【技术实现步骤摘要】
本申请涉及套刻标记，具体涉及一种对准标记、掩膜、晶圆、对准标记系统及对准方法。
技术介绍
1、离轴对准可滤掉大量环境光与多余照明光，大大增加对准图案对比度，从而提高对准精度。但是，现有技术种，用于离轴对准场景下的对准标记的对准精度有待提高。
技术实现思路
1、本申请实施例提供一种对准标记、掩膜、晶圆、对准标记系统及对准方法，可以解决对准标记对准精度低的技术问题。
2、第一方面，本申请实施例提一种对准标记，包括
3、第一标记，第一标记包括第一标记区，第一标记区具有沿第一方向排列的多个第一标记形成区，在每个第一标记形成区内具有沿第一方向周期排列的光栅条，
4、第二标记，第二标记包括第二标记区，第二标记区具有沿第一方向排列的多个第二标记形成区，在每个第二标记形成区内具有沿第一方向周期排列的第一光栅条，第二标记形成区与第一标记形成区的形状、大小和数目均相同，
5、第一标记形成区与第二标记形成区的投影在第二方向上一一对应，且对应的第一标记形成区与第二标...
【技术保护点】
1.一种对准标记，其特征在于：包括
2.根据权利要求1所述的对准标记，其特征在于：所述光栅条与所述第一光栅条的排列周期相同，所述光栅条与所述第一光栅条在第一方向的长度相同；
3.根据权利要求1或2所述的对准标记，其特征在于：所述第一标记形成区在第一方向的长度等于相邻的第一标记形成区之间的间隔。
4.一种对准标记，其特征在于：包括
5.根据权利要求4所述的对准标记，其特征在于：所述第一光栅条的排列周期与所述第二光栅条的排列周期相同，所述第一光栅条的排列周期与所述第二光栅条在第一方向的长度相同；
6.根据权利要求...
【技术特征摘要】
1.一种对准标记，其特征在于：包括
2.根据权利要求1所述的对准标记，其特征在于：所述光栅条与所述第一光栅条的排列周期相同，所述光栅条与所述第一光栅条在第一方向的长度相同；
3.根据权利要求1或2所述的对准标记，其特征在于：所述第一标记形成区在第一方向的长度等于相邻的第一标记形成区之间的间隔。
4.一种对准标记，其特征在于：包括
5.根据权利要求4所述的对准标记，其特征在于：所述第一光栅条的排列周期与所述第二光栅条的排列周期相同，所述第一光栅条的排列周期与所述第二光栅条在第一方向的长度相同；
6.根据权利要求4或5所述的对准标记，其特征在于：所述第一标记形成区在第...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗先刚，李雄，王超群，刘吉夫，张仁彦，
申请(专利权)人：天府兴隆湖实验室，
类型：发明
国别省市：
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