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本申请涉及套刻标记技术领域，具体涉及一种对准标记、掩膜、晶圆、对准标记系统及对准方法。该对准标记包括：第一标记，包括第一标记区，第一标记区具有沿第一方向排列的多个第一标记形成区，在每个第一标记形成区内具有沿第一方向周期排列的光栅条；第二标记...
该专利属于天府兴隆湖实验室所有，仅供学习研究参考，未经过天府兴隆湖实验室授权不得商用。

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