一种用于制备龙泉青瓷的熔块、龙泉青瓷熔块釉及该熔块釉的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种用于制备龙泉青瓷的熔块、龙泉青瓷熔块釉及该熔块釉的制备方法。按重量百分比计，该熔块的原料组成为：稀土尾砂45～95％，龙泉瓷土1～30％，氧化铝粉1～25％，高岭土1～15％，黄釉土1～30％，钾长石0～25％，石英0～20％，滑石0～10％。本发明专利技术使用稀土尾砂作为熔块的主要原料，不仅实现了稀土尾砂的资源再利用，而且大大降低了其他常规龙泉青瓷原料的用量，同时稀土尾砂中的微量稀土元素对青釉有明显的促进显色能力，因此釉料中无需添加额外的着色剂或陶瓷着色化工原料，既降低了龙泉青瓷熔块釉的制造成本，釉面呈色更为稳定，适合工业化大生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种龙泉青瓷釉，具体涉及一种用于制备龙泉青瓷的熔块、龙泉青瓷熔块釉及该熔块釉的制备方法。
技术介绍
我国稀土矿资源储量丰富，但由于稀土矿品味较低，稀土矿在被提取利用后会产生发了的稀土尾砂。目前，稀土尾砂的处理方式主要是堆积或填埋，这种处理方式不仅占地面积较大，浪费大量土地资源；并且还会对水土资源造成严重污染，破坏生态平衡，阻碍经济的可持续发展。因此，对稀土尾砂的资源再利用，是实现矿产资源可持续发展的重要途径，这不仅是我国稀土产业发展的战略需求，也是我国建立资源、能源节约型社会的迫切需求。釉是一种熔融在陶瓷制品表面的一层很薄的均匀玻璃质层，能够改善坯体的表面性能，提高产品的使用性能和艺术价值。青瓷是科学与艺术的完美结合体，此行业发展迅速。作为联合国教科文组织的世界非物质文化遗产保护名录，龙泉青瓷以温润如玉的釉色以及流畅优美的造型受到了市场的青睐。然而随着审美水平的提高，人们对日陶、建陶等陶瓷制品的要求不再只是局限于使用功能，对艺术感和审美装饰效果也提出了更高的要求。目前，通过二次烧成工艺(即先对坯体进行素烧，获得素坯，再在素坯上施釉，进行釉烧)可以得到釉色均匀、玉质感强的龙泉青瓷。但现有的龙泉青瓷制备工艺仍存在以下不足：①同一批产品量大时，易出现较为严重的色差；②二次烧制时，通常都是将生料釉直接施加在素坯表面，而生料釉中许多水溶性原料在施釉过程中易被坯体吸收，经干燥后，这些水溶性原料又随水分蒸发而集中在坯体表面，烧成后的产品易出现针孔、缩釉等缺陷。这些不足都会导致龙泉青瓷利润降低，影响到我国青瓷装饰技术、艺术水平的提升。熔块釉的出现解决了生料釉所引起的问题。熔块釉的制备工艺一般是：在配制釉浆时，先将碳酸钠、碳酸钾、硼砂、硼酸之类的水溶性原料和石英或其它硅酸盐按一定比例混合，制成熔块；再将熔块与其他釉料混合，制成釉浆；釉浆经施釉、干燥、修坯、烧成得到熔块釉。然而，对于龙泉青瓷而言，不同的青釉对矿物原料的品质要求十分苛刻。在优质龙泉青瓷原料日益枯竭的背景下，急需找到一种新的、化学稳定性高、釉色呈色稳定、釉面莹润的可替代原料。
技术实现思路
本专利技术提供了一种用于制备龙泉青瓷的熔块，该熔块解决了现有熔块需要使用大量的优质龙泉青瓷原料，且需要添加着色剂或其他陶瓷着色化工原料的问题，使得龙泉青瓷釉面呈色更为丰富多彩。一种用于制备龙泉青瓷的熔块，按重量百分比计，原料组成为：稀土尾砂45～95％，龙泉瓷土1～30％，氧化铝粉1～25％，高岭土1～15％，黄釉土1～30％，钾长石0～25％，石英0～20％，滑石0～10％。本专利技术使用现有大量闲置的稀土尾砂作为熔块的主要原料，不仅实现了稀土尾砂的资源再利用，为矿产资源可持续发展提供了重要途径；而且使用稀土尾砂后，用于制备龙泉青瓷常规龙泉青瓷原料的用量均大大降低，为青瓷熔块釉原料的选择提供了新的方向。同时由于稀土尾砂中存在的微量稀土元素对青釉有着明显的促进显色能力，因此釉料中无需添加额外的着色剂或陶瓷着色化工原料，不仅大大降低了龙泉青瓷熔块釉的制造成本，而且能在很大程度上解决目前青瓷熔块釉生产中存在的批量生产时不同产品之间色差较大的问题，釉面呈色更为稳定，适合工业化大生产。本专利技术中，不需要对稀土尾砂作任何前处理，可以直接、整体利用，且稀土尾砂来源广，价格低廉，不仅简便了熔块的制备步骤，而且降低了熔块的制备成本。作为优选，按重量百分比计，原料组成为：稀土尾砂80～95％，龙泉瓷土1～5％，氧化铝粉1～3％，高岭土1～5％，黄釉土1～5％，钾长石0～3％，石英0～5％，滑石0～3％。作为优选，所述稀土尾砂中钾钠氧化物(K2(Na2)O)的含量为5.5～8.6％。若钾钠氧化物的含量过低，将使制成的釉浆粘度过大，流动性低，烧成后熔块釉呈色不均；若钾钠氧化物的含量过高，将使制成的釉浆流动性过大，烧制过程中生成太多玻璃相，易产生流釉，同样会导致烧成后的熔块釉呈色不均。本专利技术还提供了一种龙泉青瓷熔块釉，按重量百分比计，该熔块釉的釉料的原料组成为：熔块70～95％、岭根釉土0～20％、石英0～15％、石灰石0～10％、高岭土1～8％、紫金土1～8％；所述熔块即为本专利技术所述的用于制备龙泉青瓷的熔块。本专利技术的龙泉青瓷熔块釉的原料组成简单，且熔块的含量在70％以上，少量高岭土和紫金土的加入可以提高球磨后熔块釉釉浆中熔块颗粒的悬浮性和着色能力，使釉浆分散性良好、化学稳定性高，从而烧成后熔块釉的釉面更加平整，并有利于提高熔块釉的呈色稳定性。并且，本专利技术的龙泉青瓷熔块釉中未引入任何含铅、镉等有毒原料，不存在铅、镉溶出的危害。作为优选，按重量百分比计，该熔块釉的釉料的原料组成为：熔块80～95％、岭根釉土0～5％、石英0～5％、石灰石0～5％、高岭土2～5％、紫金土2～5％。在该原料组成下，釉料制成的釉浆分散性更佳，化学稳定性更好。作为进一步优选，按重量百分比计，该熔块釉的釉料的原料组成为：熔块90％、岭根釉土0.5％、石英1.2％、石灰石0.3％、高岭土5％、紫金土3％；其中，按重量百分比计，所述熔块的原料组成为：稀土尾砂90％，龙泉瓷土2.5％，氧化铝粉1.5％，高岭土3％，黄釉土1.5％，钾长石0.5％，石英0.5％，滑石0.5％。本专利技术还提供了一种所述龙泉青瓷熔块釉的制备方法，该制备方法包括以下步骤：S1：将熔块的各原料按预设的重量百分比混合均匀，在还原气氛、1300℃～1400℃下熔融，经水淬、球磨、干燥后得到熔块；S2：将釉料的各原料按预设的重量百分比混合均匀，经球磨、过筛、陈腐后得到釉浆；S3：对龙泉青瓷坯体进行素烧，获得素坯；S4：利用所述釉浆对素坯进行施釉，施釉后的素坯经干燥后，在还原气氛下进行釉烧，获得龙泉青瓷熔块釉。作为优选，步骤S2中，所述球磨的时间为4～8h，球磨至釉料混合物细度为：D10＞0.04μm、D90为0.02～0.03μm、D100＜1μm。如此釉浆分散性更佳，化学稳定性更好。作为优选，步骤S2中，陈腐后过250～350目筛。过筛的目的是为了除去釉浆中颗粒较大的固体物质，如铁块等。作为优选，步骤S4中，施釉时釉浆浓度为1.45～1.95g/cm3，素坯上的釉层厚度为1～3mm。作为优选，步骤S4中，所述釉烧是：将窑温以2～5℃/min的速率升温至1200℃～1280℃，并在1200℃～1280℃下保温0.5～1h。与现有技术相比，本专利技术的有益效果为：(1)本专利技术使用现有大量闲置的稀土尾砂作为熔块的主要原料，不仅实现了稀土尾砂的资源再利用，为矿产资源可持续发展提供了重要途径；而且使用稀土尾砂后，用于制备龙泉青瓷常规龙泉青瓷原料的用量均大大降低，为青瓷熔块釉原料的选择提供了新的方向；(2)由于稀土尾砂中存在的微量稀土元素对青釉有着明显的促进显色能力，因此釉料中无需添加额外的着色剂或陶瓷着色化工原料，不仅大大降低了龙泉青瓷熔块釉的制造成本，而且能在很大程度上解决目前青瓷熔块釉生产中存在的批量生产时不同产品之间色差较大的问题，釉面呈色更为稳定，适合工业化大生产；(3)本专利技术中，不需要对稀土尾砂作任何前处理，可以直接、整体利用，且稀土尾砂来源广，价格低廉，不仅简便了熔块的制备步骤，而且降低了熔块的制备成本；(4)本专利技术的龙泉青瓷熔块釉的原料组成简单，且本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制备龙泉青瓷的熔块，其特征在于，按重量百分比计，原料组成为：稀土尾砂45～95％，龙泉瓷土1～30％，氧化铝粉1～25％，高岭土1～15％，黄釉土1～30％，钾长石0～25％，石英0～20％，滑石0～10％。

【技术特征摘要】
1.一种用于制备龙泉青瓷的熔块，其特征在于，按重量百分比计，原料组成为：稀土尾砂45～95％，龙泉瓷土1～30％，氧化铝粉1～25％，高岭土1～15％，黄釉土1～30％，钾长石0～25％，石英0～20％，滑石0～10％。2.如权利要求1所述的用于制备龙泉青瓷的熔块，其特征在于，按重量百分比计，原料组成为：稀土尾砂80～95％，龙泉瓷土1～5％，氧化铝粉1～3％，高岭土1～5％，黄釉土1～5％，钾长石0～3％，石英0～5％，滑石0～3％。3.如权利要求1或2所述的用于制备龙泉青瓷的熔块，其特征在于，所述稀土尾砂中钾钠氧化物的含量为5.5～8.6％。4.一种龙泉青瓷熔块釉，其特征在于，按重量百分比计，釉料的原料组成为：熔块70～95％、岭根釉土0～20％、石英0～15％、石灰石0～10％、高岭土1～8％、紫金土1～8％；所述熔块为如权利要求1～3任一所述的用于制备龙泉青瓷的熔块。5.如权利要求4所述的龙泉青瓷熔块釉，其特征在于，按重量百分比计，釉料的原料组成为：熔块80～95％、岭根釉土0～5％、石英0～5％、石灰石0～5％、高岭土2～5％、紫金土2～5％。6.如权利要求4或5所述的龙泉青瓷熔块釉，其特征在于，按重量百分比计，釉料的原料组成为：熔块90％、岭根釉土0.5％、石英1.2％、石灰石0...

【专利技术属性】
技术研发人员：施群，周灵，
申请(专利权)人：丽水学院，
类型：发明
国别省市：浙江;33