一种保持电导率稳定的方法技术

本发明专利技术涉及半导体技术领域，具体地说是一种保持电导率稳定的方法

【技术实现步骤摘要】
一种保持电导率稳定的方法


[0001]本专利技术涉及半导体
，具体地说是一种保持电导率稳定的方法
。

技术介绍

[0002]目前晶圆切割机使用时，接入机器的的纯水是含有
CO2的，通过
CO2和水作用
,
产生离子，从而保证水阻在
0.1M
Ω
~0.8M
Ω
。
但是机器在使用过程中，会存在不需要用水的步骤，此时，水在进水端口处停留，当含
CO2的水在管路中停留超过5分钟后，水的电阻会超过工艺需求范围，无法用于后续工序
。

技术实现思路

[0003]本专利技术为克服现有技术的不足，提供一种保持电导率稳定的方法
。
[0004]为实现上述目的，设计一种保持电导率稳定的方法，包括如下步骤：
S1
，在晶圆切割机的进水端口与进水管道连接处增加三通管件；
S2
，三通管件的第三端口连接旁通管道
。
[0005]所述的旁通管道上设有调节阀
。
[0006]所述的三通管件的第一端口与进水端口连通，三通管件的第二端口与进水管道连通
。
[0007]所述的进水管道连接纯水水源
。
[0008]本专利技术同现有技术相比，通过保持水的流通，解决了晶圆在切割过程中出现的水电阻超标的问题
。
附图说明
[0009]图1为本专利技术的结构示意图
。
[0010]图2为本专利技术实施例一中水电阻的测试结果图
。
实施方式
[0011]下面根据附图对本专利技术做进一步的说明
。
实施例
[0012]如图1所示，本实施例是一种保持电导率稳定的方法，包括如下步骤：
S1
，在晶圆切割机1的进水端口2与进水管道3连接处增加三通管件4；
S2
，三通管件4的第三端口连接旁通管道
5。
[0013]旁通管道5上设有调节阀
6。
[0014]三通管件4的第一端口与进水端口2连通，三通管件4的第二端口与进水管道3连通
。
[0015]进水管道3连接纯水水源
。
[0016]具体使用时，三通管件4的尺寸根据进水端口及进水管道3的尺寸确定，本实施例中选用直径为
10mm
的三通管件
4。
通过三通管件4将进水端口
2、
进水管道
3、
旁通管道5连接，并通过调节阀6，保持旁通管道5一直有水流，使切割水和清洗水一直保持流通状态，从而使水的电阻保持稳定
。
本实施例中对进水端口2内的水电阻进行测试，测试结果如图2所示，可以看出，本实施例增加了旁通管路5后，可以保证进水端口2内水电阻保持稳定，从而保证电导率稳定
。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种保持电导率稳定的方法，其特征在于：包括如下步骤：
S1
，在晶圆切割机（1）的进水端口（2）与进水管道（3）连接处增加三通管件（4）；
S2
，三通管件（4）的第三端口连接旁通管道（5）
。2.
根据权利要求1所述的一种保持电导率稳定的方法，其特征在于：所述的旁通管道（...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄闻宇，邵滋人，朱文军，
申请(专利权)人：宏茂微电子上海有限公司，
类型：发明
国别省市：