一种中温龙泉粉青瓷的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种中温龙泉粉青瓷的制造方法。本发明专利技术在坯体和釉料中采用常用矿物原料及化工原料进行特定配比，在釉料中加入煅烧氧化锌和煅烧滑石，使龙泉粉青瓷在１２２０－１２４０℃一次烧制而成，解决了现有粉青瓷生产烧成温度高，能耗大，以致生产成本较高且环境污染严重等问题，并能增强中温粉青釉的玉质感。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于传统陶瓷制造
，具体涉及， 适用于制造各种高档的龙泉粉青日用瓷及艺术瓷。
技术介绍
龙泉粉青瓷是古代龙泉窑鼎盛时期所创烧的著名青瓷品种之一，以铁为主要着色元素，施釉较厚，入窑后经还原焰烧制烧成，釉色青绿之中显粉白，有似玉的质感。龙泉窑青瓷由强到衰，历经千年，至清末衰落。解放后在周恩来总理的关怀下，在龙泉市的上洋镇恢复生产，现已形成一定的规模，成为国内最大的青瓷制造地之一。尽管龙泉青瓷在工艺技术，产品质量、花色品种上得到了很大发展，但国内外市场占有率仍然极低。最主要的原因是成本居高不下，产品价格在相同的工艺水平条件下偏高，这在国内外陶瓷市场供大于求的市场环境中，其竞争力明显受损，很大程度上制约了龙泉青瓷的发展和壮大。龙泉青瓷由于独特的工艺配方和烧造技术，采用二次烧成，先素烧后烧成，烧成温度在1300 1340°C 之间，属于高温釉，因此烧成所使用的液化气燃料占主要制造成本。如国家专利局公开号为 CN1253124A的专利技术专利“青瓷釉及青瓷釉产品的制备方法”中青瓷的烧成温度为1340°C， 公开号为CN1715229A的专利技术专利“一种龙泉青瓷冰裂纹釉及其产品的制作方法”中虽然冰裂纹釉瓷的烧成温度为1275 1280°C，但要在此烧成温度点保温0. 5 1小时。由此可知，我国现在仍然没有解决青瓷生产高能耗的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是解决目前导致粉青瓷生产烧成温度过高，能耗大，以致生产成本较高且环境污染严重等问题的技术难点，提供一种1220 1240°C中温烧成、釉面呈色均勻的龙泉粉青瓷的制造方法。本专利技术为解决上述问题而采用的技术方案为中温龙泉粉青瓷坯体原料配方按重量百分比为星子高岭5 ；34%、贵溪瓷石50 80 %、钾长石10 20 %、水玻璃0. 1 0. 2 % ；中温龙泉粉青瓷釉料原料配方按重量百分比为钾长石60 68%、紫金土 10 14%、二灰15 20%、煅烧滑石2 4%、煅烧氧化锌3 5%、三聚磷酸钠0. 1 0. 2% ；其制造工艺包括泥料和釉料制备、成型、干燥、700 80(TC素烧、施釉、1220 1240°C中温烧成，其中所述的烧成包括干燥、氧化、强还原、弱还原、冷却五个阶段。上述泥料制备的最佳工艺为按坯料配方要求称量原料并混合，以料球水比例为1 2 0. 6 0. 8装入球磨设备球磨16小时，将料浆陈腐M小时后过100目筛，再经过脱水、练泥等工艺制成泥料。上述釉料制备的最佳工艺为按釉料配方要求称量原料并混合，以料球水比例为1 2 0.6 0.8装入球磨设备球磨20-30小时，细度达到万孔筛筛余0.04%以下。上述素烧的最佳工艺为素烧至700 800°C，保温20分钟，自然冷却至室温出在上述施釉工序中，釉层厚度最好控制在1. 0 1. 2mm。上述烧成工序的五个阶段最佳工艺为在干燥阶段，用2 3小时慢火升温，使窑温达到580 600°C，充分排除坯体中的水分；在氧化阶段，用3 4小时升温至980°C，使坯釉得以充分氧化防止釉出现氧化吸烟缺陷；在980°C保温10分钟后转入强还原阶段，用 1. 5 2小时升温至1120 1140°C，使釉中部分氧化铁转变为氧化亚铁；之后转入弱还原气氛，防止氧化亚铁再次被氧化氧化铁，在此阶段用1 1. 5小时升温至烧成温度1220 1240°C ；在冷却阶段，先将瓷器急冷100°C再自然冷却至室温。本专利技术所涉及的龙泉粉青瓷配方，突破了使用龙泉本土原料的局限，胎釉配方均采用常用矿物原料及化工原料，制品呈色均勻并有似玉质感，热稳定性好，适应性广；所涉及的粉青釉配方中少量引入煅烧氧化锌及煅烧滑石，既降低了釉的熔融温度又促进釉的分相，降低了釉的成熟温度，增强了釉的玉质感，可以在1220 1240°C条件下中温烧成，节约大量燃气燃料，显著降低生产成本，提升了产品利润空间。具体实施方式本专利技术以下实施例中的中温龙泉粉青瓷坯釉料所使用的矿物原料星子高岭、贵溪瓷石、钾长石、紫金土、二灰、煅烧滑石，其化学成分如下权利要求1.，其特征在于其坯体原料配方按重量百分比为星子高岭5 34%、贵溪瓷石50 80%、钾长石10 20%、水玻璃0. 1 0. 2% ；其釉料原料配方按重量百分比为钾长石60 68%、紫金土 10 14%、二灰15 20%、煅烧滑石2 4%、煅烧氧化锌 3 5%、三聚磷酸钠0. 1 0. 2% ；其制造工艺包括泥料和釉料制备、成型、干燥、700 80(TC素烧、施釉、1220 1240°C 中温烧成，其中所述的中温烧成包括干燥、氧化、强还原、弱还原、冷却五个阶段；所述烧成工序的五个阶段为在干燥阶段，用2 3小时慢火升温，使窑温达到580 600°C，充分排除坯体中的水分；在氧化阶段，用3 4小时升温至980°C，使坯釉得以充分氧化防止釉出现氧化吸烟缺陷；在980°C保温10分钟后转入强还原阶段，用1. 5 2小时升温至1120 1140°C，使釉中部分氧化铁转变为氧化亚铁；之后转入弱还原气氛，防止氧化亚铁再次被氧化为氧化铁，在此阶段用1 1. 5小时升温至烧成温度1220 1240°C ；在冷却阶段，先将瓷器急冷100°C再自然冷却至室温。2.根据权利要求1所述龙泉粉青瓷的制造方法，其特征在于所述泥料制备过程是按坯料配方要求称量原料并混合，以料球水比例为1 2 0. 6 0. 8装入球磨设备球磨16小时，将料浆陈腐M小时后过100目筛，再经过脱水、练泥工艺制成泥料。3.根据权利要求1所述龙泉粉青瓷的制造方法，其特征在于所述釉料制备过程是按釉料配方要求称量原料并混合，以料球水比例为1 2 0. 6 0. 8装入球磨设备球磨20-30小时，细度达到万孔筛筛余0. 04%以下。4.根据权利要求1所述龙泉粉青瓷的制造方法，其特征在于所述素烧工艺为素烧至 700 800°C，保温20分钟，自然冷却至室温出窑。5.根据权利要求1所述龙泉粉青瓷的制造方法，其特征在于在所述施釉工序中，釉层厚度控制在1. 0 1. 2mm。专利摘要本专利技术涉及。本专利技术在坯体和釉料中采用常用矿物原料及化工原料进行特定配比，在釉料中加入煅烧氧化锌和煅烧滑石，使龙泉粉青瓷在1220-1240℃一次烧制而成，解决了现有粉青瓷生产烧成温度高，能耗大，以致生产成本较高且环境污染严重等问题，并能增强中温粉青釉的玉质感。文档编号C04B33/00GKCN101885601 B发布类型授权 专利申请号CN 201010207772公开日2012年5月23日 申请日期2010年6月20日专利技术者吴军明, 吴隽, 张茂林, 李其江 申请人:景德镇陶瓷学院导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种中温龙泉粉青瓷的制造方法，其特征在于：　　其坯体原料配方按重量百分比为：星子高岭５～３４％、贵溪瓷石５０～８０％、钾长石１０～２０％、水玻璃０．１～０．２％；　　其釉料原料配方按重量百分比为：钾长石６０～６８％、紫金土１０～１４％、二灰１５～２０％、煅烧滑石２～４％、煅烧氧化锌３～５％、三聚磷酸钠０．１～０．２％；　　其制造工艺包括泥料和釉料制备、成型、干燥、７００～８００℃素烧、施釉、１２２０～１２４０℃中温烧成，其中所述的中温烧成包括干燥、氧化、强还原、弱还原、冷却五个阶段。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴隽，李其江，张茂林，吴军明，
申请(专利权)人：景德镇陶瓷学院，
类型：发明
国别省市：36[中国|江西]