一种掩膜板清洗装置以及清洗方法制造方法及图纸

本公开实施例公开了一种掩膜板清洗装置以及清洗方法，其中，所述掩膜板清洗装置，包括：固定柱，用于放置掩膜板，并对所述掩膜板进行固定；支架，用于放置所述固定柱；第一框架，用于固定所述支架；所述第一框架的一条边上设置有上踏板，所述上踏板用于拉动所述第一框架下移，以使所述支架倾斜，进而调整所述掩膜板的倾斜角度。的倾斜角度。的倾斜角度。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜板清洗装置以及清洗方法


[0001]本公开涉及半导体制造领域，尤其涉及一种掩膜板清洗装置以及清洗方法。

技术介绍

[0002]在显示装置的制造过程中，经常会用到掩膜板(Mask)，通过掩膜板的遮挡作用可以在基板上形成所需的图形。掩膜板在使用一段时间后就需要对其进行清洗，以去除掩膜板上沉积的材料，否则会影响产品效果。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本公开实施例提供一种掩膜板清洗装置以及清洗方法。
[0004]根据本公开实施例的第一方面，提供了一种掩膜板清洗装置，包括：
[0005]固定柱，用于放置掩膜板，并对所述掩膜板进行固定；
[0006]支架，用于放置所述固定柱；
[0007]第一框架，用于固定所述支架；
[0008]所述第一框架的一条边上设置有上踏板，所述上踏板用于拉动所述第一框架下移，以使所述支架倾斜，进而调整所述掩膜板的倾斜角度。
[0009]在一些实施例中，还包括：
[0010]底座，位于所述第一框架的下方；
[0011]限位组件，位于所述底座的四角处；所述限位组件用于对所述第一框架进行限位。
[0012]在一些实施例中，所述限位组件包括两个侧板和两个侧板之间的竖板，所述侧板和所述竖板之间通过转轴连接；所述竖板一侧的上部设置有凸起，所述凸起用于抵住所述第一框架，对所述第一框架进行限位；所述竖板的与设置有凸起的一侧相对的另一侧的下部设置有斜板，所述斜板的下方设置有第一弹簧，所述第一弹簧的两端分别与所述斜板和所述底座连接。
[0013]在一些实施例中，所述第一框架与所述底座之间通过第一滑杆连接，所述第一滑杆贯穿所述底座；所述第一滑杆上套设有第二弹簧。
[0014]在一些实施例中，还包括：
[0015]第二框架，所述第二框架放置于所述限位组件的斜板上；
[0016]底板，位于所述底座的下方；
[0017]所述第二框架与位于其下方的底座之间通过第二滑杆连接，所述第二滑杆设置于所述第二框架的底部且贯穿所述底座，并固定于所述底板上；
[0018]所述第二滑杆上套设有第三弹簧。
[0019]在一些实施例中，所述底板的一条边上设置有下踏板，所述下踏板用于推动所述第一框架向上移动。
[0020]在一些实施例中，还包括：
[0021]两个连接座和位于两个连接座之间的关节轴承；所述两个连接座分别设置于所述
支架和所述底座上；
[0022]所述支架依靠所述关节轴承进行倾斜。
[0023]在一些实施例中，所述固定柱的顶部开设有直角槽，所述直角槽的内部设置有L型板，所述L型板的两个侧面均设置有掩膜板固定组件，用于固定所述掩膜版。
[0024]在一些实施例中，所述固定柱的顶部设置有照明组件。
[0025]在一些实施例中，所述固定柱上设置有用于放置气枪的支撑组件。
[0026]在一些实施例中，所述掩膜板固定组件包括支撑板、弹片、贯穿所述支撑板并固定于所述弹片上的第三滑杆，以及位于所述支撑板和所述弹片之间的第四弹簧；
[0027]所述L型板的两个侧面均设置有凹槽，所述支撑板固定于所述凹槽内。
[0028]在一些实施例中，所述底座的底部四角处均安装有万向轮；所述万向轮上设置有插销。
[0029]根据本公开实施例的第二方面，提供一种掩膜板清洗方法，应用如上述任一项实施例所述的掩膜板清洗装置，所述方法包括：
[0030]将掩膜板放置于固定柱上，并对所述掩膜板进行固定；
[0031]所述固定柱放置于支架上，第一框架抵住所述支架的四周，固定所述支架，以对所述掩膜板进行清洗；
[0032]踩下所述第一框架上的上踏板，所述第一框架下移，以使所述支架倾斜，进而调整所述掩膜板的倾斜角度和清洗液的流动角度。
[0033]在一些实施例中，还包括：
[0034]在所述第一框架下移后，限位组件上的凸起抵住所述第一框架，对所述第一框架进行限位。
[0035]在一些实施例中，还包括：
[0036]踩下底板上的下踏板，拉动位于所述限位组件的斜板上的第二框架向下移动，进而拉动所述限位组件的斜板向下移动，以使所述限位组件的竖板以及位于竖板上的凸起绕转轴向斜板的一侧转动，所述第一框架向上移动，以固定所述支架。
[0037]在一些实施例中，还包括：
[0038]在所述第一框架下移后，转动支架与底座之间的关节轴承，以控制所述支架倾斜的角度，进而调整所述掩膜板的倾斜角度和清洗液的流动角度。
[0039]在一些实施例中，所述将掩膜板放置于固定柱上，并对所述掩膜板进行固定，包括：
[0040]所述掩膜板放置于所述固定柱的直角槽上，所述掩膜板推动掩膜板固定组件上的弹片向内移动，压缩弹片与支撑板之间的第四弹簧，所述第四弹簧依靠弹力推动所述弹片向外移动，以固定所述掩膜板。
[0041]本公开实施例中，通过设置第一框架，用以固定住支架，进而固定住了放置掩膜板的固定柱，以使掩膜板在清洗时能保持稳定。同时在需要倾斜掩膜板，使清洗液如酒精滴落的时候，又可以通过上踏板使第一框架下移，不再固定支架，使支架能够自由倾斜，进而调整掩膜板的倾斜角度，使得能很好地控制清洗液如酒精的滴落方向，减少污染掩膜板的可能性。
附图说明
[0042]为了更清楚地说明本公开实施例或传统技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0043]图1a为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的三维立体图；
[0044]图1b为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的俯视图；
[0045]图2a和图2b为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的底部支撑部件的三维立体图；
[0046]图3为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的限位组件的三维立体图；
[0047]图4为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的关节轴承的三维立体图；
[0048]图5a和图5b为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的固定柱的结构示意图；
[0049]图6a为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的掩膜板固定组件的拆分图；
[0050]图6b为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的掩膜板固定组件的三维立体图；
[0051]图7为本公开实施例提供的掩膜板清洗方法的流程示意图。
[0052]附图标记说明：
[0053]1‑
掩膜板；
[0054]10
‑
固定柱；11
‑
直角槽；12
‑
L型板；121
‑
凹槽；13
‑
掩膜板固定组件；131
‑
支撑板；132
‑
弹片；133
‑
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板清洗装置，其特征在于，包括：固定柱，用于放置掩膜板，并对所述掩膜板进行固定；支架，用于放置所述固定柱；第一框架，用于固定所述支架；所述第一框架的一条边上设置有上踏板，所述上踏板用于拉动所述第一框架下移，以使所述支架倾斜，进而调整所述掩膜板的倾斜角度。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：底座，位于所述第一框架的下方；限位组件，位于所述底座的四角处；所述限位组件用于对所述第一框架进行限位。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述限位组件包括两个侧板和两个侧板之间的竖板，所述侧板和所述竖板之间通过转轴连接；所述竖板一侧的上部设置有凸起，所述凸起用于抵住所述第一框架，对所述第一框架进行限位；所述竖板的与设置有凸起的一侧相对的另一侧的下部设置有斜板，所述斜板的下方设置有第一弹簧，所述第一弹簧的两端分别与所述斜板和所述底座连接。4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一框架与所述底座之间通过第一滑杆连接，所述第一滑杆贯穿所述底座；所述第一滑杆上套设有第二弹簧。5.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，还包括：第二框架，所述第二框架放置于所述限位组件的斜板上；底板，位于所述底座的下方；所述第二框架与位于其下方的底座之间通过第二滑杆连接，所述第二滑杆设置于所述第二框架的底部且贯穿所述底座，并固定于所述底板上；所述第二滑杆上套设有第三弹簧。6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述底板的一条边上设置有下踏板，所述下踏板用于推动所述第一框架向上移动。7.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，还包括：两个连接座和位于两个连接座之间的关节轴承；所述两个连接座分别设置于所述支架和所述底座上；所述支架依靠所述关节轴承进行倾斜。8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述固定柱的顶部开设有直角槽，所述直角槽的内部设置有L型板，所述L型板的两个侧面均设置有掩膜板固定组件，用于固定所述掩膜版；和/或，所述固定柱的顶部设...

【专利技术属性】
技术研发人员：程夏云，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：