腔壁上的终点探测器和窗口片；所述腔壁上还设有位于所述窗口片下方的容置槽；所述蚀刻设备还包括：
2.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，还包括：
3.根据权利要求2所述的蚀刻设备，其特征在于，所述检测装置包括：
4.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，还包括：
5.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，所述平移门开合结构包括：以开合中心线为对称轴左右对称设置的第一门和第二门；所述第一门和所述第二门彼此靠近以闭合，彼此远离以打开。
6.根据权利要求5所述的蚀刻设备，其特征在于，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨富可，
申请(专利权)人：重庆康佳光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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