本发明专利技术提供一种坐标检测装置，其中，在绝缘材料制的基板上形成有电阻膜。公共电极对上述电阻膜施加电压，该公共电极沿多个电阻膜去除区域延伸，该多个电阻膜去除区域是通过去除了上述电阻膜的一部分而形成的。电压施加部对上述公共电极施加电压。从上述电压施加部经由上述公共电极对上述电阻膜施加电压，以在上述电阻膜中发生电位分布。通过检测上述电阻膜的接触位置处的电位，来检测上述电阻膜的接触位置的坐标位置。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于检测输入位置的坐标的坐标检测装置。
技术介绍
触摸面板在许多情况下被用作计算机系统的输入设备。触摸面板 被安装于显示器上，对显示器上的坐标位置进行检测，并取得与坐标 位置相对应的检测信号。触摸面板允许进行坐标位置的简单而直观的 输入。触摸面板有各种类型，诸如电阻膜型、光学型、电容耦合型等。 在这些类型中，电阻膜触摸面板因其具有简单的结构和简单的控制系 统而被许多情况所使用。电阻膜触摸面板包括在低电阻类型的，并被分类为四线系统、五 线系统、八线系统等。其中，与使用四线系统、八线系统的电阻膜触摸面板相比，使用 五线系统的电阻膜触摸面板(以下称为五线电阻膜触摸面板)具有配 置在操作面一侧的上部基板的导电膜，该导电膜专用于读取电位。因 此，五线电阻膜触摸面板不存在边缘滑动的问题，这一问题是四线系 统、八线系统等其他系统中存在的缺点。这样，五线电阻膜触摸面板 可以用于要求严格的使用环境、长期的服务寿命的应用中。图1示出五线电阻膜触摸面板的结构图。五线电阻膜触摸面板l包括上部基板11和下部基板12。在下部基板12的玻璃基板21的整 个表面上形成了透明电阻膜22，在透明电阻膜22上形成了 X轴坐标 检测电极23、 24以及Y轴坐标检测电极25、 26。另外，在上部基板 11的膜基板31上形成了透明电阻膜32，在透明电阻膜32上形成了 坐标检测电才及33。首先，对X轴坐标检测电极23、 24施加电压，从而在下部基板 12的透明电阻膜22中在X轴方向上发生电位分布。因此，通过检测 下部基板12的透明电阻膜22上的电位，可以检测上部基板11与下 部基板12相接触的位置的X坐标。接下来，对Y轴坐标检测电极25、 26施加电压，从而在下部基板12的透明电阻膜22中在Y轴方向上 发生电位分布。因此，通过检测下部基板12的透明电阻膜22上的电 位，可以检测上部基板11与下部基板12相接触的位置的Y坐标。对于这种触摸面板来说，如何在下部基板12的透明电阻膜22 中均匀地发生电位分布成为课题。为了使下部基板12的透明电阻膜 22中的电位分布均匀化，提出了在下部基板12的外围设置多个电位 分布校正图案的方案(参见专利文献l)。另外，提出了设置围绕输入表面的公共电极的方案(参见专利文 献2)。还提出了在设置于透明电阻膜上的绝缘膜中形成开口部，并 从形成该开口部的部分供给电位的方案(参见专利文献3)。专利文献1:日本特开平10-83251号公报专利文献2:日本特开2001-125724号乂>才艮专利文献3:日本特开2007-25904号公报由于搭栽坐标输入装置的装置的小型化，要求坐标输入装置具有 更小的外部边框结构。然而，现有的坐标输入装置由于需要在外围设 置多个电位分布图案，所以其外部边框的尺寸难以减小。另外，在设置围绕输入表面的公共电极的方法中，存在以下问题， 即如果不将透明电阻膜的电阻与图案电阻器的电阻之间的电阻比设 定得足够大，则透明电阻膜的电位分布会变得不均匀。在绝缘膜中设置开口部的方法虽然可以解决上述问题，但制造工 艺变得复杂，尤其是因材料和制造工艺的偏差造成的电阻值的偏差会 破坏产品性能，这会降低成品率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种解决了上述问题的坐标检测装置。本专利技术的更加具体的目的在于提供一种具有减小了的边框尺寸 并能够以改善了的检测精度检测坐标位置的坐标检测装置。根据本专利技术的一个方面，提供一种坐标检测装置，具有电阻膜， 形成在绝缘材料制的基板上；公共电极，被配置为对上述电阻膜施加 电压，该公共电极沿多个电阻膜去除区域延伸，该多个电阻膜去除区 域是通过去除了上述电阻膜的一部分而形成的；以及电压施加部，被 配置为对上述公共电极施加电压，其中从上述电压施加部经由上述公 共电极对上述电阻膜施加电压，以在上述电阻膜中发生电位分布；其 中，通过检测上述电阻膜的接触位置处的电位，来检测上述电阻膜的 接触位置的坐标位置。根据上述的专利技术，能够使通过施加电压而在上述电阻膜中产生的 电位分布均匀，从而能够实现精确的坐标检测。实施方式的目的和有益效果将通过所附的权利要求所具体记载 的要素及其组合而实现和获得。应该理解的是，前述的
技术实现思路
以及下述的具体实施方式仅是示 例性的说明，而并对所要求保护的专利技术构成限制。附图说明图1是五线电阻膜触摸面板的分解透视图。图2是本专利技术的第一实施方式的坐标检测装置的分解透视图。图3A是图2中的下部基板的俯^L图。图3B是沿图3A的I-I线截取的剖面图。图3C是沿图3A的II-II线截取的剖面图。图3D是沿图3A的III-III线截取的剖面图。图3E是沿图3A的IV-IV线截取的剖面图。图4A是说明电阻膜去除区域的节距的图。图4B是说明电阻膜去除区域的节距的图。图5A是图2中的上部基板的俯视图。图5B是图2中的上部基板的侧视图。7图6是图2所示的接口板所执行的处理的流程图。图7A表示了图2所示的下部基板中，在X坐标检测中的电位分布。图7B表示了图2所示的下部基板中，在Y坐标检测中的电位分布。图8A是电阻膜去除区域和公共电极的第一例的俯视图。 图8B是电阻膜去除区域和公共电极的第二例的俯视图。 图8C是电阻膜去除区域和公共电极的第三例的俯视图。 图9A是电阻膜去除区域和公共电极的第四例的俯视图。 图9B是电阻膜去除区域和公共电极的第五例的俯视图。 图9C是电阻膜去除区域和公共电极的第六例的俯视图。 图10A 10F是说明图2所示的下部基板的制造工艺的工序图。具体实施例方式接下来，参照附图，对本专利技术的具体实施方式进行说明。 (第一实施方式)下面对本专利技术的第一实施方式进行说明。图2是本专利技术的第一实施方式的坐标检测装置的分解透视图。图 2所示的坐标检测装置是具有五线模拟电阻膜型触摸面板的坐标输入 系统100。本实施方式中的坐标输入系统100包括面板部111和接口 板112。面板部111包括下部基板121、上部基板122、间隔件123、 FPC 电缆124。下部基板121与上部基板122经由间隔件123接合在一起。 间隔件123例如由绝缘性的双面胶带制成，以在下部基板121与上部 基板122之间具有规定的间隙的方式将下部基板121与上部基板122 相接合。FCP电缆124具有在柔性印刷电路板上形成有第一 第五布 线的结构。FCP电缆124通过将各向异性导电膜热压键合在下部基板 121上而连接至下部基板121。下面对下部基板121进行说明。图3A是下部基板121的俯视图。图3B是沿图3A中的线I-I截取的剖面图。图3C是沿图3A中的线 II-II截取的剖面图。图3D是沿图3A中的线III-III截取的剖面图。 图3E是沿图3A中的线IV-IV截取的剖面图。下部基板121包括玻璃基板131、透明电阻膜132、电阻膜去除 区域133、公共电极134、第一绝缘膜135、布线136、以及第二绝缘 膜137。透明电阻膜132形成在玻璃基板131的大致整个表面上。透 明电阻膜132例如由通过真空淀积法所淀积的ITO (Indium Tin Oxide，氧化铟锡)形成。透明电阻膜132有预定的电阻并透射可见 光域的光。在本实施方式中，不将电阻膜去除区域133中的透明电阻 膜132全部去除。在残留于本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种坐标检测装置，包括： 电阻膜，形成在绝缘材料制的基板上； 公共电极，被配置为对上述电阻膜施加电压，该公共电极沿多个电阻膜去除区域延伸，该多个电阻膜去除区域是通过去除了上述电阻膜的一部分而形成的；以及 电压施加部，被配置 为对上述公共电极施加电压， 其中，从上述电压施加部经由上述公共电极对上述电阻膜施加电压，以在上述电阻膜中产生电位分布；以及 通过检测上述电阻膜的接触位置处的电位，来检测上述电阻膜被接触的位置的坐标位置。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：近藤幸一，古川正三，关泽光洋，中岛孝，
申请(专利权)人：富士通电子零件有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。