一种自清洁式晶圆清洗机台制造技术

技术编号:34870742 阅读:32 留言:0更新日期:2022-09-08 08:17
本实用新型专利技术公开了一种自清洁式晶圆清洗机台,包括机台本体和自动清洁机构,机台本体的中部设置有清洗槽,机台本体的上表面沿着边缘均设置有清洗挡罩,清洗挡罩的长度方向两侧内壁均设置有竖向搭接块,自动清洁机构包括滑板一、滑板二、连接板和转动驱动组件,滑板一和滑板二分别滑接在两条直线导轨上,转动驱动组件的驱动轴上安装有驱动齿轮,滑板一靠近清洗挡罩内壁的那侧安装有直线齿条并与驱动齿轮啮合连接,本实用新型专利技术通过在连接板底部设置清洁水箱并在转动驱动组件的驱动下,能对机台本体进行自动冲洗清洁,这样不仅提高了清洁效率,且降低了操作人员的劳动强度,具有较高的使用价值。使用价值。使用价值。

【技术实现步骤摘要】
一种自清洁式晶圆清洗机台


[0001]本技术涉及晶圆清洗设备
,尤其涉及一种自清洁式晶圆清洁机台。

技术介绍

[0002]传统对晶圆表面清洗采用产出比较高的槽式清洗设备,清洗设备的主要清洗步骤一般先进行化学液清洗浸泡,然后进行清水洗净工序。
[0003]晶圆在化学液清洗浸泡后,晶圆表面依旧会残留一些副产物和化学液,所以后续的清水洗净工艺尤为重要,若清洗不干净会在晶圆表面产生如化学液残留或晶圆表面存在颗粒物之类的缺陷。
[0004]现有的清洗机机台在清洗完晶圆后,机台表面经常会留有化学药剂,且需要操作人员将这些化学药剂进行手动清洁,这样不仅浪费操作人员的时间,且提高了操作人员的劳动强度,为此,本技术公开了一种自清洁式晶圆清洗机台。

技术实现思路

[0005]技术目的:为了解决
技术介绍
中存在的不足,所以本技术公开了一种自清洁式晶圆清洗机台。
[0006]技术方案:一种自清洁式晶圆清洗机台,其特征在于,包括机台本体和自动清洁机构,所述机台本体的中部设置有清洗槽,所述机台本体的上表面沿着边缘均设置有清洗挡罩,所述清洗挡罩的长度方向两侧内壁均设置有竖向搭接块,且每个所述竖向搭接块上均设置有直线导轨;
[0007]所述自动清洁机构包括滑板一、滑板二、连接板和转动驱动组件,所述滑板一和滑板二分别滑接在两条直线导轨上,所述连接板安装在滑动板一和滑动板二的同侧之间,且所述连接板底部安装有可喷水的清洁水箱;
[0008]所述转动驱动组件设置在靠近滑板一那侧的清洗挡罩外部,所述转动驱动组件的驱动轴上安装有驱动齿轮,所述滑板一靠近清洗挡罩内壁的那侧安装有直线齿条并与驱动齿轮啮合连接。
[0009]进一步的是,所述机台本体的底部设置有与清洗槽连通的排废通道,且所述排废通道上安装有控制阀门。
[0010]进一步的是,所述转动驱动组件包括输出端连接有减速器的伺服电机,所述伺服电机和减速器均设置在靠近滑板一那侧的清洗挡罩外部,且所述驱动齿轮安装在减速器的驱动轴上。
[0011]进一步的是,所述清洗挡罩靠近滑板一的那侧设置有用于驱动齿轮穿过的让位槽。
[0012]进一步的是,所述清洁水箱的底部排列设置有高压喷嘴,且所述高压喷嘴指向机台本体设置。
[0013]进一步的是,所述连接板底部所设的清洁水箱通过管道外接有供水泵。
[0014]本技术实现以下有益效果:
[0015]本技术通过在连接板底部设置清洁水箱并在转动驱动组件的驱动下,能对机台本体进行自动冲洗清洁,这样不仅提高了清洁效率,且降低了操作人员的劳动强度,具有较高的使用价值。
附图说明
[0016]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本公开的实施例,并于说明书一起用于解释本公开的原理。
[0017]图1为本技术公开的整体结构示意图;
[0018]图2为本技术公开的俯视局部结构示意图。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。
[0020]实施例
[0021]参考图1

2,一种自清洁式晶圆清洗机台,包括机台本体10和自动清洁机构20,机台本体的中部设置有清洗槽13,机台本体的上表面沿着边缘均设置有清洗挡罩30,清洗挡罩的长度方向两侧内壁均设置有竖向搭接块31,且每个竖向搭接块上均设置有直线导轨32;
[0022]自动清洁机构包括滑板一22、滑板二23、连接板24和转动驱动组件21,滑板一和滑板二分别滑接在两条直线导轨上,连接板安装在滑动板一和滑动板二的同侧之间,且连接板底部安装有可喷水的清洁水箱25;
[0023]转动驱动组件设置在靠近滑板一那侧的清洗挡罩外部,转动驱动组件的驱动轴上安装有驱动齿轮27,滑板一靠近清洗挡罩内壁的那侧安装有直线齿条28并与驱动齿轮啮合连接。
[0024]在其中一个实施例中,机台本体的底部设置有与清洗槽连通的排废通道11,且排废通道上安装有控制阀门12,在停止对晶圆进行清洗时以及清洗机构在对机台本体清洗结束后,操作人员可控制该控制阀门打开,清洗槽内的废水将会被排出。
[0025]在其中一个实施例中,转动驱动组件包括输出端连接有减速器212的伺服电机211,伺服电机和减速器均设置在靠近滑板一那侧的清洗挡罩外部,且驱动齿轮安装在减速器的驱动轴上,在伺服电机和减速器配合工作时,驱动齿轮将带动滑板一于直线导轨上伸缩,由于滑板一、滑板二和连接连接在一起,所以这三者都将在机台本体上方进行伸缩移动。
[0026]在其中一个实施例中,清洗挡罩靠近滑板一的那侧设置有用于驱动齿轮穿过的让位槽33。
[0027]在其中一个实施例中,清洁水箱的底部排列设置有高压喷嘴26,且高压喷嘴指向机台本体设置,从而保证高压喷嘴喷出的清洗液能实现对机台本体进行清洁。
[0028]在其中一个实施例中,连接板底部所设的清洁水箱通过管道50外接有供水泵40,
在对机台本体进行清洁时,供水泵将向各个清洁水箱供水,这样清洗水箱便可通过高压喷嘴向机台本体进行喷水。
[0029]本技术的操作原理为,在对晶圆清洗结束后,转动驱动组件带动驱动齿轮转动,并且供水泵向各个清洁水箱内供水,且在滑板一、滑板二和连接板在进行伸缩移动的过程中,清洁水箱底部所设置的各个高压喷嘴将实现对机台本体进行喷水清洁,且清洁过程中的废水将流入到清洗中,最后再进行排放。
[0030]上述实施例只为说明本技术的技术构思及特点,其目的是让熟悉该
的技术人员能够了解本技术的内容并据以实施,并不能以此来限制本技术的保护范围。凡根据本技术精神实质所作出的等同变换或修饰,都应涵盖在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自清洁式晶圆清洗机台,其特征在于,包括机台本体和自动清洁机构,所述机台本体的中部设置有清洗槽,所述机台本体的上表面沿着边缘均设置有清洗挡罩,所述清洗挡罩的长度方向两侧内壁均设置有竖向搭接块,且每个所述竖向搭接块上均设置有直线导轨;所述自动清洁机构包括滑板一、滑板二、连接板和转动驱动组件,所述滑板一和滑板二分别滑接在两条直线导轨上,所述连接板安装在滑动板一和滑动板二的同侧之间,且所述连接板底部安装有可喷水的清洁水箱;所述转动驱动组件设置在靠近滑板一那侧的清洗挡罩外部,所述转动驱动组件的驱动轴上安装有驱动齿轮,所述滑板一靠近清洗挡罩内壁的那侧安装有直线齿条并与驱动齿轮啮合连接。2.根据权利要求1所述的一种自清洁式晶圆清洗机台,其特征在于,所述机台...

【专利技术属性】
技术研发人员:周志刚王静强徐福兴黄锡钦陈亮
申请(专利权)人:昆山基侑电子科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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