晶舟形变量监控装置及方法制造方法及图纸

技术编号:38720930 阅读:29 留言:0更新日期:2023-09-08 23:16
本发明专利技术提供了一种晶舟形变量监控装置及方法,属于半导体制造技术领域。晶舟形变量监控装置,包括:设置在晶舟外侧的支撑架;至少一个监测单元,每一所述监测单元包括:设置在所述晶舟侧面的接触杆,所述接触杆与所述晶舟的支柱垂直,所述接触杆的一端固定在所述支撑架上,所述接触杆的另一端设置有用于与所述晶舟的支柱接触的感应件,所述感应件与所述支柱接触的面为光滑的球面,在所述晶舟发生形变时,所述晶舟的支柱变形推动所述球面导致所述接触杆发生位移;检测结构,用于检测所述接触杆的位移量。本发明专利技术的技术方案能够对晶舟的形变进行监控,使操作人员能够及时获知晶舟发生的形变,防止造成晶圆损失,提高晶圆的产率。提高晶圆的产率。提高晶圆的产率。

【技术实现步骤摘要】
晶舟形变量监控装置及方法


[0001]本专利技术涉及半导体制造
,尤其涉及一种晶舟形变量监控装置及方法。

技术介绍

[0002]半导体制造工艺主要是进行多次的光刻工艺、刻蚀工艺和成膜工艺等,在晶圆上形成各种结构的半导体器件。很多半导体制作工艺都需要使用炉管设备。以热氧化法为例,首先将反应气体通入到高温炉管内,使得反应气体在炉管设备的反应腔室内发生化学反应,在晶圆的表面沉积一层薄膜;然后将晶圆从反应腔室取出,进行自然冷却,并在冷却后将晶圆传送回晶圆盒。
[0003]现有技术中,由于炉管机台的温度比较高,并且预防养护的周期较长,放置在炉管机台的腔室内的石英晶舟经过频繁的高低温转换容易发生变形,特别是晶舟的中心位置。由于晶舟变形,晶圆在晶舟上放置的区域变小,晶圆放置到变形的晶舟后,容易发生脱落,划伤,造成晶圆的报废,影响晶圆的产率。机械手臂在抓取晶圆时也有可能与晶舟发生碰撞,造成更大损失。

技术实现思路

[0004]为了解决上述技术问题,本专利技术提供一种晶舟形变量监控装置及方法,能够对晶舟的形变进行监控,使操作人员能够本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶舟形变量监控装置,其特征在于,包括:设置在晶舟外侧的支撑架;至少一个监测单元,每一所述监测单元包括:设置在所述晶舟侧面的接触杆,所述接触杆与所述晶舟的支柱垂直,所述接触杆的一端固定在所述支撑架上,所述接触杆的另一端设置有用于与所述晶舟的支柱接触的感应件,所述感应件与所述支柱接触的面为光滑的球面,在所述晶舟发生形变时,所述晶舟的支柱变形推动所述球面导致所述接触杆发生位移;检测结构,用于检测所述接触杆的位移量。2.根据权利要求1所述的晶舟形变量监控装置,其特征在于,所述检测结构包括:固定设置在所述接触杆上方和/或下方的光学传感器。3.根据权利要求1所述的晶舟形变量监控装置,其特征在于,所述接触杆上设置有刻度或所述接触杆的预设位置为透光的。4.根据权利要求1所述的晶舟形变量监控装置,其特征在于,所述晶舟形变量监控装置包括5个监测单元,沿所述支柱的延伸方向均匀分布在所述晶舟的侧面。5.根据权利要求1所述的晶舟形变量监控装置,其特征在于,还包括:报警单元,与所述监测单元连接,用于在所述接触杆的位移量超过预设阈值时进行报警。6.根据权利要求1所述的晶舟形变量监控装置,其特征在于,还包括:控制单元,用于控制所述检测结...

【专利技术属性】
技术研发人员:贺鑫李亮亮李坚毅
申请(专利权)人:西安奕斯伟硅片技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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