镁铝复合外观构件及其制备方法、电子设备技术

本发明专利技术公开一种镁铝复合外观构件及其制备方法、电子设备。其中，镁铝复合外观构件的制备方法包括如下步骤：提供构件粗坯；其中，构件粗坯包括层叠设置的镁合金层和铝合金层；对构件粗坯进行微弧氧化处理，以在构件粗坯的表面形成微弧氧化层；对构件粗坯进行遮蔽处理，以在微弧氧化层上附着遮蔽层；对覆盖在铝合金层表面上的微弧氧化层和遮蔽层进行移除处理，以使铝合金层的表面得以显露；对构件粗坯进行阳极氧化处理，以在铝合金层的表面形成阳极氧化层。本发明专利技术的技术方案能够解决目前以镁铝复合结构为基础的外观构件表面处理困难的问题。结构为基础的外观构件表面处理困难的问题。结构为基础的外观构件表面处理困难的问题。

【技术实现步骤摘要】
镁铝复合外观构件及其制备方法、电子设备


[0001]本专利技术涉及复合材料
，特别涉及一种镁铝复合外观构件及其制备方法、电子设备。

技术介绍

[0002]随着以5G通信、区块链、云计算等为代表的下一代互联网信息技术的发展，以手机、笔记本电脑、智能穿戴等为代表的消费电子产品将呈现体积更小、重量更轻、功能更强大的特点。尤其是AR、VR等智能穿戴产品，由于具有头部穿戴功能，还要求其便携性更强、体验感更佳，同时也要求外观更加时尚美观。
[0003]对于需要具备便携性的电子产品而言，小体积、轻重量尤为重要，特别是手持式的笔记本电脑、手机以及穿戴式的AR、VR。人体的手部、头部对产品重量敏感程度高，过重的产品易使用户产生不适，降低产品好感度，从而难以长期佩戴使用。故从整机构件轻量化的角度出发是改善用户体验的重要方向。其次，消费类电子产品对外观的质感、颜色、耐磨性、耐蚀性也都有着较高的要求。
[0004]铝合金和镁合金是发展较为成熟且常见的轻质金属。目前，因铝合金强度适中、加工性好、阳极氧化后外观漂亮、耐腐蚀性好、耐磨性好等特性而作为常用的消费类电子产品的外观构件，在手机、笔记本电脑、平板电脑等产品中得到了广泛应用。
[0005]然而，随着技术的不断发展，用户在对外观的要求丝毫不降低的同时，对轻量化的需求愈加强烈。镁合金的密度在1.35g/cm3～1.9g/cm3之间，比铝合金的密度(约2.7g/cm3)低40％以上，并且其强度适中，被看作是下一代电子产品的外观构件的优选材料，目前已在部分电子产品中得到应用。
[0006]然而，镁合金由于自身特点，一般采用微弧氧化工艺对其进行表面处理，由于其固有的氧化膜生长规律，无法如铝合金氧化膜那样共格生长。镁合金氧化膜疏松多孔、不透明，难以产生金属质感，表面质量粗糙，不美观。故一般采用喷漆涂装的方式对镁合金进行表面处理，但该方法呈现的是塑料质感，效果难以和铝合金阳极氧化的金属质感媲美，这也限制了镁合金在消费类电子产品上的应用。
[0007]为迎合用户需求，现阶段已经发展出了铝镁复合工艺，即在镁合金表面牢固覆着一层铝合金，镁铝复合结构兼具镁合金的轻量化和铝合金外观表面处理优势，是下一代轻量化外观件的优选材料。
[0008]然而，镁铝复合结构的铝合金层要求在酸性溶液中进行阳极氧化，镁合金层则要求在碱性溶液中进行微弧氧化，故存在着异种金属的电偶腐蚀，且铝合金和镁合金在酸、碱溶液中耐蚀性较差。
[0009]因此，如何在一种合金材料进行表面处理的同时保证另一种合金材料不被腐蚀是目前技术上的难点，亟需解决。

技术实现思路

[0010]本专利技术的主要目的是提供一种镁铝复合外观构件及其制备方法、电子设备，旨在解决目前以镁铝复合结构为基础的外观构件表面处理困难的问题。
[0011]为实现上述目的，本专利技术提出的镁铝复合外观构件的制备方法包括如下步骤：
[0012]提供构件粗坯；其中，所述构件粗坯包括层叠设置的镁合金层和铝合金层；
[0013]对所述构件粗坯进行微弧氧化处理，以在所述构件粗坯的表面形成微弧氧化层；
[0014]对所述构件粗坯进行遮蔽处理，以在所述微弧氧化层上附着遮蔽层；
[0015]对覆盖在所述铝合金层表面上的微弧氧化层和遮蔽层进行移除处理，以使所述铝合金层的表面得以显露；
[0016]对所述构件粗坯进行阳极氧化处理，以在所述铝合金层的表面形成阳极氧化层。
[0017]在本专利技术一实施例中，所述对所述构件粗坯进行微弧氧化处理，以在所述构件粗坯的表面形成微弧氧化层的步骤包括：
[0018]将所述构件粗坯置于1.5g/L～2.5g/L的NaOH电解槽中，并与正极相连；
[0019]控制电解液温度为20℃～22℃，电压为300V～500V，电流密度为0.1A/dm2～2.0A/dm2，氧化时间为10min～30min，以在所述构件粗坯的表面形成微弧氧化层。
[0020]在本专利技术一实施例中，所述对覆盖在所述铝合金层表面上的微弧氧化层和遮蔽层进行移除处理，以使所述铝合金层的表面得以显露的步骤包括：
[0021]通过数控机床，对所述铝合金层所在一侧进行减薄操作，以使所述铝合金层的表面得以显露。
[0022]在本专利技术一实施例中，所述减薄操作中，所述铝合金层的表层被移除。
[0023]在本专利技术一实施例中，所述遮蔽层的材质为聚酰亚胺、聚丙烯、聚氨脂、环氧树脂、乙烯树脂、酚醛树脂、以聚酰亚胺为成膜物质的油漆、以聚丙烯为成膜物质的油漆、以聚氨脂为成膜物质的油漆、以环氧树脂为成膜物质的油漆、以乙烯树脂为成膜物质的油漆或以酚醛树脂为成膜物质的油漆。
[0024]在本专利技术一实施例中，所述遮蔽处理包括喷涂工艺、涂覆工艺、浸泡工艺、电泳工艺中的至少一种。
[0025]在本专利技术一实施例中，所述铝合金层的材质为1系铝合金、5系铝合金、6系铝合金、7系铝合金中的一种。
[0026]在本专利技术一实施例中，所述微弧氧化层的厚度为5μm～500μm；
[0027]且/或，所述阳极氧化层的厚度为5μm～30μm。
[0028]为实现上述目的，本专利技术提出的镁铝复合外观构件由镁铝复合外观构件的制备方法制备得到，所述镁铝复合外观构件的制备方法包括如下步骤：
[0029]提供构件粗坯；其中，所述构件粗坯包括层叠设置的镁合金层和铝合金层；
[0030]对所述构件粗坯进行微弧氧化处理，以在所述构件粗坯的表面形成微弧氧化层；
[0031]对所述构件粗坯进行遮蔽处理，以在所述微弧氧化层上附着遮蔽层；
[0032]对覆盖在所述铝合金层表面上的微弧氧化层和遮蔽层进行移除处理，以使所述铝合金层的表面得以显露；
[0033]对所述构件粗坯进行阳极氧化处理，以在所述铝合金层的表面形成阳极氧化层。
[0034]为实现上述目的，本专利技术提出的电子设备包括镁铝复合外观构件，所述镁铝复合
外观构件由镁铝复合外观构件的制备方法制备得到，所述镁铝复合外观构件的制备方法包括如下步骤：
[0035]提供构件粗坯；其中，所述构件粗坯包括层叠设置的镁合金层和铝合金层；
[0036]对所述构件粗坯进行微弧氧化处理，以在所述构件粗坯的表面形成微弧氧化层；
[0037]对所述构件粗坯进行遮蔽处理，以在所述微弧氧化层上附着遮蔽层；
[0038]对覆盖在所述铝合金层表面上的微弧氧化层和遮蔽层进行移除处理，以使所述铝合金层的表面得以显露；
[0039]对所述构件粗坯进行阳极氧化处理，以在所述铝合金层的表面形成阳极氧化层。
[0040]在本专利技术一实施例中，所述电子设备包括壳体组件，所述壳体组件包括第一壳体和第二壳体，所述第一壳体和所述第二壳体接合构成容纳空间，所述容纳空间用于容纳电子元器件；
[0041]其中，所述第一壳体的第一层为镁合金层，所述第一壳体的第二层为铝合金层，所述铝合金层位于所述镁合金层的背离所述容纳空间本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镁铝复合外观构件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：提供构件粗坯；其中，所述构件粗坯包括层叠设置的镁合金层和铝合金层；对所述构件粗坯进行微弧氧化处理，以在所述构件粗坯的表面形成微弧氧化层；对所述构件粗坯进行遮蔽处理，以在所述微弧氧化层上附着遮蔽层；对覆盖在所述铝合金层表面上的微弧氧化层和遮蔽层进行移除处理，以使所述铝合金层的表面得以显露；对所述构件粗坯进行阳极氧化处理，以在所述铝合金层的表面形成阳极氧化层。2.如权利要求1所述的镁铝复合外观构件的制备方法，其特征在于，所述对所述构件粗坯进行微弧氧化处理，以在所述构件粗坯的表面形成微弧氧化层的步骤包括：将所述构件粗坯置于1.5g/L～2.5g/L的NaOH电解槽中，并与正极相连；控制电解液温度为20℃～22℃，电压为300V～500V，电流密度为0.1A/dm2～2.0A/dm2，氧化时间为10min～30min，以在所述构件粗坯的表面形成微弧氧化层。3.如权利要求1所述的镁铝复合外观构件的制备方法，其特征在于，所述对覆盖在所述铝合金层表面上的微弧氧化层和遮蔽层进行移除处理，以使所述铝合金层的表面得以显露的步骤包括：通过数控机床，对所述铝合金层所在一侧进行减薄操作，以使所述铝合金层的表面得以显露。4.如权利要求3所述的镁铝复合外观构件的制备方法，其特征在于，所述减薄操作中，所述铝合金层的表层被移除。5.如权利要求1所述的镁铝复合外观构件的制备方法，其特征在于，所述遮蔽层的材质为聚酰亚胺、聚丙烯、聚氨脂、环氧树脂、乙烯树脂、酚醛树脂、以聚酰亚胺为成膜物质的油漆、以聚丙烯为成膜物...

【专利技术属性】
技术研发人员：范亮，
申请(专利权)人：歌尔股份有限公司，
类型：发明
国别省市：