【技术实现步骤摘要】
一种全彩MicroLED及其制备方法
[0001]本专利技术属于显示芯片
,具体涉及一种全彩
MicroLED
及其制备方法
。
技术介绍
[0002]Micro LED
的英文全名是
Micro Light Emitting Diode
,中文称作微发光二极体,也可以写作
μ
LED
,一般指使用尺寸为
1~60um
的
LED
发光单元组成显示阵列的技术,其大小相当于人头发丝的
1/10
,具有无需背光,光电转换效率高,响应时间在
ns
级等特点,是将
LED
进行薄膜化
、
微小化和阵列化,使其体积达到大小只有主流
LED
的
1%。
色转换技术是用紫外或者蓝光激发
Micro
‑
LED
芯片上涂覆的红绿量子点荧光材料从而可以实现高分辨率高效率的全彩显示技术,其具有技术门槛低
、
成本低
、
易于产业化等特点,受到广泛关注
。
[0003]目前,制备量子点色转换层的方法主要有喷墨打印
、
量子点光刻法
、
微流控等方法,但是目前基于微流控技术的量子点色转换层普遍存在以下问题:一方面,底面平整的亲疏水阵列或形貌结构阵列上沉积的量子点,下层外延层激发后发出的光较为发散,垂直方向上的有效亮度有所降低;另 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种全彩
MicroLED
,其特征在于,包括驱动基板,所述驱动基板上设有若干呈矩形阵列设置的发光单元,所述发光单元包括键合金属层,所述键合金属层底部与驱动基板相连,所述键合金属层上方设有外延层,所述外延层剖面为梯形,所述外延层表面外壁沉积有钝化层,所述外延层顶部的钝化层中间开设有出光口,所述钝化层外壁沉积有
N
电极层,所述
N
电极层与外延层顶部电连接,所述发光单元上方包裹微透镜结构的色转换层,所述发光单元之间设有挡光结构,所述挡光结构靠近发光单元一侧内壁呈圆弧形
。2.
根据权利要求1所述的全彩
MicroLED
,其特征在于,所述驱动基板是硅基
CMOS
背板或
TFT
场效应管显示基板,所述驱动基板有连接内部电路的金属触点
。3.
根据权利要求1所述的全彩
MicroLED
,其特征在于,所述键合金属层是由金属膜或非金属膜复合而成的多层结构,所述金属膜和非金属膜均为导体
。4.
根据权利要求1所述的全彩
MicroLED
,其特征在于,所述外延层包括
N
型半导体层
、
多量子阱层
、P
型半导体层,所述
N
型半导体层与键合金属层相连,所述
P
型半导体层与
N
电极层相连
。5.
根据权利要求1所述的全彩
MicroLED
,其特征在于,所述钝化层的折射率大于外延层,通过调节钝化层和外延层边缘倾斜角度使外延层层形成的光部分全反射到外延层内部
。6.
根据权利要求1所述的全彩
MicroLED
,其特征在于,所述色转换层材料包括红色量子点材料
、
绿色量子点材料和透明材料
。7.
根据权利要求1所述的全彩
MicroLED
,其特征在于,所述挡光结构靠近发光单元一侧内壁设有反光层
。8.
根据权利要求1所述的全彩
MicroL...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔡溢,谭立龙,薄俊,刘铭,
申请(专利权)人:盐城鸿石智能科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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