等离子蚀刻的电极组件及电极极板制造技术

本实用新型专利技术提供一种等离子蚀刻的电极组件及电极极板，其等离子蚀刻的电极组件包括上电极，用于固定上电极的支撑板，所述上电极位于等离子腔外侧开设有盲孔；紧固件连接支撑板，并于上电极的盲孔中固定

【技术实现步骤摘要】
等离子蚀刻的电极组件及电极极板


[0001]本技术涉及等离子蚀刻
，具体涉及一种等离子蚀刻的电极组件及电极极板
。

技术介绍

[0002]随着计算机与通信技术的发展，芯片的性能需求越来越高
。
半导体产品的制程已经从
24nm
进入了
7nm、5nm
的时代
。
这也给半导体制程工艺精度提出了更高的要求
。
如公开号为“TW200305184A”的名为处理半导体基板之电极组件及具有该电极组件之处理装置的中国台湾专利所公开电极组件等，在现有技术中，上电极被设置于其上部的支持件上实现固定
。
具体的，通常如图1所示，由上电极与下电极对置形成等离子腔
。
上电极设置在支撑板上，通常为了将上电极方便固定在支撑板上，在上电极上开设用于安装固定的通孔，在支撑板上开设相应的螺纹孔，螺纹件穿过上电极后与支撑板之间螺接从而限定上电极的具体位置
。
在实际的电极组件中，支撑板只是兼做支撑上电极的功能，其还可主用于其他功能，比如可以作为电极组件中的冷却板使用
。
[0003]这样做，由于上电极上的孔是贯通的，螺纹件的端部必然需要如图所示，深入至所限定的等离子腔中
。
螺纹件为不锈钢材质，由于长期接触等离子腔中的等离子气体，螺纹件会在等离子气体的作用下发生腐蚀
。
这一方面要求螺纹件需要定期停机维护更换
。
另一方面，更为严重的是，经腐蚀后的螺纹件上的微粒将会混入等离子腔中的等离子体中，成为微粒污染源，降低蚀刻过程晶圆的良率
。

技术实现思路

[0004]针对现有的等离子蚀刻的电极组件中的连接螺丝会接触等离体发生腐蚀污染蚀刻环境，降低晶圆蚀刻过程的良率的问题，本技术提供一种等离子蚀刻的电极组件及电极极板
。
[0005]本技术的技术方案提供一种等离子蚀刻的电极组件，包括上电极，用于固定上电极的支撑板，所述上电极位于等离子腔外侧开设有盲孔；紧固件连接支撑板，并于上电极的盲孔中固定
。
[0006]优选地，所述盲孔中至少设置插入件，所述插入件在所述螺纹件进入盲孔后位于所述盲孔与所述螺纹件之间
。
[0007]优选地，所述盲孔具有用于限位螺纹件的贴合段以及位于贴合段底部的向贴合段周向外侧扩张的膨胀段；
[0008]插入件具有用于与螺纹件螺合固定的固定部以及位于固定部末端，向插入件周向膨胀的扩张部；扩张部进入膨胀段中以防止插入件脱出
。
[0009]优选地，所述插入件沿盲孔的周向设置若干组，多个所述插入件的固定部间形成用于与螺纹件螺接的螺合区
。
[0010]优选地，还包括螺套；所述插入件沿盲孔的周向设置若干组，所述螺套设置于所述
插入件与所述螺纹件之间，分别与所述螺纹件以及所述插入件螺接
。
[0011]优选地，所述盲孔的侧面上开设有弧形截面的螺纹，所述插入件外侧面具有与盲孔侧面的弧形截面螺纹相配合的螺纹部
。
[0012]优选地，所述插入件开设有用于固定螺纹件的安装孔，所述安装孔用于螺接螺纹件
。
[0013]优选地，所述插入件开设有用于固定螺纹件的安装孔，所述安装孔中设置螺套，所述螺套上设有与螺纹件螺接的螺纹孔
。
[0014]优选地，所述螺套在靠近盲孔底部的一端形成有向径向外侧突出的卡止部以在螺套进入插入件后限位防止螺套脱出
。
[0015]本技术的技术方案提供一种电极极板，所述电极极板在位于等离子腔外侧开设有盲孔，所述盲孔具有贴合段以及位于贴合段底部的向贴合段周向外侧扩张的膨胀段
。
[0016]优选地，在位于等离子腔外侧开设有盲孔，所述盲孔的侧面上开设有弧形截面的螺纹
。
[0017]本技术的等离子蚀刻的电极组件主要用于实现不侵入等离子腔内部的上电极的安装方式，以避免螺丝侵入等离子腔后受腐蚀而污染刻蚀所需的等离子体，导致蚀刻工艺的良率难以提升的问题
。
本等离子蚀刻的电极组件是通过将上电极的安装孔设置为盲孔，并相应的将螺纹件的安装方式设置为从上电极的外侧向盲孔中旋入实现的
。
更进一步的，由于上电极为脆性材料，如果在盲孔的侧面形成螺纹特征，并直接在盲孔中拧入螺纹件时，可能由于螺牙的受力不均以及应力集中而造成上电极局部碎裂影响紧固强度，对此本等离子蚀刻的电极组件在螺纹件与盲孔之间至少设置了插入件避免螺纹件与插入件的直接接触，并同时避免了在盲孔的侧面上加工尖楔形螺牙导致的易碎裂的问题，从而在完成上电极紧固的同时保证了紧固的可靠性
。
附图说明
[0018]图1为本技术的现有技术的结构示意图；
[0019]图2为本技术的等离子蚀刻的电极组件的结构示意图；
[0020]图3为本技术的等离子蚀刻的电极组件的一种实施例的组装示意图；
[0021]图4为本技术的等离子蚀刻的电极组件的另一种实施例的组装示意图
。
[0022]图中，
[0023]W:
晶圆
11:
上电极
12:
下电极
1A:
等离子腔
1B:
螺纹件
1C:
盲孔
13:
支撑板
2:
过渡件
21:
插入件
22:
螺套
1C1:
贴合段
1C2:
膨胀段
21A:
螺合区
211:
固定部
212:
扩张部
221:
卡止部
具体实施方式
[0024]以下结合附图和具体实施例，对本技术进行详细说明，在本说明书中，附图尺寸比例并不代表实际尺寸比例，其只用于体现各部件之间的相对位置关系与连接关系，名称相同或标号相同的部件代表相似或相同的结构，且仅限于示意的目的
。
[0025]图2为本技术的等离子蚀刻的电极组件的结构示意图
。
为了实现前已述及的由于螺丝等异物侵入等离子腔内而可能造成的污染蚀刻的等离子环境以致蚀刻制程中的良率无法得到保障的问题
。
本技术旨在提供一种具有改进的上电极
11
的等离子蚀刻的
电极组件
。
该等离子蚀刻的电极组件的上电极
11
面向等离子腔
1A
一侧不存在暴露的螺纹件
1B
，因此不存在由于螺纹件
1B
被腐蚀成为微粒污染源的问题
。
具体的，等离子蚀刻的电极组件至少包括对置的上电极
11
与下电极
12
，在上电极
11
与下电本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种等离子蚀刻的电极组件，包括上电极
(11)
，用于固定上电极
(11)
的支撑板
(13)
，其特征在于，所述上电极
(11)
位于等离子腔
(1A)
外侧开设有盲孔
(1C)
；螺纹件
(1B)
连接支撑板
(13)
，并于上电极
(11)
的盲孔
(1C)
中固定
。2.
如权利要求1所述的等离子蚀刻的电极组件，其特征在于，所述盲孔
(1C)
中至少设置插入件
(21)
，所述插入件
(21)
在所述螺纹件
(1B)
进入盲孔
(1C)
后位于所述盲孔
(1C)
与所述螺纹件
(1B)
之间
。3.
如权利要求2所述的等离子蚀刻的电极组件，其特征在于，所述盲孔
(1C)
具有用于限位所述螺纹件
(1B)
的贴合段
(1C1)
以及位于贴合段
(1C1)
底部的向贴合段
(1C1)
周向外侧扩张的膨胀段
(1C2)
；插入件
(21)
具有用于与螺纹件
(1B)
螺合固定的固定部
(211)
以及位于固定部
(211)
末端，向插入件
(21)
周向膨胀的扩张部
(212)
；扩张部
(212)
进入膨胀段
(1C2)
中以防止插入件
(21)
脱出
。4.
如权利要求3所述的等离子蚀刻的电极组件，其特征在于，所述插入件
(21)
沿盲孔
(1C)
的周向设置若干组，多个所述插入件
(21)
的固定部
(211)
间形成用于与螺纹件
(1B)
螺接的螺合区
。5.
如权利要求2所述的等离子蚀刻的电极组件，其特征在于，还包括螺套
(22)
；所述插入...

【专利技术属性】
技术研发人员：许赞，朴永哲，
申请(专利权)人：安徽四象半导体材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：