ITO膜的加工方法及电子设备技术

一种ＩＴＯ膜的加工方法，包括以下步骤：将附有ＩＴＯ膜的基底放置在加工台面上，所述ＩＴＯ膜朝向所述台面并在ＩＴＯ膜与所述台面之间设置间隙；从所述基底所在的一侧发射激光对所述ＩＴＯ膜进行加工。采用激光加工的方法，不需要使用化学药品，可以避免对环境造成污染，并且采用激光技术进行ＩＴＯ膜加工便可以实现快速制造的目的。此外，还提供了一种包含采用上述ＩＴＯ膜的加工方法制备的透明电极的电子设备。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种ＩＴＯ膜的加工方法，其特征在于，包括以下步骤：　将附有ＩＴＯ膜的基底放置在加工台面上，所述ＩＴＯ膜朝向所述台面并在ＩＴＯ膜与所述台面之间设置间隙；　从所述基底所在的一侧发射激光对所述ＩＴＯ膜进行加工。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：高云峰，翟学涛，高子丰，雷群，
申请(专利权)人：深圳市大族激光科技股份有限公司，深圳市大族数控科技有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]