一种薄膜设备真空管路制造技术

本实用新型专利技术涉及半导体设备真空管路优化改善技术领域，具体为一种薄膜设备真空管路，本实用新型专利技术在真空管路上加装一个真空手阀，其作用于让氦检仪更加简单快捷连接，减少了对真空管路的装卸，更加保证了真空度的稳定，以及降低对真空泵的损耗，延长设备硬件寿命；真空手阀使操纵机构与介质通路隔开，同时保证了工作介质的纯净以及管路的真空度，采用真空手阀易于快速拆卸和维修，尤其适合带有化学腐蚀性或悬浮颗粒的介质，工作温度范围大约为－50～175℃，从而减少氦气测漏繁琐步骤，保护真空度的稳定。的稳定。的稳定。

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜设备真空管路


[0001]本技术涉及半导体设备真空管路优化改善
，具体为一种薄膜设备真空管路。

技术介绍

[0002]真空半导体镀膜在各大半导体企业中，显然其地位是越来越高的，特别是在一些大规模集成系统电路的开发技术研究方法以及磁电变换器件、发光器件等研制工作方面的体现尤为明显，真空半导体镀膜具有重要的作用，因此真空度对于设备极为重要，对于设备定期的维护以及耗材更换都需要确认真空度的稳定；现有的设备氦检繁琐步骤，劳神费力，不能满足现有需要的高生产力的效果。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种薄膜设备真空管路，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种薄膜设备真空管路，包括真空腔腔体、设备连接管、真空管路、真空泵、第一真空阀、第二真空阀、密封组件、真空手阀和氦检仪扩展接口，所述真空腔腔体底部中间连接有设备连接管，所述真空腔腔体底部一侧连接有真空管路，所述真空管路侧面连接有真空手阀，所述真空手阀一端设置有氦检仪扩展接口(9)，所述真空管路底端连接有真空泵。
[0005]优选的，所述设备连接管表面底部靠近真空泵一侧通过第二真空阀与真空管路内部相连接。
[0006]优选的，所述设备连接管表面顶部安装有第一真空阀。
[0007]优选的，所述真空手阀设置在第一真空阀和第二真空阀之间，且真空手阀通过密封组件与真空管路相密封连接。
[0008]优选的，所述密封组件包括密封圈和密封卡扣，其中密封圈通过密封卡扣分别与真空手阀和真空管路相密封连接。
[0009]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术在真空管路上加装一个真空手阀，其作用于让氦检仪更加简单快捷连接，减少了对真空管路的装卸，更加保证了真空度的稳定，以及降低对真空泵的损耗，延长设备硬件寿命；真空手阀使操纵机构与介质通路隔开，同时保证了工作介质的纯净以及管路的真空度，采用真空手阀易于快速拆卸和维修，尤其适合带有化学腐蚀性或悬浮颗粒的介质，工作温度范围大约为－50～175℃，从而减少氦气测漏繁琐步骤，保护真空度的稳定。
附图说明
[0010]图1为本技术的整体结构示意图。
[0011]图中：1、真空腔腔体；2、设备连接管；3、真空管路；4、真空泵；5、第一真空阀；6、第
二真空阀；7、密封组件；8、真空手阀；9、氦检仪扩展接口。
具体实施方式
[0012]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0013]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“竖直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0014]在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0015]请参阅图1，本技术提供一种技术方案：一种薄膜设备真空管路，包括真空腔腔体1、设备连接管2、真空管路3、真空泵4、第一真空阀5、第二真空阀6、密封组件7、真空手阀8和氦检仪扩展接口9，真空腔腔体1底部中间连接有设备连接管2，真空腔腔体1底部一侧连接有真空管路3，真空管路3侧面连接有真空手阀8，真空手阀8一端设置有氦检仪扩展接口9，真空管路3底端连接有真空泵4。
[0016]进一步的，设备连接管2表面底部靠近真空泵4一侧通过第二真空阀6与真空管路3内部相连接。
[0017]进一步的，设备连接管2表面顶部安装有第一真空阀5。
[0018]进一步的，真空手阀8设置在第一真空阀5和第二真空阀6之间，且真空手阀8通过密封组件7与真空管路3相密封连接。
[0019]进一步的，密封组件7包括密封圈和密封卡扣，其中密封圈通过密封卡扣分别与真空手阀8和真空管路3相密封连接。
[0020]工作原理：
[0021]本技术在真空管路3上加装一个真空手阀8，其作用于让氦检仪更加简单快捷连接，减少了对真空管路3的装卸，更加保证了真空度的稳定，以及降低对真空泵4的损耗，延长设备硬件寿命；真空手阀8使操纵机构与介质通路隔开，同时保证了工作介质的纯净以及管路的真空度，采用真空手阀8易于快速拆卸和维修，尤其适合带有化学腐蚀性或悬浮颗粒的介质，工作温度范围大约为－50～175℃，从而减少氦气测漏繁琐步骤，保护真空度的稳定。
[0022]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围有所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种薄膜设备真空管路，包括真空腔腔体(1)、设备连接管(2)、真空管路(3)、真空泵(4)、第一真空阀(5)、第二真空阀(6)、密封组件(7)、真空手阀(8)和氦检仪扩展接口(9)，其特征在于：所述真空腔腔体(1)底部中间连接有设备连接管(2)，所述真空腔腔体(1)底部一侧连接有真空管路(3)，所述真空管路(3)侧面连接有真空手阀(8)，所述真空手阀(8)一端设置有氦检仪扩展接口(9)，所述真空管路(3)底端连接有真空泵(4)。2.根据权利要求1所述的一种薄膜设备真空管路，其特征在于：所述设备连接管(2)表面底部靠近真空泵(4)一侧通过第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨晓锋，孙晓光，陈维国，徐金鹏，
申请(专利权)人：亦亨电子上海有限公司，
类型：新型
国别省市：