显示装置的制造方法及蒸镀装置制造方法及图纸

技术编号:39255812 阅读:9 留言:0更新日期:2023-10-30 12:07
本发明专利技术涉及显示装置的制造方法及蒸镀装置。根据一个实施方式,包括:准备处理基板,其中在基板的上方形成下电极、形成具有与下电极重叠的开口的肋部、并形成隔壁,该隔壁包含位于肋部之上的下部、及位于下部之上并从下部的侧面突出的上部;在开口中且在下电极之上形成有机层;和在有机层之上形成蚀刻阻止层,在形成蚀刻阻止层的工序中,在第1模式中,蒸镀源相对于处理基板的法线倾斜,一边使蒸镀源与处理基板的相对位置变化,一边对从蒸镀源放射出的材料进行蒸镀,在第2模式中,蒸镀源以与第1模式不同的方式相对于处理基板的法线倾斜,一边使蒸镀源与处理基板的相对位置与第1模式相反地变化,一边对从蒸镀源放射出的材料进行蒸镀。镀。镀。

【技术实现步骤摘要】
显示装置的制造方法及蒸镀装置
[0001]关联申请的交叉参照
[0002]本申请基于2022年4月25日提出申请的日本专利申请第2022

071784号主张优先权,并引用该日本申请所记载的全部记载内容


[0003]本专利技术的实施方式涉及显示装置的制造方法及蒸镀装置。

技术介绍

[0004]近年来,应用有机发光二极管(OLED)作为显示元件的显示装置被实用化。该显示元件包括:包含薄膜晶体管的像素电路;与像素电路连接的下电极;覆盖下电极的有机层;和覆盖有机层的上电极。有机层除了发光层以外还包含空穴输送层、电子输送层等功能层。
[0005]在制造这种显示元件的过程中,需要抑制可靠性降低的技术。

技术实现思路

[0006]实施方式的目的在于提供能够抑制可靠性降低的显示装置的制造方法及蒸镀装置。
[0007]根据一个实施方式,显示装置的制造方法中包括:
[0008]准备处理基板,该处理基板中在基板的上方形成下电极、形成具有与所述下电极重叠的开口的肋部、并形成隔壁,该隔壁包含位于所述肋部之上的下部、及位于所述下部之上并从所述下部的侧面突出的上部;在所述开口中且在所述下电极之上形成有机层;和在所述有机层之上形成蚀刻阻止层,在形成所述蚀刻阻止层的工序中,在第1模式中,蒸镀源相对于所述处理基板的法线倾斜,一边使所述蒸镀源与所述处理基板的相对位置变化,一边对从所述蒸镀源放射出的材料进行蒸镀,在第2模式中,所述蒸镀源以与所述第1模式不同的方式相对于所述处理基板的法线倾斜,一边使所述蒸镀源与所述处理基板的相对位置与所述第1模式相反地变化,一边对从所述蒸镀源放射出的所述材料进行蒸镀。
[0009]根据一个实施方式,蒸镀装置具备:
[0010]具有搬入口及搬出口的腔室;收容于所述腔室的蒸镀源;和使搬送至所述腔室的处理基板与所述蒸镀源的相对位置进行变化的机构,所述蒸镀装置构成为,在第1模式中,所述蒸镀源相对于所述处理基板的法线倾斜,所述机构一边使所述蒸镀源与所述处理基板的相对位置进行变化,一边将从所述蒸镀源放射出的材料蒸镀于所述处理基板,在第2模式中,所述蒸镀源以与所述第1模式不同的方式相对于所述处理基板的法线倾斜,所述机构一边使所述蒸镀源与所述处理基板的相对位置以与所述第1模式相反的方式进行变化,一边将从所述蒸镀源放射出的所述材料蒸镀于所述处理基板。
[0011]根据一个实施方式,能够提供能够抑制可靠性降低的显示装置的制造方法及蒸镀装置。
附图说明
[0012]图1是示出显示装置DSP的构成例的图。
[0013]图2是示出子像素SP1、SP2、SP3的布局的一例的图。
[0014]图3沿着图2中的A

B线的显示装置DSP的概略剖视图。
[0015]图4是示出显示元件201至203的构成的一例的图。
[0016]图5是沿着图2中的C

D线的显示装置DSP的概略剖视图。
[0017]图6是沿着图2中的E

F线的显示装置DSP的概略剖视图。
[0018]图7是用于说明蒸镀装置EV的图。
[0019]图8是用于说明形成蚀刻阻止层ES的一种制造方法的图。
[0020]图9是用于说明显示装置DSP的制造方法的一例的流程图。
[0021]图10是示出在形成第1薄膜31的工序、形成第2薄膜32的工序及形成第3薄膜33的工序中能够应用的制造装置的一例的图。
[0022]图11是示出在形成第1薄膜31的工序、形成第2薄膜32的工序及形成第3薄膜33的工序中能够应用的制造装置的另一例的图。
[0023]图12是用于说明显示装置DSP的制造方法的图。
[0024]图13是用于说明显示装置DSP的制造方法的图。
[0025]图14是用于说明第1薄膜31的形成过程的图。
[0026]图15是用于说明显示装置DSP的制造方法的图。
[0027]图16是用于说明显示装置DSP的制造方法的图。
[0028]图17是用于说明第1薄膜31的除去过程的图。
[0029]图18是用于说明显示装置DSP的制造方法的图。
具体实施方式
[0030]参照附图说明一个实施方式。
[0031]公开只不过是一例,本领域技术人员能够容易想到的未脱离专利技术主旨的适当变更当然包含在本专利技术范围内。另外,就附图而言,为了使说明更加明确,与实际方式相比,有时示意性表示各部分的宽度、厚度、形状等,但只不过是一例,并非限定本专利技术的解释。另外,在本说明书和各图中,对于与关于已出现的附图说明过的构成要素发挥相同或类似功能的构成要素,存在标注同一附图标记并适当省略重复的详细说明的情况。
[0032]需要说明的是,为了便于理解而根据需要在附图中记载有相互正交的X轴、Y轴及Z轴。将沿着X轴的方向称为第1方向,将沿着Y轴的方向称为第2方向,将沿着Z轴的方向称为第3方向。将与第3方向Z平行地观察各种要素的情形称为俯视观察。
[0033]本实施方式涉及的显示装置是具备有机发光二极管(OLED)作为显示元件的有机电致发光显示装置,能够搭载于电视、个人计算机、车载设备、平板电脑终端、智能手机、移动电话终端等。
[0034]图1是示出显示装置DSP的构成例的图。
[0035]显示装置DSP在绝缘性的基板10之上具有显示图像的显示区域DA和显示区域DA周边的周边区域SA。基板10可以是玻璃,也可以是具有挠性的树脂膜。
[0036]在本实施方式中,俯视观察的基板10的形状为长方形。但是,基板10的俯视观察的
形状不限于长方形,也可以是正方形、圆形或椭圆形等其他形状。
[0037]显示区域DA具备在第1方向X及第2方向Y上以矩阵状排列的多个像素PX。像素PX包含多个子像素SP。在一例中,像素PX包含第1色的子像素SP1、第2色的子像素SP2及第3色的子像素SP3。第1色、第2色及第3色是相互不同的颜色。需要说明的是,像素PX也可以与子像素SP1、SP2、SP3一起或取代子像素SP1、SP2、SP3中的任一者而包含白色等其他颜色的子像素SP。
[0038]子像素SP具备像素电路1和由像素电路1驱动的显示元件20。像素电路1具备像素开关2、驱动晶体管3、电容器4。像素开关2及驱动晶体管3是由例如薄膜晶体管构成的开关元件。
[0039]像素开关2的栅电极与扫描线GL连接。像素开关2的源电极及漏电极中的一者与信号线SL连接,另一者与驱动晶体管3的栅电极及电容器4连接。在驱动晶体管3中,源电极及漏电极中的一者与电源线PL及电容器4连接,另一者与显示元件20的阳极连接。
[0040]需要说明的是,像素电路1的构成不限于图示的例子。例如,像素电路1也可以具备更多薄膜晶体管及电容器。
[0041]显示元件20是作为发光元件的有机发光二极管(OLED),存在称为有机EL元件的情本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.显示装置的制造方法,其包括:准备处理基板,该处理基板中在基板的上方形成下电极、形成具有与所述下电极重叠的开口的肋部、并形成隔壁,该隔壁包含位于所述肋部之上的下部、及位于所述下部之上并从所述下部的侧面突出的上部;在所述开口中且在所述下电极之上形成有机层;和在所述有机层之上形成蚀刻阻止层,在形成所述蚀刻阻止层的工序中,在第1模式中,蒸镀源相对于所述处理基板的法线倾斜,一边使所述蒸镀源与所述处理基板的相对位置变化,一边对从所述蒸镀源放射出的材料进行蒸镀,在第2模式中,所述蒸镀源以与所述第1模式不同的方式相对于所述处理基板的法线倾斜,一边使所述蒸镀源与所述处理基板的相对位置与所述第1模式相反地变化,一边对从所述蒸镀源放射出的所述材料进行蒸镀。2.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法,其中,所述处理基板在所述第1模式中被向从腔室的搬入口朝向搬出口的正方向搬送,在所述第2模式中被向从所述搬出口朝向所述搬入口的反方向搬送,所述蒸镀源固定在所述腔室中,在所述第1模式中沿着所述处理基板的搬送方向倾斜,在所述第2模式中沿着所述处理基板的搬送方向朝向与所述第1模式相反的方向倾斜。3.根据权利要求2所述的显示装置的制造方法,其中,在形成所述蚀刻阻止层的工序中,将形成有所述有机层的所述处理基板搬入所述腔室的内部,在所述第1模式中,一边将所述处理基板向所述正方向搬送,一边对从所述蒸镀源放射出的所述材料进行蒸镀,在所述第2模式中,一边将所述处理基板向所述反方向搬送,一边对从所述蒸镀源放射出的所述材料进行蒸镀,在所述第1模式中,一边将所述处理基板向所述正方向搬送,一边对从所述蒸镀源放射出的所述材料进行蒸镀,将所述处理基板搬出到所述腔室的外部。4.根据权利要求3所述的显示装置的制造方法,其中,形成所述蚀刻阻止层时的所述处理基板的搬送速度为形成所述有机层时的所述处理基板的搬送速度的3倍以上。5.根据权利要求4所述的显示装置的制造方法,其中,所述第1模式中的所述处理基板的搬送速度比所述第2模式中的所述处理基板的搬送速度快。6.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法,其中,在所述有机层之上形成上电极作为所述蚀刻阻止层。7.根据权利要求6所述的显示装置的制造方法,其中,进一步在所述蚀刻阻止层之上形成盖层,在所述盖层之上形成密封层,在所述密封层之上形成图案化的抗蚀剂,以所述抗蚀剂为掩模,进行所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:水越宽文福田加一竹中贵史高山健
申请(专利权)人:株式会社日本显示器
类型:发明
国别省市:

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