入口组件制造技术

技术编号:40832856 阅读:27 留言:0更新日期:2024-04-01 14:56
公开了一种入口组件、减排装置和方法。入口组件用于减排装置,减排装置用于处理来自半导体加工工具的排出流,入口组件包括:入口喷嘴,其被配置成将排出流输送到减排装置的燃烧室中;以及试剂喷嘴,其被配置成将试剂输送到减排装置的燃烧室中,试剂喷嘴相对于入口喷嘴同心地定位,试剂喷嘴被配置成在其周边周围的不同位置处以不同的量输送试剂。以这种方式,被供应到燃烧室以有助于排出气体流减排的试剂剂量可以在排出气体流周围的不同位置或部位处变化。这使得试剂的流量能够与从入口喷嘴排放到燃烧室中的排出流的流量相匹配,这提供了正确的试剂剂量以适合不同部位处的排出流,这提高了减排装置的破坏率效率,而不会导致试剂的过量供应。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术的领域涉及入口组件、减排装置和方法。


技术介绍

1、诸如辐射燃烧器或其它类型的减排装置的减排装置是已知的,并且通常用于处理来自例如在半导体或平板显示器制造工业中使用的制造加工工具的排出气体流。在此类制造期间,残留的全氟化合物(pfc)和其它化合物存在于从加工工具泵送的排出气体流中。pfc是难以从排出气体去除的,并且不期望这些pfc释放到环境中,因为已知它们具有相对高的温室效应。

2、诸如在ep 0694735中所描述的,已知的辐射燃烧器使用燃烧从排出气体流中去除pfc和其它化合物。通常,排出气体流是含有pfc和其它化合物的氮气流。排出流被运送到燃烧室中,该燃烧室被具孔气体燃烧器的出口表面侧向包围。在一些情况下,处理材料(诸如燃料气体)可以在进入燃烧室之前与排出气体流混合。燃料气体和空气被同时供应到具孔燃烧器,以在出口表面处对燃烧起作用。来自具孔燃烧器的燃烧产物与排出流混合物反应,以燃烧排出流中的化合物。

3、尽管存在减排装置的布置,但它们各自具有它们自己的缺点。因此,期望的是提供一种用于减排装置的改进的布置。

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【技术保护点】

1.一种用于减排装置的入口组件,所述减排装置用于处理来自半导体加工工具的排出流,所述入口组件包括:

2.根据权利要求1所述的入口组件,其中,所述入口喷嘴和所述试剂喷嘴被配置成将所述试剂相对于所述排出流同心地输送到所述燃烧室中。

3.根据权利要求1或2所述的入口组件,包括上游廊道,所述上游廊道被配置成向所述试剂喷嘴的所述周边供给所述试剂。

4.根据前述权利要求中任一项所述的入口组件,其中,所述入口喷嘴和所述试剂喷嘴被配置成将所述试剂输送到所述燃烧室中,包围所述排出流。

5.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述试剂喷嘴是以下中的至少一...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于减排装置的入口组件,所述减排装置用于处理来自半导体加工工具的排出流,所述入口组件包括:

2.根据权利要求1所述的入口组件,其中,所述入口喷嘴和所述试剂喷嘴被配置成将所述试剂相对于所述排出流同心地输送到所述燃烧室中。

3.根据权利要求1或2所述的入口组件,包括上游廊道,所述上游廊道被配置成向所述试剂喷嘴的所述周边供给所述试剂。

4.根据前述权利要求中任一项所述的入口组件,其中,所述入口喷嘴和所述试剂喷嘴被配置成将所述试剂输送到所述燃烧室中,包围所述排出流。

5.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述试剂喷嘴是以下中的至少一者:

6.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述入口喷嘴具有长圆形横截面,并且所述试剂喷嘴具有环形长圆形横截面,并且所述试剂喷嘴被配置成在所述环形长圆形的圆形部分附近内比在所述环形长圆形的线性部分内输送更多的所述试剂。

7.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述试剂喷嘴的内表面与所述入口喷嘴的外表面间隔开,并且所述试剂喷嘴的所述内表面与所述入口喷嘴的所述外表面之间...

【专利技术属性】
技术研发人员:A·J·希里M·J·西尔伯斯坦
申请(专利权)人:埃地沃兹有限公司
类型:发明
国别省市:

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