【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光掩模，具体涉及一种用于量测光掩模图形的载台及载具组件。
技术介绍
1、光掩模(或称为光罩)是半导体芯片光刻过程中设计图形的载体。在实际中，精确测量光掩模上图形的线宽也是半导体制造过程中的重要环节，线宽是半导体器件制造中的一个关键参数，它直接决定了最终产品的性能和特性，通过测量光掩模上的线宽，制造商可以确保光刻过程中图形的精确复制，从而控制产品的质量和性能，有利于制造高性能、高精度的半导体器件。同时，光刻机和其他相关设备在制造过程中需要定期校准，以确保其精度和稳定性，测量光掩模上的线宽可以作为设备校准的一个重要参考。通过对比实际线宽与预期线宽，制造商可以调整设备参数，优化工艺条件，提高生产效率和产品质量。此外，制造商还可以根据所测量的线宽进行质量控制和监测、工艺改进和优化等。
2、现有技术中，通常采用光学量测显微镜来完成线宽的测量工作。现有的光学量测显微镜通常配置有光学量测系统和载物台，所述光学量测系统包括设置于载物台上方的镜头，镜头的镜头通常为曲面，在实际测量时，光掩模通常放置于载具，载具放置于载物台上，使得镜头...
【技术保护点】
1.一种用于量测光掩模图形的载台，其特征在于，载台构造有用于支撑载具的支撑部、用于调整光掩模方位的定位部以及供量测光通过的中心孔，所述定位部包括构造于载台上表面的定位孔，所述定位孔构造为圆孔，定位孔的侧壁构造有至少两组卡口，各组卡口分别包括四个适配载具中四个拐角的卡口，各卡口分别沿定位孔的圆周方向分布，中心孔与定位孔相连通，且中心孔贯穿载台的下表面。
2.根据权利要求1所述的用于量测光掩模图形的载台，其特征在于，定位孔的侧壁构造有90组卡口，90组卡口中的360个卡口分别沿定位孔的圆周方向均匀分布，相邻两卡口之间的夹角为1度。
3.根据权利要求...
【技术特征摘要】
1.一种用于量测光掩模图形的载台，其特征在于，载台构造有用于支撑载具的支撑部、用于调整光掩模方位的定位部以及供量测光通过的中心孔，所述定位部包括构造于载台上表面的定位孔，所述定位孔构造为圆孔，定位孔的侧壁构造有至少两组卡口，各组卡口分别包括四个适配载具中四个拐角的卡口，各卡口分别沿定位孔的圆周方向分布，中心孔与定位孔相连通，且中心孔贯穿载台的下表面。
2.根据权利要求1所述的用于量测光掩模图形的载台，其特征在于，定位孔的侧壁构造有90组卡口，90组卡口中的360个卡口分别沿定位孔的圆周方向均匀分布，相邻两卡口之间的夹角为1度。
3.根据权利要求1所述的用于量测光掩模图形的载台，其特征在于，所述卡口的内表面构造为弧面。
4.根据权利要求1所述的用于量测光掩模图形的载台，其特征在于，所述中心孔构造于定位孔的下方，中心孔与定位孔共轴，中心孔的直径小于定位孔的直径，中心孔与定位孔之间的台阶形成所述支撑部；
5.根据权利要求1所述的用于量测光掩模图...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯诗谣，颜永安，曾振瑞，
申请(专利权)人：兴华芯绍兴半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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