本实用新型专利技术公开了一种高反射陶瓷基板制作用反应釜装置，属于高反射陶瓷基板制作设备技术领域。高反射陶瓷基板制作用反应釜装置，包括反应釜和支架组件，反应釜装设在支架组件上，支架组件上设连有电动搅拌机构，电动搅拌机构的搅拌杆纵向穿设在反应釜内，反应釜上设有加料孔，反应釜的上部和下部都设有内嵌转轴的密封件，反应釜的底部装在减振托台件上，减振托台件能在支架组件上进行上下高度的调节或固定。本实用新型专利技术解决了现有高反射陶瓷基板带搅拌器的反应釜内易出现搅拌死角，高度不可调，反应釜底部易出现微振磨损的问题。反应釜底部易出现微振磨损的问题。反应釜底部易出现微振磨损的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种高反射陶瓷基板制作用反应釜装置
[0001]本技术涉及高反射陶瓷基板制作设备
，尤其涉及一种高反射陶瓷基板制作用反应釜装置。
技术介绍
[0002]高反射陶瓷基板比普通的氧化铝陶瓷基板在反射率上有很大提高，可以提高LED光源的发光效率；在同等光通量的情况下，可减少在基板上搭载的LED芯片数量，降低LED的生产成本。通过测量，普通陶瓷基板的反射率大约是92％，抗弯强度大约是380Mpa，装配易破裂；镜面高反射陶瓷基板的反射率约是98％，抗弯强度可达到500Mpa，利用在普通陶瓷粉料中添加氧化锌﹑氧化锆等相应化合物制作的高反射陶瓷基板，能提高陶瓷基板COB封装光源的光效，提高陶瓷基板的机械强度和热稳定性。在制作高反射陶瓷基板的过程中，需要使用带搅拌器的反应釜。
[0003]但是，现有带搅拌器的反应釜使用时存在：高度不可调，反应釜上部和底部易出现微振磨损，损坏反应釜的问题。为此，我们公司开发了一种高反射陶瓷基板制作用反应釜装置。
技术实现思路
[0004]本技术的目的是为了解决现有带搅拌器的反应釜在使用存在的上述问题，而提出的一种高反射陶瓷基板制作用反应釜装置，本技术整体稳定性好，能实现对反应釜整体高度的上下调整或固定，消除反应釜上部和底部因微振而磨损，进而导致反应釜损坏的缺陷，适合作为高反射陶瓷基板制作用反应釜装置推广使用。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种高反射陶瓷基板制作用反应釜装置，包括反应釜和支架组件，反应釜装设在支架组件上，支架组件上设连有电动搅拌机构，电动搅拌机构的搅拌杆纵向穿设在反应釜内，反应釜上设有加料孔，反应釜的上部上纵向通孔和下部下纵向通孔内都设有内嵌转轴的密封件，还包括：
[0007]反应釜的底部装在减振托台件上，减振托台件能在支架组件上进行上下高度的调节或固定，
[0008]所述电动搅拌机构有搅拌杆，搅拌杆的顶部通过联轴器与电机连接，搅拌杆的上部和下部，分别与反应釜上部上纵向通孔和下部下纵向通孔内设的内嵌转轴的密封件连接，电机能带动搅拌杆在反应釜内转动，
[0009]所述搅拌杆上设有防搅拌死角连动部，连动部能在搅拌杆上移动或固定。
[0010]为了使搅拌杆在其与反应釜的连接处，既能进行转动运动，又能避免反应釜与搅拌杆的转动连接处密封性好，防止反应釜在对应区位处发生微漏或渗漏，进一步地，所述搅拌杆的下部通过内嵌转轴的密封件一装在反应釜下部的下纵向通孔内，搅拌杆的上部通过内嵌转轴的密封件二装在反应釜上部的上纵向通孔内，
[0011]所述内嵌转轴的密封件一装设在反应釜下部的下纵向通孔内，搅拌杆的下部与内嵌转轴密封组件一中的转轴连接，
[0012]所述内嵌转轴的密封件二装设在反应釜上部的上纵向通孔内，搅拌杆的上部与内嵌转轴密封组件二中的转轴穿连，搅拌杆的上顶部通过联轴器与电机连接，
[0013]内嵌转轴的密封件一既能使搅拌杆的下部与此处的内嵌转轴连接，在电机带动搅拌杆转动时，搅拌杆下部能进行圆周转动，搅拌杆的下部在此处的内嵌转轴处稳定转动，内嵌转轴的密封件一又能使转轴装设在反应釜下部的下纵向通孔内密封性好，防止反应釜内的物质从下纵向通孔处发生微漏或渗漏；
[0014]内嵌转轴的密封件二能使搅拌杆上部稳定穿装在内嵌转轴密封组件二中的转轴处，在电机带动搅拌杆转动时，搅拌杆上部能在此处的转轴处进行转动，又能使此处的转轴外侧的密封件二与反应釜上部的上纵向通孔密封性好。
[0015]为了避免倒Y形中空支管部的下底部孔外侧与可拆卸塞堵件间发生微震磨损，以及防止倒Y形中空支管部的上部与反应釜下纵向通孔连接区域的周围外侧区域发生微震磨损而损坏，更进一步地，所述内嵌转轴的密封件一装设在反应釜下部的下纵向通孔内，反应釜下部的下纵向通孔周围连设有倒Y形中空支管部，
[0016]倒Y形中空支管部的上部与反应釜的下纵向通孔周围连为一体，倒Y形中空支管部的下底部孔内装有可拆卸塞堵件，
[0017]当可拆卸塞堵件堵塞在倒Y形中空支管部的下底部孔处时，反应釜内的物质不会从倒Y形中空支管部的下底部孔处泄露，
[0018]当可拆卸塞堵件从倒Y形中空支管部的下底部孔处拆除或拔除时，外界气体能从此处进入倒Y形中空支管部和反应釜下部的下纵向通孔处，利于旋转调整反应釜下部的下纵向通孔处内的内嵌转轴的密封件一，或定期更换拆卸调整内嵌转轴的密封件一，或转动调节反应釜下部的下纵向通孔处内的内嵌转轴的密封件一处的搅拌杆的下底部，使反应釜内的物质能够进入到倒Y形中空支管部的内部；
[0019]所述倒Y形中空支管部的下底部孔外侧与可拆卸塞堵件连接区域的周围外侧套设有可调减震环件一，
[0020]可调减震环件一能防止倒Y形中空支管部的下底部孔外侧与可拆卸塞堵件间，发生微震或相互摩擦运动，而损坏可拆卸塞堵件或倒Y形中空支管部的下底部孔外侧；
[0021]所述倒Y形中空支管部的上部与反应釜下纵向通孔连接区域的周围外侧套设有可调减震环件二，
[0022]可调减震环件二能防止倒Y形中空支管部的上部与反应釜下纵向通孔连接区域的周围外侧区域发生微震磨损，而损坏反应釜下纵向通孔外侧周围的部分。
[0023]为了使反应釜内的物质通过倒Y形中空支管部出料顺利，再进一步地，所述倒Y形中空支管部的下部一侧设有出料口，出料口外侧周围有外磨砂区，出料口外磨砂区上装设有内磨砂扣帽件，
[0024]打开出料口上的内磨砂扣帽件后，从出料口能对倒Y形中空支管部的下部一侧进行侧向进气，使反应釜内的物质，通过倒Y形中空支管部进行缓冲流动调整，确保流到倒Y形中空支管部内的物质出料顺利；
[0025]在出料口上盖装上内磨砂扣帽件后，能封闭出料口，防止反应釜内的物质从出料
口处漏出。
[0026]为了使反应釜的下部能稳定装设在支架组件上，并能消除电机搅拌运动，对反应釜的下部造成的振动损坏，进一步地，所述减振托台件有环托体件，环托体件的内侧嵌设有减振防滑垫，反应釜的下部周围设装在环托体件内嵌的减振防滑垫上，
[0027]环托体件能对反应釜的下部进行稳定载托承载，
[0028]当电机带动搅拌杆在反应釜内进行转动搅拌时，减振防滑垫能消除或充分减弱，反应釜的下部周围与环托体件之间的振动磨损；
[0029]环托体件和减振防滑垫能使反应釜的下部被稳定限位，不会发生晃动；
[0030]所述环托体件上设装有横托杆，横托杆通过螺接套卡件与支架组件连接，
[0031]横托杆能为环托体件提供稳定的托举力，横托杆和环托体件能使反应釜被稳定地装设在支架组件上。
[0032]为了使反应釜整体被限装在支架组件上，并能在支架组件上进行上下移动调节或固定，进一步地，所述支架组件有框体和支架立柱体，框体套装在支架立柱体上，框体能通过螺栓固装在支架立柱体上，松动螺栓，框体能在支架立柱体上上下调节移动，拧紧螺栓后，框体能被固定在支架立柱体上；
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高反射陶瓷基板制作用反应釜装置，包括反应釜和支架组件，反应釜装设在支架组件上，支架组件上设连有电动搅拌机构，电动搅拌机构的搅拌杆纵向穿设在反应釜内，反应釜上设有加料孔，反应釜的上部上纵向通孔和下部下纵向通孔内都设有内嵌转轴的密封件，其特征在于，还包括：反应釜的底部装在减振托台件上，减振托台件能在支架组件上进行上下高度的调节或固定，所述电动搅拌机构有搅拌杆，搅拌杆的顶部通过联轴器与电机连接，搅拌杆的上部和下部，分别与反应釜上部上纵向通孔和下部下纵向通孔内设的内嵌转轴的密封件连接，电机能带动搅拌杆在反应釜内转动。2.根据权利要求1所述的一种高反射陶瓷基板制作用反应釜装置，其特征在于，所述搅拌杆的下部通过内嵌转轴的密封件一装在反应釜下部的下纵向通孔内，搅拌杆的上部通过内嵌转轴的密封件二装在反应釜上部的上纵向通孔内，所述内嵌转轴的密封件一装设在反应釜下部的下纵向通孔内，搅拌杆的下部与内嵌转轴密封组件一中的转轴连接，所述内嵌转轴的密封件二装设在反应釜上部的上纵向通孔内，搅拌杆的上部与内嵌转轴密封组件二中的转轴穿连，搅拌杆的上顶部通过联轴器与电机连接。3.根据权利要求2所述的一种高反射陶瓷基板制作用反应釜装置，其特征在于，所述内嵌转轴的密封件一装设在反应釜下部的下纵向通孔内，反应釜下部的下纵向通孔周围连设有倒Y形中空支管部，倒Y形中空支管部的上部与反应釜的下纵向通孔周围连为一体，倒Y形中空支管部的下底部孔内装有可拆卸塞堵件，所述倒Y形中空支...
【专利技术属性】
技术研发人员：张文振，徐斌，孔德方，
申请(专利权)人：浙江新瓷智能科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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