面形调节装置制造方法及图纸

本申请涉及面形调节技术领域，具体涉及一种用于调节薄片材料面形的面形调节装置

【技术实现步骤摘要】
面形调节装置


[0001]本申请涉及面形调节
，具体涉及一种用于调节薄片材料面形的面形调节装置
。

技术介绍

[0002]晶圆面形的平整度是集成电路制造工艺中的关键因素，晶圆曝光区域的面形平整度若小于焦深，则会导致曝光图形出现缺陷，曝光质量差
。
目前晶圆的制造工艺面形可以使晶圆达到较高的平整度
。
由于晶圆很薄，且抛光后表面光滑，因此我们常常将晶圆放置于高精度的吸盘上，高精度吸盘一般平面度能够达到
300nm
；晶圆由于高真空度吸附作用紧贴吸盘，吸附于吸盘上时，晶圆面形会发生一定的形变，其面形会与吸盘面形趋于一致，这会导致在极小的焦深情况下这样的晶圆面形难以满足曝光要求，曝光图纸质量差
。
因此亟需一种晶圆面形校正方法，解决晶圆面形难以控制的问题
。

技术实现思路

[0003]本申请实施例提供一种面形调节装置，可以解决晶圆面形难以控制的技术问题
。
[0004]本申请实施例提的面形调节装置，包括
[0005]调节单元阵列，包括多个调节单元，每个调节单元具有用于与待调节面接触的上表面，
[0006]安装基座，具有用于安装调节单元阵列的第一表面，
[0007]每个调节单元的高度可调节，通过调节调节单元的高度可以使所有调节单元的上表面共面
。
[0008]根据本申请前述实施方式，调节单元的形状为横截面尺寸小于
3mm
的柱状结构，相邻调节单元之间的间距小于
1.5mm。
[0009]根据本申请前述任一实施方式，安装基座具有第二表面和与第二表面相对的第三表面，安装基座还包括由第二表面向第三表面所在方向凹陷的槽腔，槽腔的底壁为第一表面，
[0010]在第二表面设置有针阵列，针阵列包括多根参考针，参考针的顶面共面，通过调节调节单元的高度可以使所有调节单元的上表面与所有参考针的顶面共面
。
[0011]根据本申请前述任一实施方式，参考针的高度小于
0.3mm
，和
/
或
[0012]参考针的横截面尺寸小于
1mm
，相邻参考针之间的距离小于
2mm。
[0013]根据本申请前述任一实施方式，安装基座上设置有与槽腔连通的排气孔，排气孔用于与外部抽真空装置连接，
[0014]在第二表面设置有密封圈，密封圈将针阵列围在密封圈内，密封圈的表面与参考针的顶面共面
。
[0015]根据本申请前述任一实施方式，在初始状态下，所有调节单元的上表面与所有参考针的顶面共面
。
[0016]根据本申请前述任一实施方式，在安装基座的相对的侧壁上分别设置有一个安装耳
。
[0017]根据本申请前述任一实施方式，调节单位阵列的形状为方形阵列
。
[0018]根据本申请前述任一实施方式，调节单元阵列为
n*n
的正方形阵列，其中，
n
为正整数
。
[0019]根据本申请前述任一实施方式，调节单元为压电促动器，每个压电促动器独立工作
。
[0020]根据本申请前述任一实施方式，在安装基座上设置有绝缘走线孔，绝缘走线孔用于为压电促动器的线路提供走线通道
。
[0021]根据本申请前述任一实施方式，在初始状态下，所有调节单元的上表面与所有参考针的顶面之间的共面误差小于
1um
，调节单元的高度调节范围为3至
5um。
[0022]本申请实施例的面形调节装置通过设置阵列式的调节单元，可以对待调节面的局部形状进行微调，最终使待调节面的平整度满足要求
。
附图说明
[0023]图1为本申请一实施例的面形调节装置的结构示意图；
[0024]图2为本申请另一实施例的面形调节装置的剖视图
。
具体实施方式
[0025]下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本申请的目的
、
技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本申请进行进一步详细描述
。
应理解，此处所描述的具体实施例仅意在解释本申请，而不是限定本申请
。
对于本领域技术人员来说，本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施
。
下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解
。
[0026]本申请实施例提供一种面形调节装置
100
，可以用于调节薄片材料的面形，薄片材料可以是晶圆
、
望远镜镜面
、
高分辨显微镜镜面
、
变焦镜面等，本申请实施例中，以晶圆为例进行说明
。
[0027]请参阅图1和图2，本申请实施例提供的面形调节装置
100
包括调节单元阵列
110
和安装基座
120。
[0028]调节单元阵列
110
包括多个调节单元
111
，每个调节单元
111
具有用于与待调节面接触的上表面，每个调节单元
111
的高度可调节，通过调节调节单元
111
的高度，可以使调节单元
111
的上表面与待调节面接触，以对待调节面产生作用力，继续调节调节单元
111
的高度，使所有调节单元
111
的上表面共面，可以改变待调节面的形状，使待调节面的平整度满足要求，从而达到调节面形的目的；
[0029]安装基座
120
起支撑作用，其具有用于安装调节单元阵列
110
的第一表面
121
，所有调节单元
111
均设置在安装基座
120
的第一表面
121
上
。
[0030]本申请实施例的面形调节装置
100
，通过设置阵列式的调节单元
111
，可以对待调节面的局部形状进行微调，最终使待调节面的平整度满足要求
。
[0031]在一些实施例中，调节单元的形状为横截面尺寸小于
3mm
的柱状结构，相邻调节单
元之间的间距小于
1.5mm。
这样在晶圆吸附接触后可以尽量减小由于间隙引起的晶圆变形
。
相邻调节单元之间的距离尽量紧凑排布，并根据需求来定调节单元的数量，例如，根据单次调节面形的面积大小来确定
。
以晶圆曝光为例，假设单次调节面形的面积大小就是一个曝光场的面积，那么，就可以在一个固定的曝光场面积范围内放置
25
个调节单元，当然，也可以放置
36
个
、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种面形调节装置，其特征在于：包括调节单元阵列，包括多个调节单元，每个调节单元具有用于与待调节面接触的上表面，安装基座，具有用于安装所述调节单元阵列的第一表面，每个所述调节单元的高度可调节，通过调节所述调节单元的高度可以使所有调节单元的上表面共面
。2.
根据权利要求1所述的面形调节装置，其特征在于：所述调节单元的形状为横截面尺寸小于
3mm
的柱状结构，相邻所述调节单元之间的间距小于
1.5mm。3.
根据权利要求1所述的面形调节装置，其特征在于：所述安装基座具有第二表面和与所述第二表面相对的第三表面，所述安装基座还包括由所述第二表面向所述第三表面所在方向凹陷的槽腔，所述槽腔的底壁为所述第一表面，在所述第二表面设置有针阵列，所述针阵列包括多根参考针，所述参考针的顶面共面，通过调节所述调节单元的高度可以使所有调节单元的上表面与所有参考针的顶面共面
。4.
根据权利要求3所述的面形调节装置，其特征在于：所述参考针的高度小于
0.3mm
，和
/
或所述参考针的横截面尺寸小于
1mm
，相邻所述参考针之间的距离小于
2mm。5.
根据权利要求3所述的面形调节装置，其特征在于：所述安装基座上设置有与所述槽腔连通的排气孔，所述排气孔用于与外部抽真空...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗先刚，刘毅，刘明刚，
申请(专利权)人：天府兴隆湖实验室，
类型：发明
国别省市：