【技术实现步骤摘要】
一种离子束沉积系统的靶材装置
[0001]本技术属于离子束沉积
,尤其涉及一种离子束沉积系统的靶材装置
。
技术介绍
[0002]离子束沉积
(IBD)
技术在光纤
、
计算机
、
通信
、
纳米技术
、
新材料
、
集成光学等领域发挥其强大的作用,理想的薄膜应该具有光学性质稳定
、
无散射和吸收
、
机械性能强和化学性质稳定等特征,而离子束沉积
(IBD)
正好提供了能够达到这些要求的技术平台,目前离子束刻蚀和沉积技术的应用领域不断地被拓宽,尤其是随着芯片集成度提高,关键尺寸缩小,高选择比以及精确的图形转移等工艺需求的提高,更突显了离子束沉积优点
。
[0003]如图1所示,离子束沉积
(IBD)
技术是使用离子源在真空中轰击不同材料的靶材表面,使得靶材材料沉积到产品表面的一种技术,该技术是近些年发展起来的制备高质量薄膜的一种非常重要的方法,它具有其它制膜技术无法比拟的优点,且离子束沉积技术污染小,成膜条件精确可控
。
靶材是制作薄膜的材料,靶材作为离子束轰击的目标材料,为离子束沉积系统提供溅射源,为了得到不同的膜系,需要更换不同的靶材,而且在离子束轰击靶材的过程中会产生高温,温度过高会影响离子源溅射系统的溅射质量
。
靶材的角度也会影响镀膜的速率也会影响薄膜质量
。
[0004] ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种离子束沉积系统的靶材装置,其特征在于,所述靶材装置包括靶材
、
屏蔽罩
、
转动机构和驱动机构;所述转动机构包括磁流体轴和磁流体密封部,磁流体密封部固定在真空腔室侧壁外部,磁流体轴依次穿过磁流体密封部和真空腔室侧壁进入腔室内部;所述靶材固定在磁流体轴上,随磁流体轴转动;屏蔽罩套设在靶材外侧,与靶材之间具有间隙;所述驱动机构与转动机构连接,根据外部控制指令调整磁流体轴的转速
。2.
根据权利要求1所述的离子束沉积系统的靶材装置,其特征在于,所述屏蔽罩呈柱状,屏蔽罩和磁流体轴同轴设置;所述屏蔽罩的侧壁上设置有一工作平面,工作平面的中心处开设有开口,开口尺寸与靶材尺寸相匹配
。3.
根据权利要求2所述的离子束沉积系统的靶材装置,其特征在于,所述磁流体轴上周向分布有
N
个靶材,所述
N
为大于1的正整数
。4.
根据权利要求3所述的离子束沉积系统的靶材装置,其特征在于,所述
N
的取值为
4。5.
根据权利要求1所述的离子束沉积系统的靶材装置,其特征在于,所述磁流体密封部包括密封定子和密封转动轴,密封定子固定在真空腔室侧壁上,密封转动轴的一端延伸至密封定子远离真空腔室侧壁的一侧,另一端穿过真空腔室侧壁与屏蔽罩固定连接
。6.
根据权利要求5所述的离子束沉积系统的靶材装置,其特征在于,所述密封转动轴上安装有紧固销,用于将密封转动轴固定在密封定子上
。7.
根据权利要求5所述的离子束沉积系统的靶材装置,其特征在于,所述密封定子上设置有角度值刻度线;所述密封转动轴上设置有指示线
。8.
根据权利要求1所述的离子束沉积系统的靶材装置,其特征在于,所述驱动机构包括电机固定座
、
电机
、
同步带和同步轮;所述电机通过电机固定座安装在真空腔室侧壁外部,所述同步轮同轴安装在磁流体轴上,同步轮通过同步带与电机的转轴连接
。9.
根据权利要求1所述的离子束沉积系统的靶材装置,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:桑康,胡少谦,陈龙保,胡冬冬,程实然,王铖熠,耿斌,许开东,
申请(专利权)人:江苏鲁汶仪器股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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