本实用新型专利技术公开了用于电弧离子镀的多层旋转架，包括受转轴驱动的转动底盘、第一搁置板和第二搁置板、环形连接件和多根支撑杆；第一、第二搁置板上按等距间隔地设有多个穿孔；环形连接件的外围设有多个等距间隔的外凸件；转动底盘的外围设有多个插接孔；支撑杆的下端插接在转动底盘的插接孔中，并依次穿过第一搁置板和第二搁置板上的穿孔，支撑杆的上端用螺钉与环形连接件的外凸件连接；支撑杆上纵向地分布有多个定位孔；定位销插接在不同定位孔中并顶住第二搁置板的底面，以调节第二搁置板处于不同的高度位置；将多层置放盘之间的多个支撑杆设置在外围，可避免影响模具在搁置板中心位置的合理摆放，且外围的支撑杆的拆卸较为方便。便。便。
【技术实现步骤摘要】
用于电弧离子镀的多层旋转架
[0001]本技术涉及一种表面处理工艺领域中的设备，尤其是涉及一种用于电弧离子镀的多层旋转架，该旋转架以放置待电弧离子镀工艺处理的模具。
技术介绍
[0002]电弧离子镀是采用电弧放电的方法，在固体的阴极靶材上直接蒸发金属，蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子，从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。
[0003]在电弧离子镀工艺中，需要用到旋转架，旋转架以放置工件，在旋转架旋转时，不同位置上的靶材蒸发雾能依次喷射到模具上。
[0004]公告号为CN215050649U的一种多弧离子镀膜设备中模具镀膜双层公转架，包括底层公转盘和顶层公转盘，底层公转盘顶部固定安装有第二轴套，顶层公转盘底部固定安装有第一轴套，第一轴套内开设有圆槽，第二轴套顶部固定安装有插入圆槽的固定轴，固定轴内开设有多个定位孔，可以根据需要调节双层公转架的高度，适用于不同高度的镀膜设备，便于装置的使用。
[0005]该双层公转架存在如下问题：顶层公转盘和底层公转盘之间的轴套位于中间位置，占据了较大的摆放空间，不能摆放较大体积的模具。
技术实现思路
[0006]鉴于现有技术中公转架的中间空间被轴套占用的问题，本技术提供一种新型结构的用于电弧离子镀的多层旋转架；将多层置放盘之间的多个支撑杆设置在外围，以避免影响置放盘的中心位置，并且支撑杆的拆卸方便，其数量是可调的，以便于让不同尺寸的模具进入置放盘内。
[0007]本技术的技术方案为：用于电弧离子镀的多层旋转架，包括受转轴驱动的转动底盘、第一搁置板和第二搁置板、环形连接件和多根支撑杆；
[0008]第一搁置板和第二搁置板的外围等距间隔地开设有多个穿孔；
[0009]所述环形连接件的外缘向外径向延伸出多个外凸件，多个外凸件环形等距间隔分布；
[0010]所述转动底盘的外围设有多个插接孔；
[0011]所述外凸件、第一搁置板的穿孔、第二搁置板的穿孔，以及转动底盘的插接孔上下对应；所述支撑杆的下端插接在转动底盘的插接孔中，并自下而上依次穿过第一搁置板和第二搁置板上的穿孔，所述支撑杆的上端用螺钉与所述环形连接件的外凸件连接；
[0012]所述支撑杆上纵向地分布有多个定位孔；
[0013]定位销插接在不同定位孔中并顶住所述第二搁置板的底面，以调节第二搁置板处于不同的高度位置；
[0014]相邻支撑杆之间形成足以供模具完整展露的敞开区。
[0015]本技术进一步的优选技术方案为：所述转动底盘和第一搁置板之间支承有多
个支撑柱；
[0016]所述支撑柱分布在相邻支撑杆之间。
[0017]本技术进一步的优选技术方案为：所述支撑杆的底部连接有插接柱，且所述支撑杆和所述插接柱通过紧固件固定连接；
[0018]所述插接柱置于所述转动底盘的穿孔内并通过紧固件固定连接。
[0019]本技术进一步的优选技术方案为：所述支撑杆的上端设有连接柱，所述连接柱与外凸件之间通过紧固件固定。
[0020]本技术进一步的优选技术方案为：所述第一搁置板上的相邻支撑杆之间形成足以供模具完整展露的第一敞开区；
[0021]所述第二搁置板上的相邻支撑杆之间形成足以供模具完整展露的第二敞开区。
[0022]另一主题：用于电弧离子镀的多层旋转架，包括受转轴驱动的转动底盘、第一搁置板和第二搁置板、环形连接件和多根支撑杆；
[0023]第一搁置板和第二搁置板上按等距间隔地设有多个穿孔；
[0024]所述环形连接件的外围设有多个等距间隔的外凸件；
[0025]所述转动底盘的外围设有多个插接孔；
[0026]所述支撑杆的下端插接在转动底盘的插接孔中，并自下而上依次穿过第一搁置板和第二搁置板上的穿孔，所述支撑杆的上端用螺钉与所述环形连接件的外凸件连接；
[0027]所述支撑杆上纵向地分布有多个定位孔；
[0028]定位销插接在不同定位孔中并顶住所述第二搁置板的底面，以调节第二搁置板处于不同的高度位置。
[0029]本技术进一步的优选技术方案为：所述环形连接件的外缘向外延伸一段距离以形成所述外凸件，所述外凸件的外端与第一、第二搁置板的外端上下对齐。
[0030]本技术进一步的优选技术方案为：所述第一、第二搁置板均为圆形搁置盘，所述第一、第二搁置板上分布有多个通孔。
[0031]本技术进一步的优选技术方案为：所述转动底盘和最低位置的第一搁置板之间间隔一段距离；
[0032]且所述转动底盘和第一搁置板之间支承有多个支撑柱，所述支撑柱分布在相邻支撑杆之间。
[0033]本技术进一步的优选技术方案为：所述外凸件、第一搁置板的穿孔、第二搁置板的穿孔，以及转动底盘的插接孔上下对应；
[0034]相邻支撑杆之间形成足以供模具完整展露的敞开区。
[0035]本技术进一步的优选技术方案为：所述支撑杆的底部连接有插接柱，且所述支撑杆和所述插接柱通过紧固件固定连接；
[0036]所述插接柱置于所述转动底盘的穿孔内并通过紧固件固定连接。
[0037]本技术进一步的优选技术方案为：通过拆下、装上所述支撑杆以扩大或缩小所述敞开区；
[0038]所述第一搁置板上的相邻支撑杆之间形成足以供模具完整展露的第一敞开区；
[0039]所述第二搁置板上的相邻支撑杆之间形成足以供模具完整展露的第二敞开区。
[0040]与现有技术相比，本技术的优点是：本技术中的多层旋转架包括纵向分
布的顶部环形连接件、第二搁置板、第一搁置板和底部受转轴驱动的转动底盘。第一、第二搁置板上可放置模具。多根支撑杆环形支撑在环形连接件和转动底盘之间，并穿过第一、第二搁置板。将多层置放盘之间的多个支撑杆设置在外围，可避免影响模具在搁置板中心位置的合理摆放，且外围的支撑杆的拆卸较为方便。
[0041]另外，支撑杆的数量可根据需要进行调节，以便于让不同尺寸的模具放入搁置板内。且相邻支撑杆之间形成足以供模具完整展露的敞开区，通过拆下、装上支撑杆以扩大或缩小敞开区。以便充分地对模具进行喷涂、镀膜。
[0042]优选地，第一搁置板上的相邻支撑杆之间形成供模具完整展露的第一敞开区；第二搁置板上的相邻支撑杆之间形成供模具展露的第二敞开区。进一步地，本实施例中的第二搁置板通过定位销可搁置在不同高度，以与所需摆放的模具高度相匹配。敞开区的宽幅、高度均以充分展露模具为目的，以便充分、均匀地对模具进行镀膜处理。
附图说明
[0043]以下将结合附图和优选实施例来对本技术进行进一步详细描述，但是本领域技术人员将领会的是，这些附图仅是出于解释优选实施例的目的而绘制的，并且因此不应当作为对本技术范围的限制。此外，除非特别指出，附图仅示意在概念性地表示所描述对象的组成或构造并可能包含夸张性显示，并且附图也并非一定按比例绘制。
[0044]图1本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.用于电弧离子镀的多层旋转架，其特征在于：包括受转轴驱动的转动底盘、第一搁置板和第二搁置板、环形连接件和多根支撑杆；第一搁置板和第二搁置板的外围等距间隔地开设有多个穿孔；所述环形连接件的外缘向外径向延伸出多个外凸件，多个外凸件环形等距间隔分布；所述转动底盘的外围设有多个插接孔；所述外凸件、第一搁置板的穿孔、第二搁置板的穿孔，以及转动底盘的插接孔上下对应；所述支撑杆的下端插接在转动底盘的插接孔中，并自下而上依次穿过第一搁置板和第二搁置板上的穿孔，所述支撑杆的上端用螺钉与所述环形连接件的外凸件连接；所述支撑杆上纵向地分布有多个定位孔；定位销插接在不同定位孔中并顶住所述第二搁置板的底面，以调节第二搁置板处于不同的高度位置；相邻支撑杆之间形成足以供模具完整展露的敞开区。2.根据权利要求1所述用于电弧离子镀的多层旋转架，其特征在于：所述转动底盘和第一搁置板之间支承有多个支撑柱；所述支撑柱分布在相邻支撑杆之间。3.根据权利要求1所述用于电弧离子镀的多层旋转架，其特征在于：所述支撑杆的底部连接有插接柱，且所述支撑杆和所述插接柱通过紧固件固定连接；所述插接柱置于所述转动底盘的穿孔内并通过紧固件固定连接。4.根据权利要求1所述用于电弧离子镀的多层旋转架，其特征在于：所述支撑杆的上端设有连接柱，所述连接柱与外凸件之间通过紧固件固定。5.根据权利要求1所述用于电弧离子镀的多层旋转架，其特征在于：所述第一搁置板上的相邻支撑杆之间形成足以供模具完整展露的第一敞开区；所述第二搁置板上的相邻支撑杆之间形成足以供模具完整展露的第二敞开区。6.用于电弧离子镀的多层旋转架，其特征在于：包括受转轴驱动的转动底盘、第一搁置板和第二搁置板、环形连接件和多根支撑杆；第一搁置板和第二搁置板上按等距间隔地设有多个穿孔；所...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱恩光，杨兵，蒋佳丽，朱杨俊，卢嘉日，潘崇恩，周林，
申请(专利权)人：宁波迈柯新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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