放射线摄影装置制造方法及图纸

技术编号:3964908 阅读:184 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术是一种放射线摄影装置,其特征是具备:照射放射线的放射线源;将用于检测放射线的放射线检测元件纵横排列的放射线检测部件;放射线栅网;被检测体图像补正部,其由暗方程式和明方程式来求出被检测体图像的像素值的直接放射线成分,由此生成补正图像,暗方程式中将由各图像中的映入吸收箔的影子的暗像素和从横方向邻接暗像素的邻接像素所构成的暗像素集合中的放射线强度的平均作为直接放射线成分与间接放射线成分之和,明方程式中将没有映入吸收箔的影子的明像素中的放射线强度作为直接放射线成分与间接放射线成分之和。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种放射线摄影装置,用于进行放射线摄影,上述放射线摄影装置,包含以下的要素:放射线源,其照射放射线;放射线检测部件,其中用于检测放射线的放射线检测元件被纵横排列;放射线栅网,其设置成覆盖上述放射线检测部件的放射线检测面,并且将向纵方向延伸的吸收箔排列在横方向上;图像生成部件,其基于从上述放射线检测部件输出的检测信号,生成图像;空间图像存储部件,其对进行在上述放射线源与上述放射线检测部件之间没有放置被检测体的空间摄影后所生成的空间图像进行存储;被检测体图像存储部件,其对进行在上述放射线源与上述放射线检测部件之间放置被检测体的被检测体摄影后所生成的被检测体图像进行存储;以及被检测体图像补正部件,其基于上述空间图像、上述被检测体图像,求出上述被检测体图像中所包含的直接放射线成分,并基于此生成补正图像,上述被检测体图像补正部件,由暗方程式和明方程式来求出上述被检测体图像的像素值中的直接放射线成分,由此生成上述补正图像,其中,上述暗方程式中将由各图像中的映入上述吸收箔的影子的暗像素和从横方向邻接上述暗像素的邻接像素所构成的暗像素集合中的放射线强度的平均为直接放射线成分与间接放射线成分之和,上述明方程式中将没有映入上述吸收箔的影子的明像素中的放射线强度为直接放射线成分与间接放射线成分之和。...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:藤田明德
申请(专利权)人:株式会社岛津制作所
类型:发明
国别省市:JP[日本]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1