用于生成宽带辐射的光学元件制造技术

在本文档中，公开了用于在光学元件的输入端处接收到输入辐射时生成宽带辐射的单片光学元件，光学元件包括：空心区域，其用于沿光学元件的纵轴，将输入辐射引导朝向光学元件的输出端；包层区域，其沿纵轴围绕核心区域并且包括横向布置的微结构，微结构被配置为向引起宽带辐射的生成的光学元件提供非线性光学行为；以及支撑区域，其沿光学元件的至少一部分的纵轴围绕包层区域，其特征在于支撑区域具有足够大的横向尺寸以使得光学元件的所述至少一部分基本上是刚性的

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于生成宽带辐射的光学元件
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于
2021
年5月3日提交的
EP
申请
21171747.5
以及于
2021
年6月
15
日提交的
EP
申请
21179394.8
的优先权，其全部内容通过引用并入本文
。


[0003]本专利技术涉及用于生成宽带辐射的光学元件，具体地涉及单片细长体，单片细长体包括由对应的微结构化包层区域围绕的一个或多个空心区域，包层区域被配置为限制通过
(
多个
)
空心区域的辐射并提供所述宽带辐射的生成
。

技术介绍

[0004]光刻设备是被构造为将期望图案施加到衬底上的机器
。
光刻设备可以被用于例如制造集成电路
(IC)。
光刻设备可以例如将图案形成装置
(
例如，掩模
)
处的图案
(
也被称为“设计布局”或“本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种单片光学元件，用于在所述光学元件的输入端处接收到输入辐射时生成宽带辐射，所述光学元件包括：空心区域，用于沿所述光学元件的纵轴，将所述输入辐射引导朝向所述光学元件的输出端；包层区域，沿所述纵轴围绕所述空心区域并且包括横向布置的微结构，所述微结构被配置为向引起所述宽带辐射的所述生成的所述光学元件提供非线性光学行为；以及支撑区域，沿着所述光学元件的至少一部分的所述纵轴围绕所述包层区域，其中所述支撑区域具有足够大的横向尺寸，以使得所述光学元件的所述至少一部分基本上是刚性的，并且其中所述支撑区域至少围绕另外的空心区域和另外的包层区域，所述另外的包层区域围绕所述另外的空心区域
。2.
根据权利要求1所述的单片光学元件，其中所述空心区域具有
60um
或更小的直径
。3.
根据权利要求1或2所述的单片光学元件，其中所述支撑区域的所述横向尺寸大于以下中的一项：
500um、1mm、1.5mm、2.5mm
或
5mm。4.
根据前述权利要求中任一项所述的单片光学元件，其中所述微结构是沿所述光学元件的所述纵轴延伸的中空管状元件
(
毛细管
)。5.
根据权利要求4所述的单片光学元件，其中所述微结构具有比所述空心区域的直径小的直径
。6.
根据权利要求4或5所述的单片光学元件，其中当在横向于所述纵轴的平面中观察时，所述微结构以围绕所述空心区域的环形或多边形配置来布置
。7.
根据权利要求6所述的单片光学元件，其中所述微结构以六边形配置来布置
。8.
根据前述权利要求中任一项所述的单片光学元件，其中所述支撑区域和所述微结构由具有类似玻璃的机械性质的材料制成
。9.
根据权利要求1至7中任一项所述的单片光学元件，其中所述支撑区域和所述微结构由玻璃材料制成
。10.
根据前述权利要求中任一项所述的单片光学元件，其中所述输入辐射具有红外区域中的波长，并且所述输出端处的所述宽带辐射的波长光谱至少覆盖
400nm
至
900nm
的范围
。11.
根据前述权利要求中任一项所述的单片光学元件，其中所述支撑区域沿所述单片光学元件的整个长度延伸
。12.
根据前述权利要求中任一项所述的单片光学元件...

【专利技术属性】
技术研发人员：P，
申请(专利权)人：ASML，
类型：发明
国别省市：