SIK制造技术

一方面，本发明专利技术提供可抑制盐诱导型激酶

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】SIK抑制剂及其使用方法


[0001]本专利技术涉及抑制盐诱导型激酶的化合物，以及涉及所述化合物用于治疗或预防受试者的皮肤疾患和皮肤相关疾患
。

技术介绍

[0002]对于很多皮肤疾患的治疗措施具有公认的缺点，包括各种副效应和有限的有效性
。
增加皮肤色素沉积的药剂可能具有从改善炎性皮肤疾患和提供防晒到纯粹的美容应用范围内的很多有益皮肤学效应
。
因此，对于皮肤疾患和瑕疵进行新的治疗将会是所希望的
。
[0003]相关申请的交叉引用
[0004]本申请涉及并主张
2020
年9月
21
日提交的美国专利申请号
63/081,089
的优先权，其整体公开通过引用并入本文
。

技术实现思路

[0005]一方面，我们提供抑制盐诱导型激酶的化合物，用于治疗或预防受试者的皮肤疾患和皮肤相关疾患
。
[0006]在优选的方面，提供下式
(I)
化合物：
[0007][0008]其中
W
为
S
或
O
；
[0009]Y1为
N
或
CR
A
；
[0010]Y2为
N
或
CR
B
；
[0011]环
A
为单环或多环碳脂环族基团
、
单环或多环杂脂环族基团
、r/>单环或多环碳环芳基
、
或单环或多环杂芳基；
[0012]每个
R
为相同或不同的经取代或未经取代的烷基
、
卤素
、
羟基
、
氰基
、
氨基
、
经取代或未经取代的烷氧基
、
经取代或未经取代的烷硫基
、
经取代或未经取代的烷基砜
、
或经取代或未经取代的烷基胺；
[0013]z
为
0(
其中环
A
没有非氢环取代基
)
至环
A
的价态所允许的整数值的整数；
[0014]R
A
和
R
B
独立地为
H、
卤素
、
‑
OH、
‑
NH2、
‑
CN、
或经取代或未经取代的烷基；
[0015]R1为经取代或未经取代的单环或多环碳脂环族基团
、
经取代或未经取代的单环或多环杂脂环族基团
、
经取代或未经取代的单环或多环碳环芳基
、
或经取代或未经取代的单环或多环杂芳基；且
[0016]R4为
H、
或经取代或未经取代的烷基；
[0017]及其药学上可接受的盐
。
[0018]在某些实施方案中，环
A
为单环或多环碳环芳基
、
或多环杂芳基
。
例如，环
A
可以是任选地经取代的苯基
、
任选地经取代的萘基
、
或任选地经取代的蒽基
、
任选地经取代的吡啶基
、
任选地经取代的嘧啶基
、
或任选地经取代的嘌呤基
。
在某些实施方案中，环
A
为苯基
、
萘基或蒽基，且
z
为0至
10
的整数
。
在某些优选实施方案中，环
A
为任选地经取代的苯基
。
[0019]在某些优选实施方案中，环
A
为单环或多环碳脂环族基团
、
或单环或多环杂脂环族基团
。
在某些优选实施方案中，环
A
为多环碳脂环族基团或多环杂脂环族基团
。
在某些优选实施方案中，环
A
为多环碳脂环族基团
。
[0020]在某些优选实施方案中，
R1为单环或多环碳脂环族基团
、
或单环或多环杂脂环族基团
。
在某些优选实施方案中，
R1A
为多环碳脂环族基团或多环杂脂环族基团
。
在某些优选实施方案中，
R1为多环碳脂环族基团
。
[0021]在某些实施方案中，
R1为单环或多环碳环芳基
、
或多环杂芳基
。
例如，
R1可以是任选地经取代的苯基
、
任选地经取代的萘基
、
或任选地经取代的蒽基
、
任选地经取代的吡啶基
、
任选地经取代的嘧啶基
、
或任选地经取代的嘌呤基
。
在某些方面，
R1不是单环基团，诸如苯基或其他单碳环芳基或单环碳脂环
。
[0022]在式
(I)
的某些实施方案中，
z
为0至
20
的整数，更典型地，
z
为
0、1、2、3、4、5、6、7、8、9
或
10
，或在某些实施方案中，
z
为
0、1、2、3、4、5
或6，或在某些实施方案中，
z
为
0、1、2
或
3。
[0023]在式
(I)
的某些实施方案中，
R
为经取代或未经取代的烷基或卤素，诸如
F、Cl、Br
或
I
，特别是
Cl。
在式
(I)
的某些实施方案中，
R
为经取代或未经取代的烷氧基，诸如甲氧基或乙氧基
。
[0024]在某些方面，一个或多个
R
基团为经取代或未经取代的烷基且不含任何不饱和的碳
‑
碳键
。
在某些方面，一个或多个
R
基团为经取代或未经取代的烷基，诸如
C1‑6未经取代的烷基，且不含任何不饱和的碳
‑
碳键
。
在其他方面，
R
为经取代或未经取代的烷基且可含有一个或多个不饱和的碳
‑
碳键
(
且因此，此类
R
可称为经取代或未经取代的烯基，诸如具有2至6或8个碳原子；或经取代或未经取代的炔基，诸如具有2至6或8个碳原子
)。
[0025]在优选的方面，提供下式
(II)
化合物：
[0026][0027]其中
W<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种下式
(I)
化合物：其中
W
为
S
或
O
；
Y1为
N
或
CR
A
；
Y2为
N
或
CR
B
；环
A
为单环或多环碳脂环族基团
、
单环或多环或杂脂环族基团
、
单环或多环碳环芳基
、
或单环或多环碳环芳基杂芳基；每个
R
为相同或不同的经取代或未经取代的烷基
、
卤素
、
羟基
、
氰基
、
氨基
、
经取代或未经取代的烷氧基
、
经取代或未经取代的烷硫基
、
经取代或未经取代的烷基砜
、
或经取代或未经取代的烷基胺；
z
为0至环
A
的价态所允许的值的整数；
R
A
和
R
B
独立地为
H、
卤素
、
‑
OH、
‑
NH2、
‑
CN、
或经取代或未经取代的烷基；
R1为经取代或未经取代的单环或多环碳脂环族基团
、
经取代或未经取代的单环或多环杂脂环族基团
、
经取代或未经取代的单环或多环碳环芳基
、
或经取代或未经取代的单环或多环杂芳基；且
R4为
H、
或经取代或未经取代的烷基；及其药学上可接受的盐
。2.
根据权利要求1所述的化合物，其中每个
R
为相同或不同的经取代或未经取代的烷基
、
或卤素
。3.
根据权利要求1所述的化合物，其中每个
R
为相同或不同的经取代或未经取代的烷基
、
或氯
。4.
根据权利要求1所述的化合物，其中每个
R
为相同或不同的经取代或未经取代的烷基
。5.
根据权利要求1至4中任一项所述的化合物，其中环
A
为单环或多环碳脂环族基团
、
或单环或多环杂脂环族基团
。6.
根据权利要求1至4中任一项所述的化合物，其中环
A
为单环或多环碳环芳基
、
或单环或多环杂芳基
。7.
根据权利要求1至4中任一项所述的化合物，其中环
A
为单环或多环碳环芳基
。8.
根据权利要求1所述的化合物，其中所述化合物为下式
(II)
化合物：
其中
W
为
S
或
O
；
Y1为
N
或
CR
A
；
Y2为
N
或
CR
B
；
R
A
和
R
B
独立地为
H、
卤素
、
‑
OH、
‑
NH2、
‑
CN、
或经取代或未经取代的烷基；
R1为经取代或未经取代的多环碳脂环族或杂脂环族基团；
R2和
R3各自独立地为
H、
经取代或未经取代的烷基
、
卤素
、
羟基
、
氰基
、
氨基
、
经取代或未经取代的烷氧基
、
经取代或未经取代的烷硫基
、
经取代或未经取代的烷基砜
、
或经取代或未经取代的烷基胺；且
R4为
H、
或经取代或经取代或未经取代的烷基；及其药学上可接受的盐
。9.
根据权利要求1所述的化合物，其中所述化合物为下式
(III)
化合物：其中在式
(III)
中：
W
为
S
或
O
；
R1为经取代或未经取代的多环碳脂环族或杂脂环族基团；
R2和
R3各自独立地为
H、
经取代或未经取代的烷基
、
卤素
、
羟基
、
氰基
、
氨基
、
经取代或未经取代的烷氧基
、
经取代或未经取代的烷硫基
、
经取代或未经取代的烷基砜
、
或经取代或未经取代的烷基胺；且
R4为
H、
或经取代或未经取代的烷基；及其药学上可接受的盐
。10.
根据权利要求1所述的化合物，其中所述化合物为下式
(IV)
化合物：其中在式
(IV)
中：
R1为经取代或未经取代的多环碳脂环族或杂脂环族基团；
R2和
R3各自独立地为
H、
经取代或未经取代的烷基
、
卤素
、
羟基
、
氰基
、
氨基
、
经取代或未经取代的烷氧基
、
经取代或未经取代的烷硫基
、
经取代或未经取代的烷基砜

【专利技术属性】
技术研发人员：B，
申请(专利权)人：索尔特戈公司，
类型：发明
国别省市：