【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及静电吸附力测量领域，尤其涉及一种静电吸附力测量装置和方法。
技术介绍
1、静电吸盘在半导体生产工艺中被用来固定和支撑晶圆，静电吸盘利用静电吸附原理将待加工的晶圆吸附在其表面，避免了晶圆在生产过程中发生移动或错位，从而被广泛应用于刻蚀(etching)、物理气相沉积(pvd)、化学气相沉积(cvd)等工艺。静电吸盘与传统的机械卡盘和真空卡盘相比具有很多优点，它避免了传统机械卡盘在使用过程中由于压力、碰撞等机械原因对晶圆造成不可修复的损伤，减少了晶圆表面腐蚀物颗粒的污染，增大了晶圆的有效加工面积。
2、目前，在实验中，测量静电吸附力采用手动测量的方式，工作人员将晶圆固定在静电吸盘上，静电吸盘对晶圆产生向下的静电吸附力以吸附住晶圆，同时，工作人员将测力计与晶圆连接，提起测力计使得晶圆产生向上的拉力，当晶圆被测力计拉开的一瞬间，记录下此时的测力计的拉力值作为晶圆承受的静电吸附力。然而，采用上拉晶圆的方式测量静电吸附力，测量精度较低，并且人工手动测量导致测量出的静电吸附力误差较大，得出的力值结果直接影响对晶圆的质量的判断。
3、上述问题同样存在于其他行业对产品测量吸附力的过程中。
技术实现思路
1、本申请旨在提供一种静电吸附力测量装置和方法，以提高测量精度，减小测量静电吸附力的误差。
2、本申请第一方面公开了一种静电吸附力测量装置，包括滑动机构、拉力板、测试台、静电吸盘和控制单元；
3、滑动机构包括滑轨和安装于滑轨的滑块；滑块和拉
4、控制单元和滑动机构连接，用于发送控制指令至滑动机构以控制滑块沿着滑轨上下移动；
5、测试台设于拉力板的正下方；静电吸盘安装于测试台，用于施加静电吸附力于晶圆以将其固定；
6、测力计与晶圆连接，用于施加拉力于晶圆以将其提升；
7、测力计发送拉力值至控制单元；控制单元接收拉力值，将晶圆和静电吸盘瞬间分离时测力计的拉力作为晶圆承受的静电吸附力。
8、优选地，装置还包括基座和固定组件；
9、滑轨包括第一滑轨和第二滑轨；
10、固定组件分别与第一滑轨和第二滑轨连接，以将第一滑轨和第二滑轨固定于基座上；
11、固定组件包括第一板件、第二板件、第三板件和第四板件；第一板件和第二板件垂直且连接，形成“l”型结构；第三板件和第四板件均为直角梯形结构；直角梯形结构的上底长度小于下底长度；直角梯形结构的具有下底的一侧面与第二板件连接，具有高的一侧面与第一板件连接。
12、优选地，滑动机构还包括传动系统和导向系统；
13、滑块包括安装于第一滑轨的第一滑块和安装于第二滑轨的第二滑块；第一滑块和第二滑块分别与拉力板的两端连接；
14、传动系统包括电动驱动装置；电动驱动装置分别与第一滑块和第二滑块连接，用于驱动第一滑块和第二滑块同步运动；
15、导向系统包括固定于第一滑块两侧和第二滑块两侧的导向组件，用于为第一滑块和第二滑块提供定位。
16、优选地，测试台设于第一滑轨和第二滑轨之间；
17、测试台包括安装板和立柱；立柱包括第一立柱和第二立柱，用于将安装板固定于基座上；
18、安装板一端与第一立柱连接，远离第一立柱的一端与第二立柱连接。
19、优选地，安装板设有防呆开口和若干安装孔；
20、静电吸盘设有防呆插槽和若干固定孔；
21、防呆插槽与用于接通外部电源的防呆插头相匹配；防呆插头穿过防呆开口与防呆插槽连接；
22、固定孔与部分安装孔相匹配，旋入与固定孔大小适配的固定杆以使静电吸盘固定于安装板上。
23、优选地，静电吸盘包括吸盘本体与设于吸盘本体内的静电发生器和吸附系统；
24、吸盘本体的底部设有防呆插槽；
25、静电发生器用于在外部电源接通时，产生静电荷并将静电荷输送至吸盘本体的顶面；
26、吸附系统用于控制位于静电荷间的电势差，以将晶圆吸附于吸盘本体的顶面。
27、优选地，装置还包括光栅传感器；
28、光栅传感器设于安装板的底部，与控制单元连接；
29、当光栅传感器发射的光源被外物遮挡时，光栅传感器发送控制信号至控制单元，控制单元接收控制信号并控制电动驱动装置停止运行。
30、优选地，控制单元为控制柜；
31、控制柜包括外壳、设于外壳表面的触摸屏和设于外壳内部的控制器、存储器、测定模块与通信模块；
32、通信模块包括有线通信模块和无线通信模块；
33、控制器通过有线通信模块与滑动机构连接；
34、通过触摸屏向控制器输入设定指令，控制器接收设定指令并控制滑动机构执行与设定指令对应的设定操作；
35、测定模块通过无线通信模块与滑动机构和测力计连接；
36、测定模块用于在设定操作执行的全过程中，在不同时间节点测量滑块的位置和在不同位置测力计的拉力大小；
37、存储器用于记录设定指令、滑块的位置和测力计在不同位置的拉力大小。
38、优选地，测力计与晶圆连接包括：
39、晶圆的表面设有若干软性垫片，测力计与软性垫片连接。
40、本申请第二方面公开了一种静电吸附力测量方法，应用于第一方面的静电吸附力测量装置，方法包括：
41、滑块位于初始位置；将拉力板固定于滑块表面，将测力计安装于拉力板；将静电吸盘固定于安装台，将晶圆放置于静电吸盘上；将测力计与晶圆连接；
42、通过触摸屏向控制器输入控制指令，控制器接收控制指令控制滑块向上移动，晶圆与静电吸盘的间距逐渐增大；
43、测力计发送拉力值至控制器，控制器接收拉力值，将晶圆与静电吸盘瞬间分离时测力计的拉力作为晶圆承受的静电吸附力；
44、控制器控制滑块停止移动并停留预设时间后复位至初始位置。
45、根据本申请提供的具体实施例，本申请公开了以下技术效果：
46、本申请提供了一种静电吸附力测量装置和方法，其中，装置包括滑动机构、拉力板、测试台、静电吸盘和控制单元；滑动机构包括滑轨和安装于滑轨的滑块；滑块和拉力板连接；拉力板上设有测力计；控制单元和滑动机构连接，用于发送控制指令至滑动机构以控制滑块沿着滑轨上下移动；测试台设于拉力板的正下方；静电吸盘安装于测试台，用于施加静电吸附力于晶圆以将其固定；测力计与晶圆连接，用于施加拉力于晶圆以将其提升；测力计发送拉力值至控制单元；控制单元接收拉力值，将晶圆和静电吸盘瞬间分离时测力计的拉力作为晶圆承受的静电吸附力。本装置配合使用控制单元和滑动机构，使得滑块能根据指令在滑轨上精准移动，避免了人工测量精度低的问题，提高了测量精度，通过滑块的移动和测力计对晶圆的提拉实现了对晶圆承受的静电吸附力的测量，避免了人为因素对力值的影响，减小了测量静电吸附力的误差，便于后本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种静电吸附力测量装置，其特征在于，所述装置包括滑动机构、拉力板、测试台、静电吸盘和控制单元；
2.根据权利要求1所述的静电吸附力测量装置，其特征在于，所述装置还包括基座和固定组件；
3.根据权利要求2所述的静电吸附力测量装置，其特征在于，所述滑动机构还包括传动系统和导向系统；
4.根据权利要求2所述的静电吸附力测量装置，其特征在于，所述测试台设于所述第一滑轨和所述第二滑轨之间；
5.根据权利要求4所述的静电吸附力测量装置，其特征在于，所述安装板设有防呆开口和若干安装孔；
6.根据权利要求5所述的静电吸附力测量装置，其特征在于，所述静电吸盘包括吸盘本体与设于所述吸盘本体内的静电发生器和吸附系统；
7.根据权利要求3所述的静电吸附力测量装置，其特征在于，所述装置还包括光栅传感器；
8.根据权利要求1所述的静电吸附力测量装置，其特征在于，所述控制单元为控制柜；
9.根据权利要求1所述的静电吸附力测量装置，其特征在于，所述测力计与所述晶圆连接包括：
10.一种静电吸附力测量方
...【技术特征摘要】
1.一种静电吸附力测量装置，其特征在于，所述装置包括滑动机构、拉力板、测试台、静电吸盘和控制单元；
2.根据权利要求1所述的静电吸附力测量装置，其特征在于，所述装置还包括基座和固定组件；
3.根据权利要求2所述的静电吸附力测量装置，其特征在于，所述滑动机构还包括传动系统和导向系统；
4.根据权利要求2所述的静电吸附力测量装置，其特征在于，所述测试台设于所述第一滑轨和所述第二滑轨之间；
5.根据权利要求4所述的静电吸附力测量装置，其特征在于，所述安装板设有防呆开口和若干安装孔；
【专利技术属性】
技术研发人员：费珂，王良，
申请(专利权)人：无锡宜恰高技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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