【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光掩模，特别涉及一种相移光掩模空白板及其制作方法、光掩模板及其制作方法。
技术介绍
1、传统的相移光掩模空白板结构包含4层，从下到上依次为：石英玻璃-硅化钼-铬-光阻。对于此结构，一般需要经过两次曝光流程共10个步骤(如图1所示，图1中竖线填充区域表示曝光区域，横线填充区域表示二次涂膜步骤执行后形成的光阻层)来得到最终设计所需的带硅化钼图形及铬图形的结构，其中中间区域为硅化钼图形，四周边缘区域内为硅化钼图形上覆盖铬图形。四周边缘区域中的图形表面为铬材料，其作用为遮光层，使得在终端应用光穿透相移光掩模板产品时形成黑色mark图形。
2、如图1所示，对于传统相移光掩模板的制作需要执行10个步骤，流程繁琐，导致生产周期长，生产效率低，而且过多的工艺流程也会使用到更多的设备和消耗更多的材料，导致生产成本高。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于改善现有技术中存在的工艺繁琐、生产效率低的问题，提供一种相移光掩模空白板及其制作方法、光掩模板及其制作方法，可以简化光掩模板的工艺流程，提高生产效率，同时也降低生产成本。
2、为了实现上述目的，本专利技术实施例提供了以下技术方案：
3、为了解决如何简化光掩模板的制作工艺流程的问题，第一方面，本专利技术实施例提供了一种相移光掩模空白板，所述相移光掩模空白板为三层结构，从下至上依次为透明基板层、图形材料层和光阻层，所述图形材料层包括主图形材料层和辅助图形材料层。
4、进一步的，所述主图形材料
5、本专利技术将传统的相移光掩模空白板的四层结构改进为三层结构，即将硅化钼材料层和铬材料层设计在同一层，在首次执行曝光、显影及蚀刻等制程时就可以同时对硅化钼材料层和铬材料层进行处理，而无需如传统方法那样需要执行两次曝光、两次显影等制程，可以节省一半的工艺流程，极大地提高了生产效率，而且可以节省例如二次曝光中高端设备及材料的使用，大大降低生产成本。
6、第二方面，本专利技术实施例提供了一种光掩模板，所述光掩模板为两层结构，从下至上依次为透明基板层和图形层，所述图形层包括主图形层和辅助图形层。进一步地，所述主图形层为硅化钼图形层，所述辅助图形层为铬图形层。
7、本专利技术提供的光掩模板为两层结构，由本专利技术提供的相移光掩模空白板制作而得，从制作工艺角度讲能大大提高生产效率及降低生产成本；从结构角度讲，与传统的光掩模板相比，图形层由两层结构变成了一层结构，理论上更能节省竖直方向的空间，继而减小尺寸。
8、第三方面，本专利技术实施例提供了一种本专利技术任一实施方式所述的相移光掩模空白板的制作方法，包括以下步骤：
9、步骤10，在透明基板层上，用第一遮挡材料将辅助图形区的透明基板层盖住；
10、步骤20，将主图形材料沉积在透明基板层表面的主图形区，形成主图形材料层；
11、步骤30，移除第一遮挡材料，使得辅助图形区裸露出来；
12、步骤40，用第二遮挡材料将主图形材料层盖住；
13、步骤50，将辅助图形材料沉积在透明基板层表面的辅助图形区，形成辅助图形材料层；
14、步骤60，移除第二遮挡材料，将光阻材料涂布在主图形材料层和辅助图形材料层的表面，形成光阻层。
15、第四方面，本专利技术实施例提供了本专利技术任一实施方式所述的相移光掩模空白板的另一种制作方法，包括以下步骤：
16、步骤100，在透明基板层上，用第二遮挡材料将主图形区的透明基板层盖住；
17、步骤200，将辅助图形材料沉积在透明基板层表面的辅助图形区，形成辅助图形材料层；
18、步骤300，移除第二遮挡材料，使得主图形区裸露出来；
19、步骤400，用第一遮挡材料将辅助图形材料层盖住；
20、步骤500，将主图形材料沉积在透明基板层表面的主图形区，形成主图形材料层；
21、步骤600，移除第一遮挡材料，将光阻材料涂布在主图形材料层和辅助图形材料层的表面，形成光阻层。
22、通过上述两种方法制得本专利技术相移光掩模空白板，增加了遮盖及移除遮挡材料的步骤，但是由于硅化钼材料层和铬材料层集中在一个层级结构上，可以节省硅化钼材料和铬材料的使用量，继而降低材料成本，而且还可以减小竖直方向上的空间尺寸。
23、第五方面，本专利技术实施例提供了一种所述光掩模板的制作方法，依次包括以下步骤：
24、步骤1，曝光：将所述的相移光掩模空白板的指定区域划定为曝光区域，生成曝光文件，然后执行曝光操作；
25、步骤2，烘烤；
26、步骤3，显影；
27、步骤4，蚀刻；
28、步骤5，去光阻。
29、传统光掩模板制作方法需要10个流程，采用本专利技术上述光掩模板制作方法可以节省一半的工艺流程，因此可以大大地缩短生产周期，提高生产效率，而且可以节省例如二次曝光中高端设备及材料的使用，大大降低生产成本。
30、与现有技术相比，利用本专利技术提供的相移光掩模空白板制作光掩模板，可以简省一半的工艺流程，大大提高了生产效率，而且还可以避免二次曝光中高端设备和材料的使用，既降低了设备及材料成本，又避免了进口依赖，有利于国产化。
31、另外，利用本专利技术提供的相移光掩模空白板制作光掩模板还可以提高产品良率，经过分析认为其原因是，产品缺陷就是在各个工艺流程中形成的，更少的工艺流程能够保障更少的机会出现缺陷，因此工艺流程的节省可以减少缺陷，继而提高产品良率。
32、更多或更详细的技术效果阐述请见实施例中相关描述。
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1.一种相移光掩模空白板，其特征在于，所述相移光掩模空白板为三层结构，从下至上依次为透明基板层、图形材料层和光阻层，所述图形材料层包括主图形材料层和辅助图形材料层。
2.根据权利要求1所述的相移光掩模空白板，其特征在于，所述主图形材料层为硅化钼材料层，所述辅助图形材料层为铬材料层。
3.根据权利要求1所述的相移光掩模空白板，其特征在于，所述透明基板层为石英玻璃层。
4.一种光掩模板，其特征在于，所述光掩模板为两层结构，从下至上依次为透明基板层和图形层，所述图形层包括主图形层和辅助图形层。
5.根据权利要求4所述的光掩模板，其特征在于，所述主图形层为硅化钼图形层，所述辅助图形层为铬图形层。
6.权利要求1-3任一所述的相移光掩模空白板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
7.权利要求1-3任一所述的相移光掩模空白板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
8.权利要求4或5所述光掩模板的制作方法，其特征在于，依次包括以下步骤：
【技术特征摘要】
1.一种相移光掩模空白板，其特征在于，所述相移光掩模空白板为三层结构，从下至上依次为透明基板层、图形材料层和光阻层，所述图形材料层包括主图形材料层和辅助图形材料层。
2.根据权利要求1所述的相移光掩模空白板，其特征在于，所述主图形材料层为硅化钼材料层，所述辅助图形材料层为铬材料层。
3.根据权利要求1所述的相移光掩模空白板，其特征在于，所述透明基板层为石英玻璃层。
4.一种光掩模板，其特征在于，所述光掩模板为两层结构，从...
【专利技术属性】
技术研发人员：李红娇，曾振瑞，李宥陞，张宇涵，王肖，
申请(专利权)人：兴华芯绍兴半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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