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本发明提供了一种基板清洗装置，基板浸没于清洗槽内的清洗剂中，磁场发生模块用于为所述清洗剂提供匀强磁场，所述匀强磁场穿过所述基板；超声波发生模块用于向所述清洗剂提供超声波，所述超声波的方向与所述匀强磁场的方向不平行
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该专利属于上海传芯半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海传芯半导体有限公司授权不得商用。

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