主动元件阵列基板及其制作方法技术

技术编号:3936628 阅读:131 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术是关于一种主动元件阵列基板及其制作方法,主动元件阵列基板包括基材及至少一图案化多层金属层。图案化多层金属层配置于基材上,其中图案化多层金属层至少包括铜层。图案化多层金属层是以蚀刻液蚀刻而成,蚀刻液包括氧化剂、酸碱值调整剂与金属离子螯合剂。图案化多层金属层在垂直基材的剖面是梯形,且梯形的底角小于60°。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种主动元件阵列基板,且特别是有关于一种具有铜金属层的主动元件阵列基板。
技术介绍
随着薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)面板尺寸愈做愈大,伴随的是金属导线阻值不够低所产生的电阻电容(RC)延迟效应,因而,导致信号在传输的过程中产生扭曲失真,而影响面板画质的呈现。利用阻值低的铜金属来形成金属导线,可以有效降低RC延迟效应。同时,铜层与基板之间还需要一钼层以避免铜离子扩散至基板中。然而,铜层与钼层的双层结构在蚀刻后,常存在倾斜角(taper angle)过高,即大于60度、关键尺寸误差(critical dimension (CD) bias)过大与钼层底切等问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种主动元件阵列基板,其具有较佳的电性效能。 本专利技术提供一种主动元件阵列基板的制作方法,其可避免后续制造工艺薄膜的缺陷或断路等问题。 本专利技术提出一种主动元件阵列基板,其包括基材及至少一图案化多层金属层。图案化多层金属层配置于基材上,其中图案化多层金属层至少包括铜层。图案化多层金属层是以蚀刻液蚀刻而成,蚀刻液包括氧化剂、酸碱值调整剂与金属离子螯合剂。图案化多层金属层在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种主动元件阵列基板,其特征在于,所述的主动元件阵列基板包括:一基材;以及至少一图案化多层金属层配置于所述的基材上,其中所述的图案化多层金属层至少包括一铜层,所述的图案化多层金属层是以一蚀刻液蚀刻而成,所述的蚀刻液包括氧化剂、酸碱值调整剂与金属离子螯合剂,且所述的图案化多层金属层在垂直所述的基材的一剖面是一梯形,所述的梯形的底角小于60°。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈柏林林瑜旻林致远陈惠军林俊男蔡文庆
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利