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用于光学邻近效应修正的方法、设备和介质技术
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文档序号:40114047
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根据本公开的示例实施例提供了用于光学邻近效应修正的方法、设备和介质。在该方法中,基于掩模制造约束和与光学邻近效应修正中对图形片段的移动有关的移动距离信息,从待修正的目标版图包括的多个可移动片段中确定多个目标片段。多个目标片段被划分到至少一个...
该专利属于全芯智造技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过全芯智造技术有限公司授权不得商用。
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