【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于晶圆加工领域，特别涉及一种湿法蚀刻工艺用的移载机构。
技术介绍
1、湿法蚀刻工艺是将晶圆沉浸于装有蚀刻剂的反应槽中，使蚀刻剂与晶圆表面层产生化学反应，将表面层去除。在实际的工艺过程中，反应槽可能有一个或多个，每个反应槽中均容置有不同的蚀刻剂，通过机械手抓取晶圆并依次沉浸于多种蚀刻剂中，以完成最终的蚀刻。
2、但是，通过机械手作为晶圆的移载机构，其具有诸多缺陷，具体为：(1)通过机械手抓取晶圆并沉浸在蚀刻剂中，晶圆与机械手的接触部位存在蚀刻死角，影响了晶圆的蚀刻效果；(2)通过机械手将晶圆自反应槽a移送至反应槽b中时，晶圆和机械手上会残留有反应槽a中的蚀刻剂，反应槽a中的蚀刻剂混入反应槽b中，会影响反应槽b中的蚀刻剂的浓度，甚至可能会与反应槽b中的蚀刻剂发生反应，影响晶圆的蚀刻效果。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是克服现有技术的不足，提供一种能够消除晶圆的蚀刻死角、增强晶圆的蚀刻效果、同时能够在移送晶圆的过程中清除晶圆上的残留蚀刻剂的湿法蚀刻工艺用的移载机构。
2、为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：
3、一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，用于装载并移动晶圆，所述移载机构包括能够沿着水平方向和竖直方向移动并且能够绕着竖直方向转动的装载座、用于驱动所述装载座运动的第一驱动组件、分别绕其自身轴心线方向可转动的设于所述装载座内的同心轴和偏心轴、用于驱动所述同心轴和偏心轴转动的第二驱动组件，所述同心轴和所述偏心轴相互平行且两者分别用
4、优选地，所述同心轴和所述偏心轴的转动轴线均沿着水平方向延伸，所述第二驱动组件包括绕其自身轴心线方向可转动的设置的第一转动轴、用于驱动所述第一转动轴转动的第一电机，所述第一转动轴的转动轴线沿着竖直方向延伸，所述第一转动轴的下端部分别与所述同心轴和所述偏心轴相传动连接。
5、进一步优选地，所述移载机构还包括传动组件，所述传动组件包括绕其自身轴心线方向可转动的设置的传动轴、分别设于所述传动轴两端的第一齿轮和第二齿轮，所述传动轴的转动轴线的延伸方向与所述同心轴或所述偏心轴的转动轴线的延伸方向相平行，所述第一转动轴的下端部套设有第三齿轮，所述同心轴和所述偏心轴相同方向的一端部分别套设有第四齿轮，所述第一齿轮与所述第三齿轮相啮合，所述第二齿轮与两个第四齿轮相传动连接。
6、更进一步优选地，所述传动组件还包括至少一个第五齿轮，所述第五齿轮分别与所述第二齿轮和两个第四齿轮相啮合，并且所述第五齿轮的直径大于所述第二齿轮和所述第四齿轮的直径。
7、进一步优选地，所述第一驱动组件包括沿着水平方向设置的基板、沿着所述基板的长度方向可滑动的设于所述基板上的第一滑动座、用于驱动所述第一滑动座运动的第一驱动模块、沿着竖直方向可滑动的设于所述第一滑动座上的第二滑动座、用于驱动所述第二滑动座运动的第二驱动模块，所述装载座绕着竖直方向可转动的设于所述第二滑动座上。
8、更进一步优选地，所述基板上沿其自身长度方向设置有至少一条第一导轨，所述第一滑动座可滑动的设于所述的至少一条第一导轨上，所述第一驱动模块包括绕其自身轴心线方向可转动的设于所述第一滑动座上的第二转动轴、用于驱动所述第二转动轴转动的第二电机，所述第二转动轴沿着竖直方向延伸且其下端部套设有第六齿轮，所述基板上沿其自身长度方向设置有齿条，所述第六齿轮与所述齿条相啮合。
9、更进一步优选地，所述第一滑动座上沿着竖直方向设置有至少一条第二导轨，所述第二驱动模块包括绕其自身轴心线方向可转动的设于所述第一滑动座上的丝杆、用于驱动所述丝杆转动的第三电机，所述丝杆沿着竖直方向延伸且其上螺纹连接有滑块，所述滑块与所述的至少一条第二导轨滑动连接，所述第二滑动座固设于所述滑块上。
10、更进一步优选地，所述第一驱动组件还包括绕其自身轴心线方向可转动的设于所述第二滑动座上的第三转动轴、用于驱动所述第三转动轴转动的第四电机，所述第三转动轴沿着竖直方向设置，所述装载座固设于所述第三转动轴的下端部。
11、更进一步优选地，所述第一转动轴穿设于所述第三转动轴中且与所述第三转动轴同轴设置。
12、更进一步优选地，所述第二滑动座上设置有安装板，所述第三转动轴穿设于所述安装板中，所述安装板上设置有多个限位支架，所述限位支架上设有两个上下排布的限位块，所述的两个限位块之间形成限位区域，所述第三转动轴的外周侧部间隔设置有多个限位片，所述的多个限位片与所述的多个限位支架一一对应，每个限位片均能够依次穿过多个限位区域或容置于对应的限位区域中。
13、由于上述技术方案的运用，本专利技术与现有技术相比具有下列优点：
14、(1)通过第一驱动组件的设置，使得本申请的装载机构不仅能够移送晶圆，而且在晶圆沉浸于蚀刻剂中时，装载座能够带动晶圆在蚀刻剂中转动，增强了蚀刻效果。
15、(2)通过同心轴和偏心轴的设置，同心轴和偏心轴承托在晶圆的底部的两侧，在晶圆沉浸于蚀刻剂中时，同心轴和偏心轴的转动能够带动晶圆转动，同时偏心轴的转动还能够间歇性的带动晶圆晃动，极大的消除了晶圆表面的蚀刻死角，进一步的增强了蚀刻效果。
16、(3)在本申请的装载机构移送晶圆的过程中，同心轴和偏心轴的转动能够带动晶圆转动，同时偏心轴的转动还能够间歇性的带动晶圆晃动，使得晶圆能够在转动和晃动的过程中将残留的蚀刻剂甩除，避免残留的蚀刻剂影响晶圆的蚀刻效果。
17、本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点可通过在说明书以及附图中所指出的结构来实现和获得。
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1.一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，用于装载并移动晶圆，其特征在于：所述移载机构包括能够沿着水平方向和竖直方向移动并且能够绕着竖直方向转动的装载座、用于驱动所述装载座运动的第一驱动组件、分别绕其自身轴心线方向可转动的设于所述装载座内的同心轴和偏心轴、用于驱动所述同心轴和偏心轴转动的第二驱动组件，所述同心轴和所述偏心轴相互平行且两者分别用于承托在晶圆的底部的两侧。
2.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述同心轴和所述偏心轴的转动轴线均沿着水平方向延伸，所述第二驱动组件包括绕其自身轴心线方向可转动的设置的第一转动轴、用于驱动所述第一转动轴转动的第一电机，所述第一转动轴的转动轴线沿着竖直方向延伸，所述第一转动轴的下端部分别与所述同心轴和所述偏心轴相传动连接。
3.根据权利要求2所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述移载机构还包括传动组件，所述传动组件包括绕其自身轴心线方向可转动的设置的传动轴、分别设于所述传动轴两端的第一齿轮和第二齿轮，所述传动轴的转动轴线的延伸方向与所述同心轴或所述偏心轴的转动轴线的延伸方向相平行，所述
4.根据权利要求3所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述传动组件还包括至少一个第五齿轮，所述第五齿轮分别与所述第二齿轮和两个第四齿轮相啮合，并且所述第五齿轮的直径大于所述第二齿轮和所述第四齿轮的直径。
5.根据权利要求2-4中任一项权利要求所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述第一驱动组件包括沿着水平方向设置的基板、沿着所述基板的长度方向可滑动的设于所述基板上的第一滑动座、用于驱动所述第一滑动座运动的第一驱动模块、沿着竖直方向可滑动的设于所述第一滑动座上的第二滑动座、用于驱动所述第二滑动座运动的第二驱动模块，所述装载座绕着竖直方向可转动的设于所述第二滑动座上。
6.根据权利要求5所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述基板上沿其自身长度方向设置有至少一条第一导轨，所述第一滑动座可滑动的设于所述的至少一条第一导轨上，所述第一驱动模块包括绕其自身轴心线方向可转动的设于所述第一滑动座上的第二转动轴、用于驱动所述第二转动轴转动的第二电机，所述第二转动轴沿着竖直方向延伸且其下端部套设有第六齿轮，所述基板上沿其自身长度方向设置有齿条，所述第六齿轮与所述齿条相啮合。
7.根据权利要求5所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述第一滑动座上沿着竖直方向设置有至少一条第二导轨，所述第二驱动模块包括绕其自身轴心线方向可转动的设于所述第一滑动座上的丝杆、用于驱动所述丝杆转动的第三电机，所述丝杆沿着竖直方向延伸且其上螺纹连接有滑块，所述滑块与所述的至少一条第二导轨滑动连接，所述第二滑动座固设于所述滑块上。
8.根据权利要求5所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述第一驱动组件还包括绕其自身轴心线方向可转动的设于所述第二滑动座上的第三转动轴、用于驱动所述第三转动轴转动的第四电机，所述第三转动轴沿着竖直方向设置，所述装载座固设于所述第三转动轴的下端部。
9.根据权利要求8所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述第一转动轴穿设于所述第三转动轴中且与所述第三转动轴同轴设置。
10.根据权利要求9所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述第二滑动座上设置有安装板，所述第三转动轴穿设于所述安装板中，所述安装板上设置有多个限位支架，所述限位支架上设有两个上下排布的限位块，所述的两个限位块之间形成限位区域，所述第三转动轴的外周侧部间隔设置有多个限位片，所述的多个限位片与所述的多个限位支架一一对应，每个限位片均能够依次穿过多个限位区域或容置于对应的限位区域中。
...【技术特征摘要】
1.一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，用于装载并移动晶圆，其特征在于：所述移载机构包括能够沿着水平方向和竖直方向移动并且能够绕着竖直方向转动的装载座、用于驱动所述装载座运动的第一驱动组件、分别绕其自身轴心线方向可转动的设于所述装载座内的同心轴和偏心轴、用于驱动所述同心轴和偏心轴转动的第二驱动组件，所述同心轴和所述偏心轴相互平行且两者分别用于承托在晶圆的底部的两侧。
2.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述同心轴和所述偏心轴的转动轴线均沿着水平方向延伸，所述第二驱动组件包括绕其自身轴心线方向可转动的设置的第一转动轴、用于驱动所述第一转动轴转动的第一电机，所述第一转动轴的转动轴线沿着竖直方向延伸，所述第一转动轴的下端部分别与所述同心轴和所述偏心轴相传动连接。
3.根据权利要求2所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述移载机构还包括传动组件，所述传动组件包括绕其自身轴心线方向可转动的设置的传动轴、分别设于所述传动轴两端的第一齿轮和第二齿轮，所述传动轴的转动轴线的延伸方向与所述同心轴或所述偏心轴的转动轴线的延伸方向相平行，所述第一转动轴的下端部套设有第三齿轮，所述同心轴和所述偏心轴相同方向的一端部分别套设有第四齿轮，所述第一齿轮与所述第三齿轮相啮合，所述第二齿轮与两个第四齿轮相传动连接。
4.根据权利要求3所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述传动组件还包括至少一个第五齿轮，所述第五齿轮分别与所述第二齿轮和两个第四齿轮相啮合，并且所述第五齿轮的直径大于所述第二齿轮和所述第四齿轮的直径。
5.根据权利要求2-4中任一项权利要求所述的一种湿法蚀刻工艺用的移载机构，其特征在于：所述第一驱动组件包括沿着水平方向设置的基板、沿着所述基板的长度方向可滑动的设于所述基板上的第一滑动座、用于驱动所述第一滑动座运动的第一驱动模块、沿着竖直方向可滑动的设于所述第一滑动座上的第二滑动座、用于驱动...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐福兴，周志刚，王静强，黄锡钦，
申请(专利权)人：昆山基侑电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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