【技术实现步骤摘要】
一种兼容4英寸6英寸的上料装置
[0001]本技术属于立式炉加工上料
,涉及一种兼容4英寸6英寸的上料装置
。
技术介绍
[0002]现有的立式炉加工上料设备,只能满足一种尺寸类型的晶片盒进行上料,这种尺寸在设备出厂就已固定,很多芯片或者器件生产厂家
、
研发部门,同一道工艺需要进行6英寸
wafer
和8英寸
wafer
的生产或者研究,固定某一种尺寸的设备无法满足生产或者实验的要求
。
[0003]同一台设备需要满足对6英寸
wafer
和8英寸
wafer
的工艺,面对这一需求,已有立式炉不能满足要求,需要进行改进,其主要难点在于上料装置难以兼容6英寸
wafer
和8英寸
wafer
,因此,需要对上料装置进行改进
。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种兼容4英寸6英寸的上料装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题
。
[0005]本技术的目的可通过下列技术方案来实现:
[0006]一种兼容4英寸6英寸的上料装置,包括上料台板
、
顶架
、
对射传感器
、
晶片盒
、
夹块
、
导轨
、
滑块和气缸,所述上料台板的顶部设置有晶片盒,所述晶片盒的两侧均开设有活动槽,且所述活动槽的内部活动设置有夹块,两个所述夹块置于晶片 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种兼容4英寸6英寸的上料装置,包括上料台板
(1)、
顶架
(2)、
对射传感器
(3)、
晶片盒
(4)、
夹块
(6)、
导轨
(9)、
滑块
(10)
和气缸
(13)
,其特征在于,所述上料台板
(1)
的顶部设置有晶片盒
(4)
,所述晶片盒
(4)
的内部设置有硅晶片
(5)
,所述晶片盒
(4)
的两侧均开设有活动槽,且所述活动槽的内部活动设置有夹块
(6)
,两个所述夹块
(6)
置于晶片盒
(4)
的两侧,所述上料台板
(1)
的底端固定连接有导轨
(9)
,所述导轨
(9)
的外部滑动连接有滑块
(10)
,所述滑块
(10)
的一侧固定连接有固定块
(12)
,且所述夹块
(6)
的底端穿过活动槽与固定块
(12)
的侧面固定连接,所述固定块
【专利技术属性】
技术研发人员:尹昊,李克,
申请(专利权)人:湖南艾科威半导体装备有限公司,
类型:新型
国别省市:
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