基板清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种基板清洗装置，基板浸没于清洗槽内的清洗剂中，磁场发生模块用于为所述清洗剂提供匀强磁场，所述匀强磁场穿过所述基板；超声波发生模块用于向所述清洗剂提供超声波，所述超声波的方向与所述匀强磁场的方向不平行

【技术实现步骤摘要】
基板清洗装置


[0001]本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种基板清洗装置
。

技术介绍

[0002]在半导体制造工序中，颗粒附着于基板成为左右产品成品率的较大因素
。
因此，需要对基板进行去除颗粒的清洗工艺
。
[0003]目前业内普遍采用湿法清洗工艺清洗基板，湿法清洗工艺的清洗剂可以使用
SPM
清洗剂
(
硫酸
/
过氧化氢混合溶液
)、SC
‑1清洗剂
(1
号清洗液
)、DHF
清洗剂
(
稀氢氟酸溶液
)、
超纯水或功能水
(
脱气水
、
氢气水等
)
等，清洗前通常会对清洗剂进行升温，以提高清洗剂的离子活性，提高清洗效果和效率
。
例如，
SPM
清洗剂会被加热至
90℃
～
130℃
，
SC
‑1清洗剂会被加热至
30℃<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种基板清洗装置，其特征在于，包括：清洗槽，用于容纳清洗剂，基板浸没于所述清洗剂中；磁场发生模块，用于向所述清洗剂提供匀强磁场，所述匀强磁场穿过所述基板；以及，超声波发生模块，用于向所述清洗剂提供超声波，所述超声波的方向与所述匀强磁场的方向不平行
。2.
如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述磁场发生模块包括：两个半径相等的环形线圈，设置于所述清洗槽外，且位于所述清洗槽相对的两侧，两个所述环形线圈上施加有大小相等且方向相同的电流
。3.
如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述磁场发生模块包括：两个磁体，设置于所述清洗槽外，且位于所述清洗槽相对的两侧
。4.
如权利要求1～3中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，所述清洗剂包括硫酸及过氧化氢，清洗温度为
55℃
～
70℃。5.
如权利要求1～3中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，所述清洗剂包括氢氧化铵及过氧化氢，清洗温度为
...

【专利技术属性】
技术研发人员：任雨萌，季明华，林岳明，冯涛，李元贞，
申请(专利权)人：上海传芯半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：