【技术实现步骤摘要】
一种产四氢嘧啶的嗜甲烷工程菌及其构建方法和应用
[0001]本专利技术属于生物
,尤其涉及一种产四氢嘧啶的嗜甲烷工程菌及其构建方法和应用。
技术介绍
[0002]面对地球平均温度的稳步上升及其对环境的相关不利影响,各国提出了减少温室气体的倡议。甲烷(CH4)是全球排放的第二大温室气体,占温室气体排放总量的12%,其全球变暖潜势是CO2的25倍。为了响应我国提出的双碳战略的号召,推进甲烷减排是重要策略之一。
[0003]四氢嘧啶是一种相容性溶质,可在多种耐盐细菌中维持渗透平衡。四氢嘧啶能够作为酶、蛋白质复合物、核酸和细胞膜的稳定剂,能在冷冻、高温、高紫外线辐射等极端条件下保护微生物,是微生物合成的最有价值的生物产品之一。目前,四氢嘧啶已经应用于医药、化妆品、食品和生物制剂等多个领域,年产量约为15000吨,价格约为1000美元/千克。目前工业上利用嗜盐微生物生产四氢嘧啶,尽管该工业过程具备丰富的设计经验和操作经验,但该过程以葡萄糖作为碳源使得成本高昂,降低了成本效益,并存在与粮食作物土地和食品市场竞争的问题。
[0004]嗜甲烷菌是以甲烷作为唯一碳源的微生物,是将甲烷转化为增值化学品和燃料的重要工业生物催化剂。近年来,在间歇式和连续式生物反应器中进行的研究表明,嗜甲烷菌可以表达参与四氢嘧啶合成的基因簇,能够利用甲烷合成四氢嘧啶。因此,利用其这一特性有望降低四氢嘧啶生产的成本及促进甲烷减排。尽管目前已经研究出嗜甲烷菌的全基因组序列和C1同化途径,但是利用甲烷合成的四氢嘧啶产量低,限制了基于嗜甲烷菌的 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种产四氢嘧啶的嗜甲烷工程菌,包括嗜甲烷菌宿主,其特征在于,该嗜甲烷菌宿主单敲除了L
‑
2,4
‑
二氨基丁酸转氨酶编码基因doeD、四氢嘧啶水解酶编码基因doeA或丙酮酸激酶编码基因pykA;或者该嗜甲烷菌宿主过表达了天冬氨酸激酶编码基因ask;或者该嗜甲烷菌宿主双敲除了L
‑
2,4
‑
二氨基丁酸转氨酶编码基因doeD和四氢嘧啶水解酶编码基因doeA;所述基因doeD的核苷酸序列如图SEQ ID NO.1所示;所述基因doeA的核苷酸序列如图SEQ ID NO.2所示;所述基因pykA的核苷酸序列如图SEQ ID NO.3所示;所述基因ask的核苷酸序列如图SEQ ID NO.4所示。2.根据权利要求1所述的一种产四氢嘧啶的嗜甲烷工程菌,其特征在于,所述的嗜甲烷菌宿主选自甲基单胞菌属(Methylomonas)、甲基杆菌属(Methylobacter)、甲基球菌属(Methylococcus)、甲基微菌(Methylomicrobium)、甲基球形属(Methylosphaera)、甲基热菌(Methylocaldum)、甲基八叠球菌属(Methylosarcina)、甲基弯曲菌属(Methylosinus)、甲基孢囊菌属(Methylocystis)、甲基细胞菌属(Methylocella)和甲基帽菌属(Methylocapsa)中的一种或任意比例多种。3.根据权利要求1或2所述的一种产四氢嘧啶的嗜甲烷工程菌的构建方法,其特征在于,步骤如下:利用重叠PCR将doeD的上下游同源臂与抗性基因相连得到doeD基因敲除复合体,通过电转化的方式将嗜甲烷菌基因组上的doeD用基因敲除复合体替换,得到嗜甲烷工程菌MAHE01。4.根据权利要求1或2所述的一种产四氢嘧啶的嗜甲烷工程菌的构建方法,其特征在于,步骤如下:利用重叠PCR将doeA的上下游同源臂与抗性基因相连得到doeA基因敲除复合体,通过电转化的方式将嗜甲烷菌基因组上的doeA用基因敲除复合体替换,得到嗜甲烷工程菌MAHE02。5.根据权利要求1或2所述的一种产四氢嘧啶的嗜甲烷工程菌的构建方法,其特征在于,步骤如下:利用重叠PCR将pykA的上下游同源臂与抗性基因相连得到pykA基因敲除复合体,通过电转化的方式将嗜甲烷菌基因组上的pykA用基因敲除复合体替换,得到嗜甲烷工程菌MAHE03。6.根据权利要求1或2所述的一种产四氢嘧啶的嗜甲烷工程菌的构建方法,其特征在于,步骤如下:将基因ask与质粒pAWP89线性化载体相连构建重组质粒P01(pAWP89::ask),然后转入嗜甲烷菌中,得到嗜甲烷工程菌MAHE04。7.根据权利要求1或2所述的一种产四氢嘧啶的嗜甲烷工程菌的构建方法,其特征在于,步骤如下:利用重叠PCR将doeD和doeA的上下游同源臂与抗性基因相连得到doeD和doeA基因敲除复合体,通过电转化的方式将嗜甲烷菌基因组上的doeD用基因敲除复合体替换,得到嗜甲烷工程菌MAHE05。
8.基于上述根据权利要求3
‑
7构建方法得到的嗜甲烷工程菌MAHE01
‑
05在产四氢嘧啶上的应用,其特征在于,包括如下步骤:(1)将嗜甲烷工程菌经菌种活化、种子培养后,以体积分数5%
‑
25%的接种量接种至氯化钠浓度为7.5
‑
60g/L的液体NMS培养基中,于25
‑
35℃、150rpm
‑
300rpm的条件下培养60
‑
96h,培养体系采用可封闭的气液两相体系,培养初始及过程中向培养体系内补充甲烷,甲烷的添加量为培养体系气相体积的4%
‑
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。