一种温控抛光机主轴制造技术

本申请涉及一种温控抛光机主轴，包括研磨盘、圆盘、芯轴以及密封结构，圆盘安装固定在芯轴的上端面上；密封结构包括密封盘，圆盘通过密封盘与研磨盘固定连接；圆盘上开设有进水孔和出水孔，芯轴内部开设有进水通道和出水通道，进水孔和出水孔与所述进水通道和出水通道对应设置；圆盘上表面还设置有蓄水槽，蓄水槽连通进水孔和出水孔；芯轴的下端面固定安装联轴节，冷却水通过所述联轴节在所述圆盘上表面的蓄水槽内循环流动。本发明专利技术能够实现冷却水在圆盘内循环流动，从而可以对密封盘和研磨盘进行冷却，达到温控的效果。达到温控的效果。达到温控的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种温控抛光机主轴


[0001]本申请涉及抛光研磨
，特别涉及一种温控抛光机主轴，是能够应用于软脆材料的抛光研磨设备的主轴。

技术介绍

[0002]随着科学技术的不断发展，新的半导体材料不断出现。
[0003]现有宽禁带半导体材料具有软脆性，因此，该特性的半导体晶圆在研磨抛光中要达到高精度要求。其中，温度是影响抛光过程中精度保证的主要因素，所以在抛光过程中必须进行温度控制。
[0004]目前应用于该行业的研磨抛光设备不具备对研磨抛光轴系进行温度控制。
[0005]常采用的方法是，晶体材料片在抛光过程时，将晶体材料片采用石蜡粘接到玻璃基板上。晶体片在抛光过程中，在机械和化学反应的作用下，释放出大量的热，造成温度的升高，温度达到一定程度会造成粘接晶体的石蜡粘接力下降，影响抛光精度；同时升高的温度会造成机体材料的变形，同时也会影响抛光精度。
[0006]所以能够实现恒温控制的抛光过程必须实现，而目前应用的抛光设备不能实现恒温效果。

技术实现思路

[0007]本专利技术旨在解决如何实现恒温控制的抛光过程，基于此，本专利技术有必要针对上述技术问题，提供一种温控抛光机主轴。
[0008]所述主轴包括研磨盘、圆盘、芯轴以及密封结构，所述圆盘安装固定在所述芯轴的上端面上；其中，
[0009]所述密封结构包括密封盘，所述圆盘通过密封盘与研磨盘固定连接；
[0010]所述圆盘上开设有进水孔和出水孔，所述芯轴内部开设有进水通道和出水通道，所述进水孔和出水孔与所述进水通道和出水通道对应设置；
[0011]所述圆盘上表面还设置有蓄水槽，所述蓄水槽连通进水孔和出水孔；
[0012]所述芯轴的下端面固定安装联轴节，冷却水通过所述联轴节在所述圆盘上表面的蓄水槽内循环流动。
[0013]作为一个可替换的实施例，所述圆盘上表面设置有凸部和凹部，所述凸部和凹部形成蓄水槽，所述蓄水槽包括至少一种形状。
[0014]作为一个可替换的实施例，所述凸部的上表面与密封盘的下表面密封接触。
[0015]作为一个可替换的实施例，所述圆盘还设置有多个上安装盲孔和多个下安装盲孔，所述上安装盲孔设置在所述凸部上，所述密封盘通过上安装盲孔与圆盘固定连接，所述下安装盲孔设置在圆盘的下表面，所述芯轴通过下安装盲孔与圆盘固定连接，所述进水孔和出水孔设置在所述凹部上。
[0016]作为一个可替换的实施例，所述芯轴包括连接凸环，所述连接凸环上设置有至少
一个安装通孔，所述芯轴通过安装通孔与下安装盲孔与圆盘固定连接。
[0017]作为一个可替换的实施例，所述密封盘上表面设置多个圆柱销，所述研磨盘下表面对应所述多个圆柱销设置多个安装孔，所述圆柱销固定在安装孔中。
[0018]作为一个可替换的实施例，所述主轴还包括轴承和轴承座，所述芯轴安装在所述轴承的中心孔内，所述轴承安装到所述轴承座上。
[0019]作为一个可替换的实施例，所述主轴还包括皮带轮，所述皮带轮固定安装在所述芯轴的下端。
[0020]作为一个可替换的实施例，所述密封结构还包括第一密封圈，所述第一密封圈套设在轴承座外部，且与圆盘底面固定连接。
[0021]作为一个可替换的实施例，所述密封结构还包括第二密封圈，所述第二密封圈安装在所述轴承座内部，套设在芯轴外部。
[0022]上述温控抛光机主轴，在主轴内有冷却水槽，可以连接冷却水，冷却水在水槽内循环流动，对研磨盘进行温度控制。
附图说明
[0023]图1为本专利技术温控抛光机主轴的结构示意图；
[0024]图2为本专利技术温控抛光机主轴的圆盘结构示意图。
具体实施方式
[0025]为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0026]本专利技术的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。本专利技术的说明书和权利要求书以及附图中的术语“第一”“第二”“第三”等(如果存在)是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应当理解，这样描述的对象在适当情况下可以互换。此外，术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排它的包含。本专利技术所提到的方向用语，例如：上、下、左、右、前、后、内、外、侧面等，仅是参考附图的方向。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。此外，本专利技术在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本专利技术提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其它工艺的应用和/或其它材料的使用。
[0027]本专利技术提供了一种温控抛光机主轴，如图1
‑
图2所示，主轴包括芯轴1、圆盘2、研磨盘4以及密封结构，圆盘2安装固定在芯轴1的上端面上。
[0028]其中，密封结构包括密封盘3，圆盘2通过密封盘3与研磨盘4固定连接。
[0029]圆盘2上开设有进水孔21和出水孔22，芯轴1内部开设有进水通道和出水通道，进水孔21和出水孔22与进水通道和出水通道对应设置。
[0030]圆盘上表面还设置有蓄水槽，蓄水槽连通进水孔21和出水孔22。
[0031]进一步地，圆盘2的上表面设置有凸部23和凹部24，凸部23和凹部24形成蓄水槽，蓄水槽包括至少一种形状。优选地，蓄水槽有直线槽形、扇形、半圆形、圆形等。优选地，多个扇形蓄水槽中心对称的分布在圆盘2上。
[0032]由于圆盘2与密封盘3紧密接触，且固定连接，因此，圆盘2的凸部23的上表面与密封盘3的下表面密封接触。
[0033]通过密封盘3与圆盘2的密封接触，使得圆盘2上的蓄水槽形成了蓄水空间，并且由于凸部23和凹部24的结构配合，不会有冷却水从圆盘2上渗出，保证了温控效果。
[0034]进一步地，圆盘2还设置有多个上安装盲孔25和多个下安装盲孔26，上安装盲孔25设置在凸部23上，优选地，上安装盲孔25均匀地、对称地设置在凸部23上，密封盘3通过上安装盲孔25与圆盘2固定连接。
[0035]下安装盲孔26设置在圆盘2的下表面，芯轴1通过下安装盲孔26与圆盘2固定连接。
[0036]进水孔21和出水孔22设置在凹部上。优选地，进水孔21的孔径大于出水口22。优选地，进水孔21位于圆盘2的中心，出水孔22靠近进水孔21设置，且进水孔21和出水孔22均位于芯轴1的投影范围内。
[0037]芯轴1的下端面固定安装联轴节11，冷却水通过联轴节11在圆盘2的上表面的蓄水槽内循环本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种温控抛光机主轴，其特征在于，所述主轴包括研磨盘、圆盘、芯轴以及密封结构，所述圆盘安装固定在所述芯轴的上端面上；其中，所述密封结构包括密封盘，所述圆盘通过密封盘与研磨盘固定连接；所述圆盘上开设有进水孔和出水孔，所述芯轴内部开设有进水通道和出水通道，所述进水孔和出水孔与所述进水通道和出水通道对应设置；所述圆盘上表面还设置有蓄水槽，所述蓄水槽连通进水孔和出水孔；所述芯轴的下端面固定安装联轴节，冷却水通过所述联轴节在所述圆盘上表面的蓄水槽内循环流动。2.根据权利要求1所述的温控抛光机主轴，其特征在于，所述圆盘上表面设置有凸部和凹部，所述凸部和凹部形成蓄水槽，所述蓄水槽包括至少一种形状。3.根据权利要求2所述的温控抛光机主轴，其特征在于，所述凸部的上表面与密封盘的下表面密封接触。4.根据权利要求2所述的温控抛光机主轴，其特征在于，所述圆盘还设置有多个上安装盲孔和多个下安装盲孔，所述上安装盲孔设置在所述凸部上，所述密封盘通过上安装盲孔与圆盘固定连接，所述下安装盲孔设置在圆盘的下表面，所述芯轴通过下安装盲...

【专利技术属性】
技术研发人员：种宝春，
申请(专利权)人：北京中电科电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：