一种便于进样的高密封真空腔室制造技术

本实用新型专利技术属于真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种便于进样的高密封真空腔室，包括工作腔室、支柱和泵腔室，所述工作腔室内壁两侧开设有通口，所述工作腔室内部和正面设置有进样装置，所述进样装置包括移动单元和放置单元。该便于进样的高密封真空腔室，通过设置进样装置，可以很方便将待加工的样品送进工作腔室内部，从而提升了该装置生产加工的速率，解决了背景技术中提出的该装置在进样的过程中较为复杂，从而使得加工的速率受到影响的问题，通过设置进样装置，可以在不影响该装置的密封性情况下进行无件的输送，提升了该装置的实用性能，并且该进样装置利用的原理通俗，结构简单，值得推广。值得推广。值得推广。

【技术实现步骤摘要】
一种便于进样的高密封真空腔室


[0001]本技术涉及真空镀膜设备
，具体为一种便于进样的高密封真空腔室。

技术介绍

[0002]控溅射是一种常用的物理气相沉积工艺，一般用于制造金属、半导体等材料的薄膜。例如，用于制造薄膜太阳能电池中的背电极等膜层磁控溅射原理为，在真空腔室内，利用高能粒子撞击靶材，使撞击出靶材粒子沉积在待形成膜层的基材上。现有的用于真空腔室动密封的技术手段主要是两类：磁流体密封轴承和不锈钢波纹管。磁流体密封轴承只能对做旋转运动的轴进行密封，波纹管只能对沿轴向直线运动的结构进行密封，这两种密封的技术手段都无法兼顾旋转运动和直线运动结构。而高真空腔体内部可用于设计传动机构的空间有限，如果传动机构很复杂结构尺寸占腔室的比例很大，不仅增加泄露的概率而且需要制造更大的腔室，设备的成本会增加。
[0003]在公开号为CN210984764U的专利文件中提出一种真空腔室，该装置包括壳体，壳体的第一侧壁上形成有卡匣进入壳体内的入口，第二侧壁和第三侧壁上设有用于驱动卡匣沿垂直于第一侧壁的方向移动的传输机构，传输机构包括壳体内的多个主本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种便于进样的高密封真空腔室，包括工作腔室(1)、支柱(2)和泵腔室(3)，其特征在于：所述工作腔室(1)内壁两侧开设有通口(4)，所述工作腔室(1)内部和正面设置有进样装置；所述进样装置包括移动单元和放置单元；所述移动单元包括安放件(501)、移动槽(502)、转动孔(503)、固定环(504)、固定栓(505)、转杆(506)、转把(507)、转轴(508)和移动块(509)，所述安放件(501)固定安装于工作腔室(1)内部，所述移动槽(502)开设有安放件(501)顶端，所述转动孔(503)开设于安放件(501)正面，所述固定环(504)设置于工作腔室(1)正面，所述固定栓(505)连接于固定环(504)连接处，所述转杆(506)连接于固定环(504)内部，所述转把(507)固定安装于转杆(506)正面，所述转轴(508)固定安装于转杆(506)背端，所述移动块(509)连接于转杆(506)外壁；所述放置单元包括放置板(510)、穿槽(511)、连接板(512)、密封条(513)和连接栓(514)，所述放置板(510)固定安装于移动块(509)顶端，所述穿槽(511)开设于工作腔室(1)正面，所述连接板(512)固定安装于放置板(510)正面，所述密封条(513)安装于连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭书周，
申请(专利权)人：北京帕托真空技术有限公司，
类型：新型
国别省市：