一种碳化硅超细微粉的纯化方法技术

一种碳化硅超细微粉的纯化方法，把选好的碳化硅原料，经机械破碎、整形后进行初水洗除碳、磁选，除去表面部份杂质；初水洗后的原料经过晾晒干燥后，经雷蒙机粉碎、气流分级后生产出粒径在１－１５μｍ之间的产品；加到纯化釜中，加水制成料浆，同时加入浮选剂进行浮选除碳，浮选剂为煤油和松醇油；再分别向纯化釜中加入盐酸、硫酸、氢氟酸，搅拌后再用清水冲，ｐＨ达到７左右；再向纯化釜中加入固体氢氧化钠、固体氢氧化钙，搅拌后再用清水冲洗，使ｐＨ达到７后即可送到分级釜进行分级。通过碳化硅进行纯化处理，超细微粉容易分离。其产品纯度高、粒径分布小、颗粒均匀、杂质少、品质高，应用范围越广。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种碳化硅的生产技术，特别是。
技术介绍
碳化硅具有化学性能稳定，导热系数高，热膨胀系数低，硬度高，耐磨性及自锐性 强等特点，被广泛用在加工硬质合金和光学玻璃等行业。近年来，随着世界半导体产业的发 展，碳化硅在单晶硅、多晶硅、压电石英晶体的多线切割和研磨上得到广泛应用，尤其是在 高速发展的光伏产业中更是如此。其质量不仅与其纯度有关，而且与其颗粒细度有关，其纯 度越高、颗粒越细其应用品质越高，应用范围越广。而传统的生产方法只能生产ΙΟμπι左右 的产品，且粒径分布太大，颗粒不均勻，杂质较多，由于没有进行纯化处理，或方式不对，处 理不彻底，料浆中的铁质弱磁性、非磁性物的铁化合物、碳、游离硅、二氧化硅等杂质不能除 去，将导致超细微粉不易分离。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提出了一种高效去除杂质的碳 化硅超细微粉的纯化方法。本专利技术要解决的技术问题是通过以下技术方案来实现的，一种碳化硅超细微粉的 纯化方法，其特点是把选好的碳化硅原料，经机械破碎、整形后进行初水洗除碳、磁选，除去表面部份 杂质；初水洗后的原料经过晾晒干燥后，经雷蒙机粉碎、气流分级本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种碳化硅超细微粉的纯化方法，其特征在于：把选好的碳化硅原料，经机械破碎、整形后进行初水洗除碳、磁选，除去表面部份杂质；初水洗后的原料经过晾晒干燥后，经雷蒙机粉碎、气流分级后生产出粒径在１－１５μｍ之间的产品；把上述分级后的产品，加到纯化釜中，加水制成料浆，料浆的质量百分比浓度为３０％，同时加入浮选剂进行浮选除碳，浮选剂为煤油和松醇油，每种油的加入量为每吨料浆各加８０－１２０毫升；除碳结束后，再分别向纯化釜中加入浓度为３６％的盐酸、浓度为９８％的硫酸、浓度为３５％的氢氟酸，每吨料浆加入盐酸５－７公斤、硫酸５－７公斤、氢氟酸０．５－０．７公斤，加入顺序为先盐酸、硫酸、最后加氢氟酸，搅拌１０小时；...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄金桂，王世平，陈兰升，
申请(专利权)人：连云港东渡碳化硅有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]