本发明专利技术提供一种坐标检测设备的制造装置，该坐标检测设备包括形成在基板上的电阻膜和向该电阻膜施加电压的共用电极，其中，在电阻膜上产生电位分布，检测出电阻膜在接触位置处的电位，并且检测出电阻膜的接触位置的坐标。在该制造装置中，激光光源照射激光以除去电阻膜的一部分，形成电阻膜除去部分；光学系统使激光会聚；多个探头在共用电极向电阻膜提供电压的情况下测量电阻膜的表面的电位；Ｘ－Ｙ工作台至少二维地使基板移动；控制部分控制Ｘ－Ｙ工作台和激光光源。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于制造坐标检测设备的制造装置。
技术介绍
作为计算机系统的输入设备，例如触摸面板是已知的。触摸面板 可以安装在显示设备上，可以检测显示设备上的坐标位置并得到与坐 标位置相对应的检测信号。从而，触摸面板使得可以向计算机系统直 接输入与坐标位置相对应的检测信号，从而可以进行容易和直观的输 入。对于触摸面板，人们提出了电阻膜类型、光学类型和电容耦合类 型等各种类型。在这样的触摸面板中， 一般使用具有筒单结构并且要 求简单控制系统的电阻膜类型的触摸面板。电阻膜类型的触摸面板可 以是4线型、5线型、8线型或很多其它类型以在电阻膜上配置电极。在这些类型中，5线型触摸面板没有可能是4线型触摸面板和8 线型触摸面板的问题的涉及边缘滑动的问题。这是因为，在5线型触 摸面板中，配置在操作面一侧的上基板的导电膜仅用于读取电位。因 此，5线型触摸面板被用于要求严格的操作环境或长期耐用的市场。图9示出5线型电阻膜类型触摸面板的结构的例子。图9所示的 5线型电阻膜类型触摸面板1包括上基板11和下基板12。在下基板 12中，在玻璃基板21的整个区域上形成透明电阻膜22，在透明电阻4膜22上形成X轴坐标检测电极23和24以及Y轴坐标检测电极25和 26。在上基板ll中，在膜基板31上形成透明电阻膜32，在透明电阻 膜32上形成坐标检测电极33。在5线型电阻膜类型触摸面板1中，首先，在X轴坐标检测电极 23和24之间施加电压。结果，沿着下基板12的透明电阻膜22的X 轴方向Xl-X2产生电位分布。然后，通过检测出下基板12的透明电 阻膜22在上基板11与下基板12接触的位置处的电位，可以检测出上 基板11与下基板12接触的位置的X坐标。接着，在Y轴坐标检测电 极25和26之间施加电压。结果，沿着下基板12的透明电阻膜22的 Y轴方向Yl-Y2产生电位分布。然后，通过检测出下基板12的透明 电阻膜22在上基板11与下基板12接触的位置处的电位，可以检测出 上基板11与下基板12接触的位置的Y坐标。此时，在这种类型的触摸面板中，存在如何使沿着下基板12的透 明电阻膜22的X轴方向Xl-X2和Y轴方向Yl-Y2中的每一个方向均 匀地产生电位分布的问题。作为解决该问题的方法，日本公开专利申 请No. 10-83251 (以下称为专利文献l)公开了一种在电阻膜的周围设 置多级电位分布校正图案的方法。曰本公开专利申请No. 2001-125724 (以下称为专利文献2)公开 了一种设置包围输入面的周围的共用电极的方法。日本公开专利申请 No. 2007-25904 (以下称为专利文献3 )公开了 一种在设置在透明电阻 膜上的绝缘膜中形成开口部分并且从开口部分提供电位的方法。应注意的是，由于要求安装了坐标检测设备的装置的尺寸减小， 因此会要求减小这样的坐标检测设备的尺寸。根据专利文献l中公开 的坐标检测设备，由于如上所述在电阻膜的周围设置多级电位分布校 正图案，因此难以减小坐标检测设备的尺寸。在专利文献2公开的方法中，如上所述设置包围输入面的周围的 共用电极，除非透明电阻膜与图案电阻的电阻比增大，否则透明电阻 膜的电位分布会变形。在专利文献3公开的方法中，在设置在透明电阻膜上的绝缘膜中5形成开口部分，尽管可以解决上述两个问题，但可能需要复杂的制造 工艺。特别是，由于在制造中可能发生的材料或电阻值的可能偏差， 产品性能的产出可能降低。
技术实现思路
本专利技术考虑到上述问题而作出，本专利技术的目的在于提供一种能够 以高的生产率制造具有减小的尺寸并且具有提高的坐标位置检测能 力的坐标检测设备的制造装置。根据本专利技术，提供一种用于制造坐标检测设备的坐标检测设备的 制造装置。该坐标检测设备具有形成在基板上的电阻膜和向该电阻膜 施加电压的共用电极。在该坐标检测设备中，在电阻膜上产生电位分 布，检测出所述电阻膜在与探头接触的位置处的电位，并且检测出所述电阻膜的该位置的坐标,该制造装置包括激光光源，照射激光以 除去所述电阻膜的一部分，形成电阻膜除去部分；光学系统，使激光 会聚；多个探头，在经由所述共用电极向所述电阻膜施加了电压的状 态下测量所述电阻膜的表面的电位；X-Y工作台，至少二维地使所述 基板移动；以及控制部分，控制所述X-Y工作台和所述激光光源。本实施方式的其它目的和优点在以下说明中部分阐述，部分会从 该说明得以明确，或者可以通过实践本专利技术而得知。本专利技术的目的和 优点将通过后附权利要求中特别指出的要素和组合来实现和获得。应 当理解的是，上述的一般性说明和以下的详细说明仅仅是示例性和解 释性的，不构成对所要求保护的专利技术的限制。附图说明图l示出实施方式的制造装置的结构。 图2示出玻璃基板和透明电阻膜的波长与透射率之间的关系。 图3示出由实施方式的制造装置制造的坐标检测设备的结构。 图4A、 4B、 4C、 4D和4E示出图l所示的坐标检测设备的面板 部分的结构。图5示出图4A、 4B、 4C、 4D和4E所示的坐标检测i殳备的电阻 膜除去部分的部分平面图。图6A和6B示出图1所示的坐标检测设备的上基板的结构。 图7示出图1所示的坐标检测设备的接口板进行的操作的流程图。图8A和8B示出图1所示的坐标检测设备的下基板中的电位分 布的状态。图9示出现有技术的5线型电阻膜类型触摸面板的结构。 图IO示出图l所示的控制电路可能包括的计算机的框图。具体实施例方式根据优选的实施方式，提供一种用于制造坐标检测设备的制造装压的共用电极。在该坐标检测设备中，在电阻膜上产生电位分布，检 测出所述电阻膜在与探头接触的位置处的电位，并且检测出所述电阻 膜上的该位置的坐标。该制造装置包括激光光源，照射激光以除去 电阻膜的一部分，形成电阻膜除去部分；光学系统，使激光会聚；多 个探头，在共用电极向电阻膜提供电压的状态下测量所述电阻膜的表 面上的电位；X-Y工作台，至少二维地移动基板；以及控制部分，控 制X-Y工作台和激光光源。在优选实施方式的制造装置中，所述坐标检测设备的基板可以由 透射激光的绝缘材料制成；由所述激光光源从所述坐标检测设备的基 板的、与所述坐标检测设备的基板的形成有所述电阻膜的面相反的面 照射激光。而且，在优选实施方式的制造装置中，所述多个探头可以设置在 所述坐标检测设备的基板的、与所述坐标检测设备的基板的设置有所 述激光光源的一侧相反的一侧。而且，在优选实施方式的制造装置中，所述坐标检测设备的电阻 膜由包括ITO (氧化铟锡)或氧化铟、氧化锡或氧化锌的材料制成。7而且，在优选实施方式的制造装置中，所述坐标检测设备的所迷 基板和所述电阻膜可以在可见区域中是透明的。而且，在优选实施方式的制造装置中，所述激光的波长可以落入340 420[nm的范围内。而且，在优选实施方式的制造装置中，所述激光光源可以是准分 子激光器(excimer laser)。在优选实施方式中，可以提供能够以高的生产率制造具有减小的 尺寸并且具有提高的坐标位置检测能力的坐标检测设备的制造装置。以下参照图1更具体地说明优选实施方式中的制造装置。优选实施方式中的制造装置包括X-Y工作台51，具有二维地 移动坐标检测设备的玻璃基板131的功能；激光光源52;光学系统， 用于将由激光光源52发射本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种坐标检测设备的制造装置，该坐标检测设备包括形成在基板上的电阻膜和向该电阻膜施加电压的共用电极，其中，在电阻膜上产生电位分布，检测出所述电阻膜在与探头接触的位置处的电位，并且检测出所述电阻膜上的该位置的坐标，该制造装置包括： 激光光 源，照射激光以除去所述坐标检测设备的电阻膜的一部分，形成电阻膜除去部分； 光学系统，使激光会聚； 多个探头，在经由所述共用电极向所述坐标检测设备的电阻膜施加了电压的状态下测量所述电阻膜的表面的电位； Ｘ－Ｙ工作台，至少二维 地使所述坐标检测设备的基板移动；以及 控制部分，控制所述Ｘ－Ｙ工作台和所述激光光源。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：近藤幸一，
申请(专利权)人：富士通电子零件有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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