一种哑光防滑防污易洁大理石瓷砖及其制备方法技术

本发明专利技术涉及大理石瓷砖技术领域，特别是涉及一种哑光防滑防污易洁大理石瓷砖及其制备方法；本申请公开了一种哑光防滑防污易洁大理石瓷砖包括半成品陶瓷砖、以及依次涂覆在半成品陶瓷砖上的底涂层、中间层、面涂层；本申请所述的哑光防滑防污易洁大理石瓷砖，在制备过程中，将韧性好的蜡水将其涂覆在大理石瓷砖的表面，可以减少峰谷的落差但不会完全填平峰谷结构，使得大理石瓷砖的砖面光泽度增加并保持着一定的防滑性能，即便其表面的凹坑过浅时，也可以达到防污性能要求。可以达到防污性能要求。可以达到防污性能要求。

【技术实现步骤摘要】
一种哑光防滑防污易洁大理石瓷砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及大理石瓷砖
，特别是涉及一种哑光防滑防污易洁大理石瓷砖及其制备方法。

技术介绍

[0002]近年来，因装饰风格从以往的富丽堂皇到如今的深邃低调、奢而不华，陶瓷产品的主流趋势逐渐倾向于素色哑光、素色凹凸纹理这一大类素色无光的产品。其具有不刺眼、无倒影成像的特点，更符合如今客户的审美需求。同时这类砖也被打上藏污、藏灰、不易清洁的标签。瓷砖在烧结过程中，表面的抛釉会形成微型连续峰谷的结构，该结构可以引起光的散射，同时凹陷处也容易卡污积污，难以清洗。市面上的哑光砖大致分为两种，一种是在烧结之后，经过轻抛、柔抛处理，减少峰谷结构的落差，制备得到光泽度在10
°
左右的哑光砖；另一种通过特殊的面釉(金丝绒、哑光面釉、糖果釉、肌肤釉等)烧结成光泽度在10
°
左右，手感温润的哑光砖。
[0003]但上述的哑光砖都存在抗涂鸦性能差、藏污积灰的情况。为此，我们提供一种哑光防滑防污易洁大理石瓷砖及其制备方法。

技术实现思路

[0004]为了克服现有技术的不足，本专利技术提供一种哑光防滑防污易洁大理石瓷砖及其制备方法，在制备过程中，将韧性好的蜡水将其涂覆在大理石瓷砖的表面，可以减少峰谷的落差但不会完全填平峰谷结构，使得大理石瓷砖的砖面光泽度增加并保持着一定的防滑性能，即便其表面的凹坑过浅时，也可以达到防污性能要求。
[0005]本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：
[0006]本申请的第一目的是，提供一种哑光防滑防污易洁大理石瓷砖，所述大理石瓷砖包括半成品陶瓷砖、以及依次涂覆在半成品陶瓷砖上的底涂层、中间层、面涂层；
[0007]形成所述底涂层的底涂蜡水，以重量份为单位，包括以下原料：
[0008]水：80
‑
95份
[0009]纳米二氧化硅分散液：15
‑
20份
[0010]所述纳米二氧化硅分散液，以重量份为单位，包括以下原料：
[0011]白炭黑：2
‑
5份
[0012]乙醇：13
‑
15份；
[0013]白炭黑为R106、R380、R200的一种或多种；
[0014]形成所述中间层的中间蜡水，以重量份为单位，包括以下原料：
[0015]溶剂：50
‑
60份
[0016]有机硅树脂：36
‑
45份
[0017]硅烷偶联剂：1
‑
5份
[0018]固化剂：12
‑
15份
[0019]催化剂：0.1
‑
1份；
[0020]所述溶剂为乙醇、正丁醇、丙二醇甲醚、丙三醇、尼龙酸二甲酯中的一种或多种；
[0021]形成所述面涂层的面涂蜡水，以重量份为单位，包括以下原料：
[0022]硅源：5
‑
15份
[0023]有机硅：5
‑
10份
[0024]乙醇：70
‑
90份
[0025]水：1
‑
5份
[0026]醋酸：0.02
‑
0.1份
[0027]造孔剂：0.5
‑
1份。
[0028]进一步的，在中间蜡水的原料中，所述有机硅树脂为SJ909N、SJ909P、SJ509P、S0234中的一种或多种。
[0029]进一步的，在中间蜡水的原料中，所述硅烷偶联剂为KH
‑
560、KH550、KH792中的一种或多种。
[0030]进一步的，在中间蜡水的原料中，所述固化剂为N
‑
氨乙基哌嗪、DETA、二氨基二苯基甲烷、甲基三丁酮肟基硅烷、乙烯基三丁酮肟基硅烷中的一种或多种。
[0031]进一步的，在中间蜡水的原料中，所述催化剂为二月桂酸二丁基锡、二乙酸二丁基锡、钛酸四丁酯中的一种或多种。
[0032]进一步的，在面涂蜡水中，所述硅源为TEOS、四甲氧基硅烷中的一种或两种。
[0033]进一步的，在面涂蜡水中，所述有机硅为辛基三乙氧基硅烷、MTEOS中的一种或两种。
[0034]进一步的，在面涂蜡水中，所述造孔剂为F127。
[0035]本专利技术的第二目的是，提供上述所述哑光防滑防污易洁大理石瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
[0036]S1.底涂蜡水的制备：
[0037]按照底涂蜡水中各个原料的重量份组成进行备料，将各个原料进行充分混合后，得到底涂蜡水；
[0038]S2.中间蜡水的制备：
[0039]按照中间蜡水中各个原料的重量份组成进行备料，将各个原料进行充分混合后，得到底涂蜡水；
[0040]S3.面涂蜡水的制备：
[0041]按照面涂蜡水中各个原料的重量份组成进行备料，将各个原料进行充分混合后，得到面涂蜡水；
[0042]S4.半成品陶瓷砖进行第一次超洁亮处理；滴加底涂蜡水，将底涂蜡水抛涂在陶瓷砖的表面，得到具有底涂层的半成品陶瓷砖；
[0043]S5.将具有底涂层的半成品陶瓷砖进行第二次超洁亮处理；滴加中间蜡水，将中间蜡水抛涂在瓷砖的底涂层上，具有中间层的半成品陶瓷砖；
[0044]S6.将面涂蜡水施具有中间层的半成品陶瓷砖的底涂层上，经过保温退火处理，得到哑光防滑防污易清洁陶瓷砖。
[0045]进一步的，所述第一次超洁亮处理和第二次超洁亮处理为使用超洁亮机进行超亮
处理。
[0046]更进一步的，所述第一次超洁亮处理，在用超洁亮机进行处理时，超洁亮机设定12组硬纤维磨头+8组海绵磨头进行超亮处理。
[0047]更进一步的，所述第二次超洁亮处理，在用超洁亮机进行处理时，超洁亮机设定10组海绵磨头进行超亮处理。
[0048]进一步的，在步骤S6中，保温退火处理为经过在400℃下保温退火10
‑
15min。
[0049]本专利技术的有益效果是：
[0050]1.本申请所述的制备方法，通过先使用底涂蜡水打底形成底涂层，叠加具有韧性中间层，再叠加散射性好且具有很好亲水性的面涂层，制备得到的陶瓷砖，在具有哑光的同时，很好地平衡并兼具防污性能和防滑性能。
[0051]2.本申请所述的陶瓷砖，具有哑光、防滑、防污易洁的优点。
附图说明
[0052]下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明。
[0053]图1为本申请实施例6所述哑光防滑防污易洁大理石瓷砖的在显微镜500倍下，3D拟合图像的轮廓情况示意图；
[0054]图2为本申请实施例6所述哑光防滑防污易洁大理石瓷砖在进行踩踏试验后，在显微镜500倍下，3D拟合图像的轮廓情况示意图；
[0055]图3为本申请对比例1所述大理石瓷砖在显微镜500倍下，3D拟合图像的轮廓情况示意图。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种哑光防滑防污易洁大理石瓷砖，其特征在于，包括半成品陶瓷砖、以及依次涂覆在半成品陶瓷砖上的底涂层、中间层、面涂层；形成所述底涂层的底涂蜡水，以重量份为单位，包括以下原料：水：80
‑
95份纳米二氧化硅分散液：15
‑
20份所述纳米二氧化硅分散液，以重量份为单位，包括以下原料：白炭黑：2
‑
5份乙醇：13
‑
15份；白炭黑为R106、R380、R200的一种或多种；形成所述中间层的中间蜡水，以重量份为单位，包括以下原料：溶剂：50
‑
60份有机硅树脂：36
‑
45份硅烷偶联剂：1
‑
5份固化剂：12
‑
15份催化剂：0.1
‑
1份；所述溶剂为乙醇、正丁醇、丙二醇甲醚、丙三醇、尼龙酸二甲酯中的一种或多种；形成所述面涂层的面涂蜡水，以重量份为单位，包括以下原料：硅源：5
‑
15份有机硅：5
‑
10份乙醇：70
‑
90份水：1
‑
5份醋酸：0.02
‑
0.1份造孔剂：0.5
‑
1份。2.根据权利要求1所述的一种蜡水组合物，其特征在于，在中间蜡水的原料中，所述有机硅树脂为SJ909N、SJ909P、SJ509P、S0234中的一种或多种。3.根据权利要求1所述的一种蜡水组合物，其特征在于，在中间蜡水的原料中，所述硅烷偶联剂为KH
‑
560、KH550、KH792中的一种或多种。4.根据权利要求1所述的一种蜡水组合物，其特征在于，在中间蜡水的原料中...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈柱文，张景，朱联烽，张伟业，苏伟劲，林子平，
申请(专利权)人：广东简一集团陶瓷有限公司广西简一陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：