【技术实现步骤摘要】
本公开的实施例主要涉及计算机辅助设计领域，并且更具体地，涉及用于光学邻近效应修正的方法、设备和介质。
技术介绍
1、在集成电路（integrated circuit，ic）制造中，光刻是指利用光学投影曝光的方法将掩模上的图形转移到晶圆上的过程，其是集成电路制造的关键步骤。计算光刻技术是90年代至今图形微缩技术继续向前发展的重要推动力，其旨在现有光刻机等设备硬件环境不变的情况下，通过提升分辨率等软件技术来使曝光最小尺寸突破硬件的限制。
2、随着光刻技术的日益发展，光刻过程受光学邻近效应的影响越来越严重。这会导致晶圆上的图形与所期望的图形之间存在不期望有的差异，进而造成集成电路的电学特性出现偏差，并且影响最终所获得的芯片的功能和良率。光学邻近效应修正（opticalproximity correction，opc）是一种针对掩模的预补偿技术。通过对掩模上的版图图形进行补偿修正，使其经过曝光显影后在晶圆上得到图形与所期望的图形一致。因此，如何更高效地进行光学邻近效应修正成为亟待解决的问题。
技术实现思路
1、在本公开的第一方面中，提供了一种用于光学邻近效应修正的方法。该方法包括：基于掩模制造约束和与光学邻近效应修正中对图形片段的移动有关的移动距离信息，从待修正的目标版图包括的多个可移动片段中确定多个目标片段，多个目标片段被划分到至少一个片段组中，其中多个可移动片段中的每个可移动片段是目标版图中的图形的一部分，并且能够在针对目标版图的光学邻近效应修正中被移动；基于多个目标片段中
2、在本公开的第二方面中，提供了一种电子设备。该电子设备包括处理器、以及与处理器耦合的存储器。该存储器具有存储于其中的指令，指令在被处理器执行时使电子设备执行根据本公开的第一方面的用于芯片排版的方法。
3、在本公开的第三方面中，提供了一种计算机可读存储介质。该计算机可读存储介质上存储有计算机程序。计算机程序在被处理器执行时实现根据本公开的第一方面的用于芯片排版的方法。
4、在根据本公开的各实施例的光学邻近效应修正方案中，通过考虑基于掩模制造约束和移动距离信息挑选的多个目标片段及其约束影响信息，来确定用于光学邻近效应修正的片段移动距离。通过这种方式，一方面，可以基于掩模制造约束和移动距离信息挑选出具有违反掩模制造约束的可能性的目标片段，从而可以有效地控制后续确定opc结果所需要的计算资源。以此方式，可以有效地提高光学邻近效应修正的效率。另一方面，通过基于挑选出的目标片段及其约束影响信息来进行光学邻近效应修正，可以在确定用于光学邻近效应修正的片段移动距离的同时，考虑片段移动距离对opc结果是否符合掩模制造约束的影响。以此方式，可以高效地获得兼顾opc最佳效果和掩模制造规则的opc结果。根据本公开的各实施例的光学邻近效应修正方案可以有效地提高光学邻近效应修正的效率和质量。
5、应当理解，本
技术实现思路
部分中所描述的内容并非旨在限定本公开的实施例的关键特征或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其他特征将通过以下的描述而变得容易理解。
【技术保护点】
1.一种用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，所述方法包括：
2. 根据权利要求1所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，基于掩模制造约束和与光学邻近效应修正中对图形片段的移动有关的移动距离信息，从待修正的目标版图包括的多个可移动片段中确定多个目标片段包括：
3.根据权利要求2所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，所述移动距离信息包括针对所述两个可移动片段中的第一可移动片段的最大可移动距离，并且基于所述两个可移动片段之间的间距、所述掩模制造约束和所述移动距离信息，确定针对所述两个可移动片段是否违反所述掩模制造约束的预测结果包括：
4.根据权利要求2所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，所述移动距离信息包括针对所述两个可移动片段中的第二可移动片段的预测移动距离，所述预测移动距离基于对所述目标版图的曝光仿真而被确定，并且基于所述两个可移动片段之间的间距、所述掩模制造约束和所述移动距离信息，确定针对所述两个可移动片段是否违反所述掩模制造约束的预测结果包括：
5. 根据权利要求4所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特
6. 根据权利要求1所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，所述多个目标片段中的第一对目标片段包括第一目标片段和第二目标片段，
7.根据权利要求1所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，基于所述约束影响信息，确定所述多个可移动片段的用于所述光学邻近效应修正的相应目标移动距离包括：
8. 根据权利要求7所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，基于所述成本，确定所述多个可移动片段的所述相应目标移动距离包括：
9. 根据权利要求7所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，所述曝光扰动强度包括多个曝光扰动分量，所述多个曝光扰动分量中的每个曝光扰动分量与所述目标版图包括的全部片段中的一个片段相对应，并且指示在根据针对所述多个可移动片段的所述相应候选移动距离修正后的所述目标版图中该片段受光学邻近效应的影响程度，
10.根据权利要求9所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，针对所述多个约束扰动分量中的每个约束扰动分量的权重基于以下至少一项而被确定：
11.根据权利要求1至10中任一项所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，所述掩模制造约束包括以下至少一项：图形最小间距或图形最小宽度。
12. 一种电子设备，其特征在于，包括：
13.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序在被处理器执行时实现根据权利要求1至11中任一项所述的用于光学邻近效应修正的方法。
...【技术特征摘要】
1.一种用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，所述方法包括：
2. 根据权利要求1所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，基于掩模制造约束和与光学邻近效应修正中对图形片段的移动有关的移动距离信息，从待修正的目标版图包括的多个可移动片段中确定多个目标片段包括：
3.根据权利要求2所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，所述移动距离信息包括针对所述两个可移动片段中的第一可移动片段的最大可移动距离，并且基于所述两个可移动片段之间的间距、所述掩模制造约束和所述移动距离信息，确定针对所述两个可移动片段是否违反所述掩模制造约束的预测结果包括：
4.根据权利要求2所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，所述移动距离信息包括针对所述两个可移动片段中的第二可移动片段的预测移动距离，所述预测移动距离基于对所述目标版图的曝光仿真而被确定，并且基于所述两个可移动片段之间的间距、所述掩模制造约束和所述移动距离信息，确定针对所述两个可移动片段是否违反所述掩模制造约束的预测结果包括：
5. 根据权利要求4所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，针对所述第二可移动片段的所述预测移动距离通过以下方式而被确定：
6. 根据权利要求1所述的用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，所述多个目标片段中的第一对目标片段包括第一目标片...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：全芯智造技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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