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本实用新型属于真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种便于进样的高密封真空腔室，包括工作腔室、支柱和泵腔室，所述工作腔室内壁两侧开设有通口，所述工作腔室内部和正面设置有进样装置，所述进样装置包括移动单元和放置单元。该便于进样的高密封真空腔室，通过...
该专利属于北京帕托真空技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京帕托真空技术有限公司授权不得商用。

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