【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于与真空泵送系统一起使用的阀模块，包括但不限于用于从半导体加工工具中泵送流体的真空系统。
技术介绍
1、半导体制造工厂制造集成的电路芯片。在制造这些装置的过程中，晶片通过多个不同的加工站进行加工，所述加工站包括在其处晶片经历例如化学气相沉积、物理气相沉积、注入、刻蚀和光刻工艺的站。这些工艺中的许多工艺涉及使用气体环境，并经常需要使用高真空和降低的气体压力。
2、真空泵用于在加工室内提供这些降低的气体压力，提供室排气，并维持工艺气体的流动。
技术实现思路
1、当半导体加工工具的室内压力未处于工作真空时，例如在已经将气体室通气到大气压力以使得能够进行维修或维护之后，将执行所谓的“抽气事件(抽空降压事件，pump-down event)”以在室内建立所需的降低的气体压力。抽气事件涉及从室内泵送气体，以便将其中的压力降至所需水平。
2、真空和消减系统可以用于通过公共的泵通过公共的歧管同时从半导体加工工具的多个气体室泵送气体。本专利技术的专利技术人已经认识到，在这样的系统中，因为多个室与公共的歧管流体连接，所以对这些室中的一者执行抽气事件可能影响这些室中的其他室内的条件。例如，对一个室执行的抽气事件可能引起在连接至同一歧管的其他室中的高度不期望的波动。
3、本专利技术的方面提供了一种用于控制来自半导体加工工具的多个室的流体的阀模块，使得减少或消除这些缺陷。
4、在第一方面，提供了一种用于真空泵送系统的阀模块。该阀模块包括：多个入
5、多分叉导管中的每一者可以包括第一分支和第二分支，第一分支流体地连接到第一流体管线歧管，并且第二分支流体地连接到第二流体管线歧管。设置在相应的多分叉导管中的一个或多个阀中的每一者可以包括设置在该多分叉导管的第一分支中的第一阀和设置在该多分叉导管的第二分支中的第二阀。
6、多个压力传感器可以包括第一压力传感器，所述第一压力传感器配置为测量与多个入口中的第一入口相关联的流体的压力，第一入口是多个多分叉导管中的第一多分叉导管的入口。阀控制器可以配置为，响应于从第一压力传感器接收的压力测量结果满足一个或多个第一标准，控制设置在第一多分叉导管中的一个或多个阀以引导流体流通过第一多分叉导管到第二流体管线歧管。一个或多个第一标准可以由一个或多个标准组成，该一个或多个标准从由以下各项组成的成组的标准中选择：测量的压力超过第一阈值；测量的压力超过第一阈值达至少第一时间段；测量的压力的增加率超过第二阈值；并且测量的压力的增加率超过第二阈值达至少第二时间段。阀控制器可以配置为，响应于从第一压力传感器接收的压力测量结果满足一个或多个第二标准，控制设置在第一多分叉导管中的一个或多个阀以引导流体流通过第一多分叉导管到第一流体管线歧管。所述一个或多个第二标准可以由一个或多个标准组成，该一个或多个标准从由以下各项组成的成组的标准中选择：测量的压力小于或等于第三阈值；测量的压力小于第三阈值达至少第三时间段；测量的压力的减小率超过第四阈值；测量的压力的减小率超过第四阈值达至少第四时间段；已经过预定的时间段。
7、至少所述多个入口、第一流体管线歧管、第二流体管线歧管、多个多分叉导管、多个阀以及所述阀控制器可以被配置为单个集成单元并且容纳在框架中。
8、阀模块还可包括多个另外的阀，其中，对于多个阀中的每个阀，相应的成对的另外的阀设置在该阀的两侧。所述另外的阀可以是手动操作的阀。
9、阀模块还可包括气体入口，用于接收气体以用于吹扫多分叉导管中的一个或多个多分叉导管和/或致动所述阀中的一个或多个阀。
10、在另一方面，提供了一种系统，包括：半导体加工工具，其包括多个加工室；根据任何前述方面所述的阀模块，其中，所述多个入口中的每个入口流体地联接到所述多个加工室中的相应加工室；以及一个或多个真空泵，其操作地联接到第一流体管线歧管和第二流体管线歧管。
11、该系统还可包括用于向所述加工室中的一者或多者提供冷却流体的冷却装置，其中，阀模块设置在冷却装置的顶部上。
12、在另一方面，提供了一种用于真空泵送系统的阀模块的方法，所述阀模块包括：在多个入口中的每个入口处接收相应的被泵送的流体，每个入口是到多个多分叉导管的相应多分叉导管的入口，每个多分叉导管将相应的入口流体地连接到第一流体管线歧管和第二流体管线歧管两者；通过多个压力传感器中的一个或多个压力传感器测量被泵送的流体中的相应一种流体的压力；以及通过控制器基于一个或多个测量的压力控制多个阀中的一个或多个阀，该一个或多个阀设置在多个多分叉导管中的第一多分叉导管中；其中，控制所述一个或多个阀可选择性地引导流体流通过所述第一多分叉导管至仅所述第一流体管线歧管或仅所述第二流体管线歧管。
13、该方法还可以包括通过多个压力传感器中的第一压力传感器测量在第一多分叉导管中被泵送的流体的压力，和响应于从第一压力传感器接收的压力测量结果满足一个或多个第一标准，控制设置在第一多分叉导管中的一个或多个阀以引导流体流通过第一多分叉导管到第二流体管线歧管及防止流体流通过第一多分叉导管到第一流体管线歧管。该方法还可以包括，此后，响应于从第一压力传感器接收的压力测量结果满足一个或多个第二标准，控制设置在第一多分叉导管中的一个或多个阀以防止流体流通过第一多分叉导管到第二流体管线歧管，并且随后引导流体流通过第一多分叉导管到第一流体管线歧管。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种用于真空泵送系统的阀模块，所述阀模块包括：
2.根据权利要求1所述的阀模块，其中：
3.根据权利要求1或2所述的阀模块，其中：
4.根据权利要求3所述的阀模块，其中，所述一个或多个第一标准由一个或多个标准组成，所述一个或多个标准从由以下各项组成的成组的标准选择：测量的压力超过第一阈值；所述测量的压力超过所述第一阈值达至少第一时间段；所述测量的压力的增加率超过第二阈值；以及所述测量的压力的增加率超过所述第二阈值达至少第二时间段。
5.根据权利要求3或4所述的阀模块，其中，所述阀控制器被配置为响应于从所述第一压力传感器接收的压力测量结果满足一个或多个第二标准，控制设置在所述第一多分叉导管中的一个或多个阀，以引导流体流通过所述第一多分叉导管到所述第一流体管线歧管。
6.根据权利要求5所述的阀模块，其中，所述一个或多个第二标准由一个或多个标准组成，该一个或多个标准从由以下各项组成的成组的标准选择：测量的压力小于或等于第三阈值；所述测量的压力小于所述第三阈值达至少第三时间段；所述测量的压力的减小率超过第四阈值；所述测量的压
7.根据权利要求1到6中的任一项所述的阀模块，其中，至少所述多个入口、所述第一流体管线歧管、所述第二流体管线歧管、所述多个多分叉导管、所述多个阀和所述阀控制器配置为单个集成单元并容纳在框架中。
8.根据权利要求1到7中的任一项所述的阀模块，还包括多个另外的阀，其中，对于所述多个阀中的每个阀，相应成对的另外的阀被设置在该阀的两侧。
9.根据权利要求8所述的阀模块，其中，所述另外的阀是手动操作的阀。
10.根据权利要求1到9中的任一项所述的阀模块，还包括气体入口，用于接收用于吹扫所述多分叉导管中的一者或多者和/或致动所述阀中的一者或多者的气体。
11.一种系统，包括：
12.根据权利要求11所述的系统，还包括用于向所述加工室中的一者或多者提供冷却流体的冷却装置，其中，所述阀模块被设置在所述冷却装置的顶部上。
13.一种用于真空泵送系统的阀模块的方法，所述阀模块包括：
14.根据权利要求13所述的方法，还包括：
15.根据权利要求14所述的方法，还包括，此后，响应于从所述第一压力传感器接收的压力测量结果满足一个或多个第二标准，控制设置在所述第一多分叉导管中的一个或多个阀，以防止流体流通过所述第一多分叉导管到所述第二流体管线歧管，并随后引导流体流通过所述第一多分叉导管到所述第一流体管线歧管。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于真空泵送系统的阀模块，所述阀模块包括：
2.根据权利要求1所述的阀模块，其中：
3.根据权利要求1或2所述的阀模块，其中：
4.根据权利要求3所述的阀模块，其中，所述一个或多个第一标准由一个或多个标准组成，所述一个或多个标准从由以下各项组成的成组的标准选择：测量的压力超过第一阈值；所述测量的压力超过所述第一阈值达至少第一时间段；所述测量的压力的增加率超过第二阈值；以及所述测量的压力的增加率超过所述第二阈值达至少第二时间段。
5.根据权利要求3或4所述的阀模块，其中，所述阀控制器被配置为响应于从所述第一压力传感器接收的压力测量结果满足一个或多个第二标准，控制设置在所述第一多分叉导管中的一个或多个阀，以引导流体流通过所述第一多分叉导管到所述第一流体管线歧管。
6.根据权利要求5所述的阀模块，其中，所述一个或多个第二标准由一个或多个标准组成，该一个或多个标准从由以下各项组成的成组的标准选择：测量的压力小于或等于第三阈值；所述测量的压力小于所述第三阈值达至少第三时间段；所述测量的压力的减小率超过第四阈值；所述测量的压力的减小率超过所述第四阈值达至少第四时间段；已经过预定的时间段。
7.根据权利要求1到6中的任一项所述的阀模块，其中，至少所述多...
【专利技术属性】
技术研发人员：M·J·诺灵顿，H·邵，S·菲利普，
申请(专利权)人：埃地沃兹有限公司，
类型：发明
国别省市：
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