气体环境过渡设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种气体环境过渡设备，设于两个不同气体环境设备之间以将基片从第一气体环境设备过渡到第二气体环境设备，包括控制装置、传感器、真空室、连接所述真空室与第一气体环境设备的第一闸阀、连接真空室与第二气体环境设备的第二闸阀、设于真空室内的传输机构及与真空室连通的抽气充气机构，该控制装置分别与第一闸阀、第二闸阀、传感器及抽气充气机构电连接，该控制装置控制第一闸阀打开并控制传输机构将基片送入真空室，传感器检测基片完全进入真空室内并通过控制装置控制第一闸阀关闭及传输机构停止传输所述基片，同时控制装置控制抽气充气机构对真空室依次进行抽气和充气，直到真空室的气压与第二气体环境设备内的压力相同后，控制装置控制第二闸阀打开并控制传输机构将所述基片送出真空室。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种气体环境过渡设备，更具体地涉及一种设于两个不同气体环 境设备之间以将基片从第一气体环境设备过渡到第二气体环境设备的气体环境过渡设备。
技术介绍
OLED的基本结构是由一薄而透明具半导体特性之铟锡氧化物(ITO)，与正极相 连，再加上另一个金属阴极，如三明治的结构。其中还包括有机薄膜。与IXD相比，有机材料 及金属对氧气及水气比较敏感，如何最大程度避免有机薄膜和金属被空气氧化是OLED制 造过程中的技术难点之一。在OLED制造的过程中，基板在不同的工序过程中需要在不同的气体环境下进行， 若基板从一种气体环境直接进入另一种气体环境中，会导致下一气体环境洁净度降低，从 而影响基板的制造环境。例如，在OLED制造过程中，有的工序需要在惰性气体(如氮气) 的环境下进行的，如基板从大气环境进入氮气环境，很容易把氧气和水一同带到氮气环境 中，造成在制造或者使用的过程中有机材料和金属电极容易被氧化，从而降低OLED的使用 寿命和影响质量。因此，有必要提供一种两个不同气体环境的工序之间添加了一个气体环境过渡设 备来克服上述缺陷。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种气体环境过渡设备，能够有效保证工序在所需的气 体环境下进行，避免受到其他气体干扰，从而提高产品质量。为实现上述目的，本技术提供一种气体环境过渡设备，设于两个不同气体环 境设备之间以将基片从第一气体环境设备过渡到第二气体环境设备，包括控制装置、传感 器、真空室、连接所述真空室与第一气体环境设备的第一间阀、连接所述真空室与第二气体 环境设备的第二闸阀、设于所述真空室内的传输机构及与所述真空室连通的抽气充气机 构，所述控制装置分别与所述第一间阀、第二间阀、传感器及抽气充气机构电连接，所述控 制装置控制所述第一闸阀打开并控制所述传输机构将所述基片送入所述真空室，所述传感 器检测所述基片完全进入所述真空室内并通过所述控制装置控制所述第一间阀关闭及所 述传输机构停止传输所述基片，同时所述控制装置控制所述抽气充气机构对所述真空室依 次进行抽气和充气，直到所述真空室的气压与所述第二气体环境设备内的压力相同后，所 述控制装置控制所述第二闸阀打开并控制所述传输机构将所述基片送出所述真空室。较佳地，所述传感器包括第一传感器和第二传感器，所述第一传感器用于检测出 所述基片完全进入所述真空室，所述第二传感器用于检测出所述基片完全送出所述真空 室。较佳地，所述传输机构主要由排列在所述真空室内的若干滚轮组成，所述第一传 感器固定于所述真空室内并靠近所述第一闸阀，所述第二传感器固定于所述真空室内并靠近所述第二闸阀。较佳地，所述抽气充气机构包括抽气装置、充气装置、连接所述抽气装置与所述真 空室的第一阀门、连接所述充气装置与所述真空室的第二阀门及真空规，所述控制装置控 制所述第一阀门打开以使所述抽气装置对所述真空室进行抽气；当所述真空规检测到所述 真空室为本底真空时，所述控制装置控制所述第一阀门关闭及同时控制所述第二阀门打开 以使所述充气装置对所述真空室进行充气；当所述真空规检测到所述真空室的气压与所述 第二气体环境设备没的压力相同后，所述控制装置控制所述第二阀门关闭。较佳地，所述真空室设有顶盖，所述顶盖上设有第一观察窗；所述真空室的侧部设 有第二观察窗。较佳地，所述第一观察窗包括观察窗玻璃、承载所述观察窗玻璃的观察窗固定座、 设于所述观察窗玻璃与所述观察窗固定座之间的观察窗垫片、设于所述观察窗玻璃与所述 顶盖之间的密封0圈及支撑所述密封0圈的支撑座。较佳地，所述第一闸阀与第二闸阀均包括插板槽和设于所述插板槽内的插板，且 所述插板槽和插板之间设有密封圈。较佳地，所述第一阀门与所述第二阀门均为气动阀门，且所述抽气装置为干泵，所 述充气装置向所述真空室充入的气体与所述第二气体环境设备的气体相同。与现有技术相比，本技术的气体环境过渡设备采用真空室与抽气充气机构的 配合，使离开第一气体环境设备的基片完全进入该气体环境过渡设备得真空室后，启动所 述抽气充气机构先对所述真空室进行抽气以抽走在基片运输过程中一起带过来的气体，再 向该真空室充入第二气体环境设备所需的气体，从而有效保证基片进入第二气体环境设备 时该第二气体环境设备的纯净度，能够有效保证工序在所需的气体环境下进行，避免受到 其他气体干扰，从而提高产品质量。而且，整个气体环境过渡设备都按照预设的程序控制进 行，自动化程度高，保证整条生产线的连贯性，提高生产效率。通过以下的描述并结合附图，本技术将变得更加清晰，这些附图用于解释本 技术的实施例。附图说明图1为本技术气体环境过渡设备的结构示意图。图2为基片准备输入本技术气体环境过渡设备的状态示意图。图3为基片部分输入本技术气体环境过渡设备的状态示意图。图4为基片全部输入本技术气体环境过渡设备的状态示意图。图5为基片输出本技术气体环境过渡设备的状态示意图。具体实施方式现在参考附图描述本技术的实施例，附图中类似的元件标号代表类似的元 件。如上所述，本技术提供了一种气体环境过渡设备，该气体环境过渡设备能够有效保 证工序在所需的气体环境下进行，避免受到其他气体干扰，从而提高产品质量。请参考图1，为本技术气体环境过渡设备的结构示意图。所述气体环境过渡设 备设于两个不同气体环境设备之间以将基片90从第一气体环境设备100过渡到第二气体环境设备200，包括真空室10、第一间阀20、第二间阀30、传输机构40、抽气充气机构50、控 制装置(图未示)、第一传感器60及第二传感器70，所述第一间阀20连接所述真空室10 与第一气体环境设备100，所述第二间阀30连接所述真空室10与第二气体环境设备200， 所述传输机构40容设于所述真空室10内以将基片90从第一气体环境设备经过真空室10 传送到第二气体环境设备，所述抽气充气机构50与所述真空室10连通并对所述真空室10 抽气和充气，所述控制装置分别与所述第一间阀20、第二间阀30、第一传感器60、第二传感 器70及抽气充气机构50电连接。在本实施例中，所述第一气体环境设备100为大气环境设备，所述第二气体环境 设备200为纯氮气环境设备。可以理解地，所述第一气体环境设备100与第二气体环境设 备200并不局限于本实施例的大气环境设备和纯氮气环境设备。请继续参考图1，所述传输机构40主要由排列在所述真空室10内的若干滚轮组 成，所述若干滚轮用于将所述基片90送入或送出所述真空室10。所述第一传感器60固定 于所述真空室10内并靠近所述第一闸阀20，所述第二传感器70固定于所述真空室10内 并靠近所述第二间阀30，所述第一传感器60用于检测出所述基片90完全进入所述真空室 10，所述第二传感器70用于检测出所述基片90完全送出所述真空室10。所述抽气充气机构50包括抽气装置51、充气装置52、连接所述抽气装置51与所 述真空室10的第一阀门53、连接所述充气装置52与所述真空室10的第二阀门54及真空 规55，所述第一阀门53与所述第二阀门54均为气动阀门，且所述抽气装置51为干泵，所 述充气装置52向所述真空室10充入的气体为纯氮气。所述控制装置通过控制所述第一阀 门53的打开或关闭而控制本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体环境过渡设备，设于两个不同气体环境设备之间以将基片从第一气体环境设备过渡到第二气体环境设备，其特征在于：包括控制装置、传感器、真空室、连接所述真空室与第一气体环境设备的第一闸阀、连接所述真空室与第二气体环境设备的第二闸阀、设于所述真空室内的传输机构及与所述真空室连通的抽气充气机构，所述控制装置分别与所述第一闸阀、第二闸阀、传感器及抽气充气机构电连接，所述控制装置控制所述第一闸阀打开并控制所述传输机构将所述基片送入所述真空室，所述传感器检测所述基片完全进入所述真空室内并通过所述控制装置控制所述第一闸阀关闭及所述传输机构停止传输所述基片，同时所述控制装置控制所述抽气充气机构对所述真空室依次进行抽气和充气，直到所述真空室的气压与所述第二气体环境设备内的压力相同后，所述控制装置控制所述第二闸阀打开并控制所述传输机构将所述基片送出所述真空室。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨明生，王银果，刘惠森，范继良，王勇，王曼媛，张华，
申请(专利权)人：东莞宏威数码机械有限公司，
类型：实用新型
国别省市：44[中国|广东]