立式炉用上下料机构制造技术

本申请涉及一种立式炉用上下料机构，涉及晶圆加工设备领域，立式炉用上下料机构配合座和滑动架，所述配合座设置于一立式炉的入口处，所述滑动架上竖向滑设有一支撑架，所述滑动架上设置有用以驱动所述支撑架沿远离或靠近立式炉入口处滑动的第一驱动件；所述支撑架上设置有密封座，所述密封座上设置有一用于放置晶圆的晶圆架，所述密封座滑动至与所述配合座抵接以将立式炉的入口封闭

【技术实现步骤摘要】
立式炉用上下料机构


[0001]本申请涉及晶圆加工设备的领域，尤其是涉及一种立式炉用上下料机构
。

技术介绍

[0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅，高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，随后慢慢拉出，以形成圆柱形的单晶硅；硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成的硅晶圆片即为晶圆
。
[0003]晶圆在生产完成之后，其表面会携带一些杂质，因而需要对生产后的晶圆进行加工处理，以去除晶圆表面上存有的杂质
。
工业中通常使用立式炉对晶圆进行高温处理，立式炉底部开通入口，通过将多个晶圆放置于晶圆架上，随后将装载有晶圆的晶圆架通过入口送入立式炉中；立式炉运作的过程中，炉内需填充气体并保持一定的压力，因此，将晶圆架送入炉中后，需要将炉门关闭，立式炉方可进行运作以对晶圆进行高温处理
。
[0004]在实际作业中，需要人工将晶圆架送入立式炉中，再通过人工将炉门关闭，由于立式炉运作过程中会产生高温气体，导致人工进行操作时，操作人员易被高温气体烫伤，具有一定的安全隐患，且人工操作的过程中也易对晶圆产生一定的污染
。

技术实现思路

[0005]为了解决上述技术中存在的问题，本申请提供一种立式炉用上下料机构
。
[0006]本申请提供的一种立式炉用上下料机构采用如下的技术方案：一种立式炉用上下料机构包括配合座和滑动架，所述配合座设置于一立式炉的入口处，所述滑动架上竖向滑设有一支撑架，所述滑动架上设置有用以驱动所述支撑架沿远离或靠近立式炉的入口处滑动的第一驱动件；所述支撑架上设置有密封座，所述密封座上设置有一用于放置晶圆的晶圆架，所述密封座滑动至与所述配合座抵接以将立式炉的入口封闭
。
[0007]通过采用上述技术方案，当立式炉未运作时，配合座设置于立式炉的入口处，立式炉入口呈开启状态，支撑架位于立式炉入口的正下方；当需要通过立式炉对晶圆进行高温处理时，将需进行高温处理的晶圆放置于晶圆架上，晶圆由此通过晶圆架被放置于密封座上，随后通过第一驱动件驱动支撑架在滑动架上进行滑动，支撑架的滑动带动密封座进行滑动，密封座由此带动晶圆架沿靠近立式炉的入口的方向滑动，直至密封座滑动至与配合座抵接时，晶圆架整体位于立式炉中，而密封座和配合座的配合将立式炉的入口封闭，从而避免立式炉中的高温气体溢出，保证立式炉内的气压稳定；当晶圆的高温处理结束后，第一驱动件驱动支撑架滑动至复位即可
。
上述过程中各部件的配合，实现晶圆上下料的自动化，晶圆的上下料过程中，无需人工进行晶圆的送料以及炉门的关闭，还可保障立式炉内气压的稳定性，尤其避免了因人工操作导致的安全隐患和对晶圆造成的污染
。
[0008]可选的，所述密封座包括设置于所述支撑架上的密封盘，所述支撑架上转设有旋转座，所述密封盘位于所述旋转座底端，所述支撑架上设置有用以驱动所述旋转座转动的
第二驱动件
。
[0009]通过采用上述技术方案，晶圆被放置于晶圆架上，由此被放置于旋转座上，密封盘位于旋转座底端；当晶圆被送入立式炉中后，旋转座位于立式炉内，而密封盘与配合座抵接以将立式炉封闭，第二驱动件随后驱动旋转座进行旋转，旋转座的旋转带动晶圆架进行转动，由此使得晶圆在立式炉进行高温处理时进行转动，进而提高晶圆受热的均匀性，进一步提高高温处理的效果；并且，在旋转座转动的过程中，密封盘不跟随旋转座一同转动，由此保证立式炉的密封效果
。
[0010]可选的，所述支撑架上设置有沿所述密封盘周向均匀设置有多个调节座，所述调节座内设置有弹性件，所述弹性件与所述密封盘抵接
。
[0011]通过采用上述技术方案，当密封盘跟随支撑架移动至与配合座抵接时，将立式炉的入口封闭，此时调节座内的弹性件处于受压状态，而弹性件的回弹将驱使密封盘保持靠近立式炉入口的趋势，由此进一步确保立式炉运作的密封性；除此之外，弹性件的弹力对密封盘的推动还可避免配合座与密封盘之间产生细微缝隙，由此使得立式炉内的高温气体通过缝隙溢出，以达到提高密封盘与固定座对接时的紧密性的目的
。
[0012]可选的，所述弹性件包括设置于所述调节座内的弹性螺旋片，所述弹性螺旋片内插设有一推杆，所述密封盘上开设有供推杆插接的插槽
。
[0013]通过采用上述技术方案，弹性螺旋片的弹性伸缩用以实现对密封盘的推动，而在密封盘移动的过程中，推杆的端部始终位于插槽中，推杆插设于弹性螺旋片中，由此保证弹性螺旋片弹性伸缩过程中的稳定性，避免弹性螺旋片中调节座中发生错位或者缠绕的情况
。
[0014]可选的，所述旋转座上设置有多个固定杆，所述晶圆架底部开设有多个供对应的固定杆插入的通孔
。
[0015]通过采用上述技术方案，将晶圆架放置于旋转座上，使得多个固定杆分别插入对应的通孔中，由此将晶圆架安装于旋转座上，由此提高晶圆架拆装的便利性，当晶圆架在长期使用的过程中，产生损坏需要进行更换或者清洗时，可将晶圆架与旋转座进行分离，由此提高机构整体的便利性，同时降低零部件的损耗成本
。
[0016]可选的，还包括设置于立式炉一侧的推动件，所述推动件上设置有一挡板，所述推动件用以驱动所述挡板移动至将立式炉的入口遮挡
。
[0017]通过采用上述技术方案，立式炉在对晶圆进行高温处理的过程中，立式炉中会产生高温气体，当晶圆的高温处理结束后，第一驱动件驱动支撑架滑动至复位，推动件随后驱动挡板移动至将立式炉的入口遮挡，从而避免高温气体通过立式炉的入口下溢，由此避免机构整体长期受到高温气体的影响而产生损坏；除此之外，当晶圆的高温处理结束后，需人工将晶圆取出，挡板的设置可避免高温气体下溢而对造成的操作人员的伤害
。
[0018]可选的，所述推动件包括设置于立式炉一侧的固定架，所述固定架上转动连接有驱动杆，所述挡板设置于所述驱动杆上；所述固定架上设置有气缸，所述气缸的活动端设置有连杆，所述连杆与所述驱动杆可拆卸连接
。
[0019]通过采用上述技术方案，气缸活动端的伸缩活动驱动连杆进行移动，连杆的移动带动驱动杆在固定架上进行转动，驱动杆的转动实现挡板的转动，挡板由此可转动至将立式炉的入口遮挡，而连杆与驱动杆可拆卸连接，由此便于后期对驱动源进行检修，当推动件
整体在机构长期使用的过程中产生损坏时，可对损坏的零部件进行单独更换，而无需进行整体更换，由此降低推动件的损耗成本
。
[0020]可选的，所述固定架上设置有限位板，所述气缸的活动端移动至与所述限位板相抵以限制所述气缸的活动端的伸缩范围
。
[0021]通过采用上述技术方案，通过限位板以限制挡板的转动范围，当气缸的活动端移动至与限位板抵接时，气缸活动端的同向伸缩被限制，此时挡板转动至立式炉入口的正下方，从而将立式炉的入口封闭，由此避免挡板转动过度，从而实现对挡板的精准控制
。
[0022]可选的，所述驱动杆本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种立式炉用上下料机构，其特征在于：包括配合座
(1)
和滑动架
(2)
，所述配合座
(1)
设置于一立式炉
(3)
的入口
(4)
处，所述滑动架
(2)
上竖向滑设有一支撑架
(6)
，所述滑动架
(2)
上设置有用以驱动所述支撑架
(6)
沿远离或靠近立式炉
(3)
的入口
(4)
处滑动的第一驱动件
(7)
；所述支撑架
(6)
上设置有密封座
(8)
，所述密封座
(8)
上设置有一用于放置晶圆的晶圆架
(9)
，所述密封座
(8)
滑动至与所述配合座
(1)
抵接以将立式炉
(3)
的入口
(4)
封闭
。2.
根据权利要求1所述的一种立式炉用上下料机构，其特征在于：所述密封座
(8)
包括设置于所述支撑架
(6)
上的密封盘
(801)
，所述支撑架
(6)
上转设有旋转座
(802)
，所述密封盘
(801)
位于所述旋转座
(802)
底端，所述支撑架
(6)
上设置有用以驱动所述旋转座
(802)
转动的第二驱动件
(10)。3.
根据权利要求2所述的一种立式炉用上下料机构，其特征在于：所述支撑架
(6)
上设置有沿所述密封盘
(801)
周向均匀设置有多个调节座
(13)
，所述调节座
(13)
内设置有弹性件，所述弹性件与所述密封盘
(801)
抵接
。4.
根据权利要求3所述的一种立式炉用上下料机构，其特征在于：所述弹性件包括设置于所述调节座
(13)
内的弹性螺旋片
(14)
，所述弹性螺旋片
(14)
内插设有一推杆
(15)
，所述密封盘
(801)
上开设有供推杆
(15)
插接的插槽
(16)。5.
根据权利要求2所述的一种立式炉用上下料机构，其特征在于：所述旋...

【专利技术属性】
技术研发人员：田杰成，徐有根，李克，
申请(专利权)人：湖南艾科威半导体装备有限公司，
类型：发明
国别省市：