高效光栅耦合器制造技术

本发明专利技术提供了一种高效光栅耦合器，涉及集成光电子和光通讯技术领域，该高效光栅耦合器从下至上依次包括：衬底层

【技术实现步骤摘要】
高效光栅耦合器


[0001]本专利技术涉及集成光电子和光通讯
，尤其涉及一种高效光栅耦合器
。

技术介绍

[0002]在过去的几十年中，集成电路技术取得了广泛的应用，在器件设计
、
加工制作和封装测试方面的应用相当成熟，并形成了完整的产业链
。
但是随着信息技术的进一步发展，大数据
、
物联网及云计算等技术先后诞生，产生了海量数据
。
人们迫切需要实现具有超高传输速率
、
超快处理能力
、
超大信息容量
、
高可靠性
、
低损耗
、
低延迟及低成本的信息网络，来满足迅速增长的信息容量和处理能力的需求
。
然而基于电互联的集成电路技术逐渐逼近物理极限，速率
、
带宽
、
能耗
、
串扰
、
延迟及电磁干扰等问题愈发突出
。
在此背景下，集成光电子技术将微电子技术与光子学结合，以光子作为信息载体，具本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种高效光栅耦合器，其特征在于，从下至上依次包括：衬底层（
101
）
、
埋藏氧化物层（
102
）
、
硅波导层（
103
）
、
多晶硅层（
104
）及顶部氧化物层（
106
）；其中，所述硅波导层（
103
）包括单模输出波导（
1031
）
、
过渡波导（
1032
）以及硅光栅（
1033
），所述单模输出波导（
1031
）
、
过渡波导（
1032
）及硅光栅（
1033
）依次相连；所述多晶硅层（
104
）包括多晶硅光栅（
1041
），所述多晶硅光栅（
1041
）与硅波导层（
103
）中的硅光栅（
1033
）在上下叠置，共同组成目标光栅；所述顶部氧化物层（
106
）中包括有反射层（
105
），所述反射层（
105
）至少能够覆盖所述目标光栅，通过对所述反射层（
105
）层数
、
位置和厚度的设计使入射光的反射光产生相消干涉，并将目标光栅反射向芯片外的光重新反射回目标光栅
。2.
根据权利要求1所述的高效光栅耦合器，其特征在于，还包括：反射镜（
108

【专利技术属性】
技术研发人员：李明，厉彦榛，谢毓俊，孙雨舟，杨先超，任之良，赵志勇，李伟，祝宁华，
申请(专利权)人：中国科学院半导体研究所，
类型：发明
国别省市：