一种防挥发制造技术

本发明专利技术公开了一种防挥发

【技术实现步骤摘要】
一种防挥发、泄露密封部件及器具及应用


[0001]本专利技术涉及化工工具领域，尤其涉及一种防挥发
、
泄露密封部件及器具及应用
。

技术介绍

[0002]在化工领域，现有试剂，例如
HNO3、HCl、NaClO、NH3等在存储过程中易挥发，存储容器与盖连接处易产生泄漏，于大气中产生刺激性气味，尤其是在存储容器搬运过程中，更易产生上述现象
。
可见，对于存储试剂防挥发保存变得尤为重要
。
[0003]同时，在进行如王水等化学品的配液过程中，易产生大量的带有刺激性
、
腐蚀性的挥发气体，甚至伴有大量白烟，于容器与盖连接处溢出，直接外排挥发性气体会污染外部环境，同时会腐蚀周边物体及设备
。
若挥发气体直接与尾气塔风管连接，此方法虽易将气体抽到尾气塔，但储罐内形成负压，加剧气体的挥发，降低工作液的使用效率
。
且挥发出的气体被人体接触或吸入，可能导致人体皮肤或呼吸器官灼伤，甚至导致人体中毒
。
[0004]专利号为“CN207216940U”公开了“一种化学仪器装置”，但该专利中最终还需要打开一部分口子加入液体吸收内部挥发性气体，可打开时就会有挥发性气体溢出的情况，所以不能完全杜绝挥发性气体溢出
。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是提供一种防挥发
、
泄露密封部件
。
[0006]本专利技术还提供了一种具有防挥发
、
>泄露密封部件的器具
。
[0007]本专利技术还提供了一种防挥发
、
泄露密封部件的器具的应用
。
[0008]本专利技术的创新点在于本专利技术中通过引流板将挥发性气体引入密封腔的吸收液体内，使得反应后的挥发性气体在不打开密封盖的作用下也能被吸收
。
[0009]为实现上述专利技术目的，本专利技术的技术方案是：一种防挥发
、
泄露密封部件，包括密封盖，所述密封盖底面连接有一圈引流板
。
所述引流板上设有若干下压板，所述下压板位于引流板的外侧底部处
。
用于引流挥发出的气体；进入外部的密封腔
。
使得密封盖的密封效果更优
。
下压板在密封容器外部密封腔的液体的作用下可以带动密封盖下压；一方面密封腔内的液面可以适当低一点，只要高于下压板即可，另一方面又可以不影响挥发性气体的引出
。
[0010]进一步地，所述密封盖底面设有若干凸出部，所述凸出部位于引流板内圈；所述凸出部的纵向截面为三角形或圆弧形
。
增加顶部面积，便于挥发性气体冷凝
。
[0011]进一步地，所述密封盖底部还设有一圈密封壁，密封壁位于引流板外侧，密封壁底部向内弯曲，所述下压板上设有若干突起
。
用于和密封容器形成密封腔；下压板上设有若干突起，可以扩大与溶液的接触面积
。
[0012]进一步地，所述密封壁底边处设有一圈密封圈
。
和密封容器接触后，便于底部密封
。
[0013]一种具有防挥发
、
泄露密封部件的器具，包括顶部开口的密封容器，所述密封容器
顶部设有密封盖，所述密封容器外设有密封腔，所述引流板位于密封腔内
。
[0014]进一步地，所述密封腔处设有进液口，所述密封容器和密封腔连通且连通处位于引流板内侧；所述密封腔上处设有一号加液口
、
一号排液口和一号溢流口；一号溢流口高度高于引流板最低点，密封溶器上设有二号排液口
、
补水口和二号加液口
。
[0015]进一步地，所述密封盖上或密封容器上连接有密封壁，所述密封腔由密封壁内壁
、
密封盖底面和密封容器外壁形成；密封腔内设有
PH
计
。
[0016]进一步地，所述密封壁连接在密封盖上时，密封壁底部设有一圈密封圈
。
[0017]进一步地，密封容器外侧壁上设有一圈朝向上部的插槽，所述密封壁上设有一圈插入插槽的插口
。
密封效果更优
。
[0018]一种防挥发
、
泄露密封部件的器具的应用，其特征在于，应用在能产生挥发气体的化学药剂的配置
、
污染件的清洗
、
化学物的储存
、
化学反应中；应用时密封腔内注有吸收液，吸收液液面高于引流板底部，密封容器中的挥发气体从连通处溢出，被吸收液吸收
。
[0019]一种防挥发
、
泄露密封部件的器具的应用，其特征在于，应用在能产生挥发气体的化学药剂的配置
、
污染件的清洗
、
化学物的储存
、
化学反应中；应用时：（1）密封腔内注有吸收液，吸收液液面高于引流板底部；（2）从若干二号加液口加入溶液，密封容器内产生挥发气体，密挥发气体挥发至密封腔内，由引流板引流至密封腔吸收液，挥发气体接触密封腔内吸收液后，被吸收液吸收，密封腔内
PH
计检测密封腔内吸收液酸碱度，通过一号加液口补充中和液对
PH
进行调控，使得密封腔内溶液安全无腐蚀；（3）一段时间后，密封容器通过二号排液口排掉大部分密封容器内溶液，停止排液；（4）在密封容器注水溢流，密封容器注满水后往密封腔溢水，带出密封容器内未排出的挥发气体，使得未排出的挥发气体被密封腔内的吸收液吸收，密封腔内吸收液到达一号溢流口高度后开始从密封腔一号溢流口溢流，同时密封腔内的
PH
计不断监控
PH
值状况，通过一号加液口补充中和液对
PH
进行调控，直至
PH
值在
6.5~7.5
范围内；（5）溢流一段时间后，密封容器停止注水，并排净密封容器内的水；（6）循环步骤（4）（5）若干次，通过一号排液口排出密封腔内溶液，开盖
。
[0020]本专利技术的有益效果是：
1、
本专利技术中用于防止挥发气体泄漏，通过在密封腔中设置引流板，吸收液液面高于引流板最低端，密封容器泄漏出来的气体沿着引流板引流至吸收液，未吸收的液体被密封在由引流板和下压板形成的
L
引流部件
、
盖
、
液面构成的封闭空间，最后通过吸收液循环供给将上述封闭空间的气体吸收溶解排出
。
[0021]2、
本专利技术中通过在引流板上设置下压板，通过吸收液给下压板一个下压力，使得密封盖的密封效果更优
。
附图说明
[0022]图1为实施例1的结构示意图
。
[0023]图2为实施例2的结构示意图
。
[0024]图3为实施例3的结构示意图
。
[0025]图4为实施例3的密本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种防挥发
、
泄露密封部件，包括密封盖，其特征在于，所述密封盖底面连接有一圈引流板；所述引流板上设有若干下压板，所述下压板位于引流板的外侧底部处
。2.
根据权利要求1所述的防挥发
、
泄露密封部件，其特征在于，所述密封盖底面设有若干凸出部，所述凸出部位于引流板内圈；所述凸出部的纵向截面为三角形或圆弧形
。3.
根据权利要求1所述的防挥发
、
泄露密封部件，其特征在于，所述密封盖底部还设有一圈密封壁，密封壁位于引流板外侧，密封壁底部向内弯曲；所述密封壁底边处设有一圈密封圈，所述下压板上设有若干突起
。4.
一种具有如权利要求
1~3
任一所述的防挥发
、
泄露密封部件的器具，包括顶部开口的密封容器，所述密封容器顶部设有密封盖，所述密封容器外设有密封腔，所述引流板位于密封腔内
。5.
根据权利要求4所述的防挥发
、
泄露密封部件的器具，其特征在于，所述密封腔处设有进液口，所述密封容器和密封腔连通且连通处位于引流板内侧；所述密封腔上处设有一号加液口
、
一号排液口和一号溢流口；一号溢流口高度高于引流板最低点，密封溶器上设有二号排液口
、
补水口和若干二号加液口
。6.
根据权利要求5所述的具有防挥发
、
泄露密封部件的器具，其特征在于，所述密封盖上或密封容器上连接有密封壁，所述密封腔由密封壁内壁
、
密封盖底面和密封容器外壁形成；密封腔内设有
PH
计
。7.
根据权利要求6所述的具有防挥发
、
泄露密封部件的器具，其特征在于，所述密封壁连接在密封盖上时，密封壁底部设有一圈密封圈
。8.
根据权利要求6所述的具有防挥发
、
泄露密封...

【专利技术属性】
技术研发人员：高璐，肖志，朱明星，李华，王伟明，
申请(专利权)人：江苏宜兴德融科技有限公司，
类型：发明
国别省市：