【技术实现步骤摘要】
一种干法刻蚀通孔的方法
[0001]本申请涉及半导体领域,特别是一种干法刻蚀通孔的方法
。
技术介绍
[0002]随着半导体技术的飞速发展,集成电路的集成度越来越高,器件的性能和精度需求也在日益增加,刻蚀技术已经成为集成电路制造中至关重要的技术
。
干法刻蚀技术作为一种拥有众多优点的刻蚀技术,已被广泛应用于高精度半导体器件制造领域
、
光电器件制造以及材料科学等领域
。
[0003]干法蚀刻系统的蚀刻介质是等离子体,它是利用等离子体与表面膜反应,产生挥发性物质,或直接轰击膜表面使其蚀刻的过程
。
然而,由于干法刻蚀通孔的过程中,极易形成碗状缺陷(
bowing
)及碳沉积,并且刻蚀过程中容易造成光刻胶的损失导致无法准确传递图形尺寸,影响通孔质量和器件可靠性
。
技术实现思路
[0004]鉴于所述问题,提出了本申请以便提供克服所述问题或者至少部分的解决所述问题的一种干法刻蚀通孔的方法,包括:一种干法刻蚀通孔的方法,用于对在半导体基底上沉积的介质叠层进行刻蚀,所述介质叠层包括光刻胶层
、
底部抗反射层
、
第一
TEOS
层
、BD
层
、
第二
TEOS
层和刻蚀阻挡层;所述方法包括:采用所述第一刻蚀气体对所述底部抗反射层进行第一次刻蚀;采用所述第二刻蚀气体对所述底部抗反射层进行第二次刻蚀;依次对所述第一
...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种干法刻蚀通孔的方法,用于对在半导体基底上沉积的介质叠层进行刻蚀,其特征在于,所述介质叠层包括光刻胶层
、
底部抗反射层
、
第一
TEOS
层
、BD
层
、
第二
TEOS
层和刻蚀阻挡层;所述方法包括:采用所述第一刻蚀气体对所述底部抗反射层进行第一次刻蚀;采用所述第二刻蚀气体对所述底部抗反射层进行第二次刻蚀;依次对所述第一
TEOS
层
、
所述
BD
层
、
所述第二
TEOS
层进行刻蚀,使所述刻蚀阻挡层产生损失量,形成目标金属层沟槽
。2.
根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述采用所述第一刻蚀气体对所述底部抗反射层进行第一次刻蚀的步骤,包括:当刻蚀作用
30
‑
45s
时,停止对所述底部抗反射层的第一次刻蚀
。3.
根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一刻蚀气体包括
CF4、CHF3和
O2,所述第一刻蚀气体的气体比例为
CF4:
CHF3:
O2=150
:
30
:
2。4.
根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第二刻蚀气体包括
CF4和
O2,所述第二刻蚀气体的气体比例为
CF4:
O2=150
:
11。5.
根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述第二次刻蚀的条件为
O2处在
25
‑
30MHZ。6.
根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述依次对所述第一
TEOS
...
【专利技术属性】
技术研发人员:汪之涵,傅俊寅,温正欣,
申请(专利权)人:深圳基本半导体有限公司,
类型:发明
国别省市:
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