持片机构清洁系统及其控制方法技术方案

本发明专利技术公开一种持片机构清洁系统及其控制方法

【技术实现步骤摘要】
持片机构清洁系统及其控制方法、电子设备


[0001]本专利技术涉及集成电路相关
，特别是一种持片机构清洁系统及其控制方法
、
电子设备
。

技术介绍

[0002]目前集成电路用
12
寸硅抛光片通常采用直拉
、
截断
、
外径滚磨
、notch
开槽
、
切片
、
研磨
、
倒角
、
腐蚀
、
粗抛光
、
精抛光
、
清洗
、
包装的工艺流程
。
其中，研磨工序为机械加工过程，在砂轮压力的作用下硅片表面不可避免会形成一定深度的应力损伤层，且硅片会产生应力变形
。
由于损伤层中晶格不完整且结构疏松，研磨后的硅片表面易受到金属离子等杂质污染，给后道生产带来污染扩散等不良影响
。
因此，硅片在经过研磨工序后要进行化学腐蚀，目的是释放研磨加工的应力，去除研磨损伤层，优化平坦度
。
[0003]硅片表面的化学腐蚀一般采用湿法腐蚀，出于尽可能较少引入金属离子或其他杂质污染的要求，目前主要使用氢氟酸
(HF)、
硝酸
(HNO3)
混合的酸性溶液，以及氢氧化钾
(KOH)
或氢氧化钠
(NaOH)
等碱性熔液
。
与酸腐蚀相比，碱腐蚀反应速度可控，其反应过程为各向异性反应，腐蚀后硅片平坦度较好，不会造成塌边
。
因此，碱腐蚀是国内绝大部分
12
寸硅片厂采用的主流工艺
。
[0004]目前碱腐蚀常用的腐蚀液为
48
％浓度的
NaOH
溶液，碱腐蚀机台设计为无花篮式类型，包含十几个处理槽，需借助持片机构抓取硅片进入不同处理槽，从而实现硅片换槽处理
。
其中，当持片机构从
NaOH
腐蚀槽返回清洗槽时，会进行约
30s
的浸泡清洗，但是清洗不彻底，持片机构上部仍会残留高浓度的
NaOH
溶液，室温下容易结晶析出附着在持片机构上部表面，随着碱结晶积累过多，机台会出现异常报警
。
目前为解决碱腐蚀机台的持片机构碱结晶问题，每周至少停机两次对持片机构进行清理，费时费力且影响生产
。

技术实现思路

[0005]基于此，有必要针对现有技术缺少对持片机构的清洁系统的技术问题，提供一种持片机构清洁系统及其控制方法
、
电子设备
。
[0006]本专利技术提供一种持片机构清洁系统，包括：喷淋机构管路
、
吹扫机构管路
、
喷吹机构
、
清洗槽以及控制器，所述喷淋机构管路的进水端与外部供水装置连接，所述吹扫机构管路的进水端与外部供气装置连接，所述喷淋机构管路的出水端以及所述吹扫机构管路的出气端分别与所述喷吹机构连接，所述喷吹机构位于所述清洗槽内，所述控制器与所述喷淋机构管路以及所述吹扫机构管路通信连接，控制所述喷淋机构管路向所述喷吹机构供水以及控制所述吹扫机构管路向所述喷吹机构供气
。
[0007]进一步地，所述清洗槽包括位置检测模块
、
升降装置以及槽体，所述位置检测模块以及升降装置容置在所述槽体内，所述位置检测模块与所述控制器通信连接，所述位置检测模块用于对持片机构进行位置检测，且在所述持片机构位于所述槽体内的清洗位置时向所述控制器发出到位信号；
[0008]所述喷吹机构的喷吹角度
、
位置以及时长可调，用于对所述持片机构进行清洗；
[0009]所述升降装置固定在所述槽体内，所述升降装置与所述喷吹机构连接，用于控制所述喷吹机构的工作位置
。
[0010]更进一步地，所述喷吹机构包括：喷吹主管
、
多个喷吹支管以及支撑架，多个所述喷吹支管相互平行设置且均直线排布有若干个喷嘴，多个不同位置的所述喷嘴的开口倾斜角度不同，所述支撑架与所述升降装置连接，所述升降装置控制所述支撑架在所述槽体内的位置，多个所述喷吹支管由所述支撑架承托，且所述喷吹支管的两端分别与所述喷吹主管连接，所述喷吹主管与所述喷淋机构管路的出水端以及所述吹扫机构管路的出气端连接
。
[0011]再进一步地，所述持片机构包括持片机构夹板以及由持片机构夹板夹持固定的持片机构辊，所述喷吹支管两端部的所述喷嘴的角度开口与所述喷嘴的轴线具有夹角，所述喷吹支管中部的所述喷嘴的角度开口与所述喷嘴的轴线无夹角，且在所述持片机构夹板位于所述槽体内时，所述喷吹支管两端部的所述喷嘴的角度开口朝向所述持片机构夹板
。
[0012]再进一步地，所述持片机构包括两组夹持单元，每组夹持单元包括持片机构夹板以及由持片机构夹板夹持固定的持片机构辊，所述喷吹支管包括位于中间的第二喷吹支管，以及位于所述第二喷吹支管两侧的第一喷吹支管和第三喷吹支管，在所述持片机构夹板位于所述槽体内时，所述第一喷吹支管与所述第三喷吹支管位于两组所述夹持单元的外侧，所述第二喷吹支管位于两组所述夹持单元的内层；
[0013]所述喷吹机构还包括第一电机，所述第一电机的驱动端与一所述第二喷吹支管连接，驱动所述第二喷吹支管绕所述第二喷吹支管的轴线旋转；
[0014]所述第一喷吹支管以及所述第三喷吹支管能够旋转
。
[0015]再进一步地，所述升降装置包括螺旋传动护罩
、
内置螺杆以及升降电机，螺旋传动护罩固定在所述槽体底部，所述内置螺杆容置在所述螺旋传动护罩内，所述升降电机的驱动端与所述内置螺杆的顶部连接，所述支撑架与所述内置螺杆连接
。
[0016]本专利技术提供一种如前所述的持片机构清洁系统的控制方法，包括：
[0017]接收到清洁指示；
[0018]控制所述喷淋机构管路向所述喷吹机构供水
、
控制所述吹扫机构管路向所述喷吹机构供气
。
[0019]进一步地，所述控制所述喷淋机构管路向所述喷吹机构供水
、
控制所述吹扫机构管路向所述喷吹机构供气，包括：
[0020]控制所述喷淋机构管路向所述喷吹机构供水执行喷淋操作，在所述喷淋操作过程中，控制所述升降装置驱动所述喷吹机构向下移动，并调节所述喷吹机构的喷吹角度；
[0021]喷淋操作结束后，控制所述喷淋机构管路停止向所述喷吹机构供水并控制所述喷吹机构复位；
[0022]控制所述吹扫机构管路向所述喷吹机构供气执行吹扫操作，在所述吹扫操作过程中，控制所述升降装置驱动所述喷吹机构向下移动，并调节所述喷吹机构的喷吹角度
。
[0023]更进一步地，所述持片机构包括持片机构夹板以及固定在所述持片机构夹板下端的持片机构辊，所述控制所述升降装置驱动所述喷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种持片机构清洁系统，其特征在于，包括：喷淋机构管路
、
吹扫机构管路
、
喷吹机构
、
清洗槽
(6)
以及控制器，所述喷淋机构管路的进水端与外部供水装置
(1)
连接，所述吹扫机构管路的进水端与外部供气装置
(7)
连接，所述喷淋机构管路的出水端以及所述吹扫机构管路的出气端分别与所述喷吹机构连接，所述喷吹机构位于所述清洗槽
(6)
内，所述控制器与所述喷淋机构管路以及所述吹扫机构管路通信连接，控制所述喷淋机构管路向所述喷吹机构供水以及控制所述吹扫机构管路向所述喷吹机构供气
。2.
根据权利要求1所述的持片机构清洁系统，其特征在于，所述清洗槽
(6)
包括位置检测模块
(17)、
升降装置以及槽体
(18)
，所述位置检测模块
(17)
以及升降装置容置在所述槽体
(18)
内，所述位置检测模块
(17)
与所述控制器通信连接，所述位置检测模块
(17)
用于对持片机构进行位置检测，且在所述持片机构位于所述槽体
(18)
内的清洗位置时向所述控制器发出到位信号；所述喷吹机构的喷吹角度
、
位置以及时长可调，用于对所述持片机构进行清洗；所述升降装置固定在所述槽体
(18)
内，所述升降装置与所述喷吹机构连接，用于控制所述喷吹机构的工作位置
。3.
根据权利要求2所述的持片机构清洁系统，其特征在于，所述喷吹机构包括：喷吹主管
(23)、
多个喷吹支管以及支撑架
(33)
，多个所述喷吹支管相互平行设置且均直线排布有若干个喷嘴
(34)
，多个不同位置的所述喷嘴
(34)
的开口倾斜角度不同，所述支撑架
(33)
与所述升降装置连接，所述升降装置控制所述支撑架
(33)
在所述槽体
(18)
内的位置，多个所述喷吹支管由所述支撑架
(33)
承托，且所述喷吹支管的两端分别与所述喷吹主管
(23)
连接，所述喷吹主管
(23)
与所述喷淋机构管路的出水端以及所述吹扫机构管路的出气端连接
。4.
根据权利要求3所述的持片机构清洁系统，其特征在于，所述持片机构包括持片机构夹板
(13)
以及由持片机构夹板
(13)
夹持固定的持片机构辊
(14)
，所述喷吹支管两端部的所述喷嘴
(34)
的角度开口与所述喷嘴
(34)
的轴线具有夹角，所述喷吹支管中部的所述喷嘴
(34)
的角度开口与所述喷嘴
(34)
的轴线无夹角，且在所述持片机构夹板
(13)
位于所述槽体
(18)
内时，所述喷吹支管两端部的所述喷嘴
(34)
的角度开口朝向所述持片机构夹板
(13)。5.
根据权利要求3所述的持片机构清洁系统，其特征在于，所述持片机构包括两组夹持单元，每组夹持单元包括持片机构夹板
(13)
以及由持片机构夹板
(13)
夹持...

【专利技术属性】
技术研发人员：衣容琪，潘凤利，毛智斌，宗芳，冯帆，
申请(专利权)人：万华化学集团电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：